JPS60256143A - ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/3046—Processing baths not provided for elsewhere, e.g. final or intermediate washings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法に
関し、さらに詳しくは公害負荷が少なく、−I −市1 漂白液又は漂白定着液中での色スティンが少なく、かつ
実質的に水洗処理工程を有さめハロゲン化銀カラー写真
感光材料の処理方法に関するものでおる。
関し、さらに詳しくは公害負荷が少なく、−I −市1 漂白液又は漂白定着液中での色スティンが少なく、かつ
実質的に水洗処理工程を有さめハロゲン化銀カラー写真
感光材料の処理方法に関するものでおる。
〔従来の技術」
一般にハロゲン化銀カラー写真感光材料は画像露光の後
、発色現像工程と脱銀工程とを基不工揚とする一連の写
真処理により色素画像を形成する。
、発色現像工程と脱銀工程とを基不工揚とする一連の写
真処理により色素画像を形成する。
上記の発色現像工程では5発色現像工程の酸化体が共存
するカラーカプラーとカンプリング反応することによっ
て画1111光に対応した色素画像を形成し、同時に還
元銅が生成される。ここに生成された鎖は、引続く脱銀
工8において漂白剤により酸化され、定着剤の作用を受
けて可溶性の銀錯体に変化し溶解除去され、水洗によっ
て清浄化される。実際の現像処理工程では、上記の発色
#l像及び脱銀を目的とする基本的な工程のほかに停止
浴、黒白現像浴、カブリ浴、硬膜浴、安定浴、補力浴、
バッキング除去浴等の補助的な処理浴を設けている。
するカラーカプラーとカンプリング反応することによっ
て画1111光に対応した色素画像を形成し、同時に還
元銅が生成される。ここに生成された鎖は、引続く脱銀
工8において漂白剤により酸化され、定着剤の作用を受
けて可溶性の銀錯体に変化し溶解除去され、水洗によっ
て清浄化される。実際の現像処理工程では、上記の発色
#l像及び脱銀を目的とする基本的な工程のほかに停止
浴、黒白現像浴、カブリ浴、硬膜浴、安定浴、補力浴、
バッキング除去浴等の補助的な処理浴を設けている。
2−
一方、近年は処理の迅速化、簡易化、自動現像機のコン
パクト化等のために1発色現像に直結して漂白又は漂白
定着処理する傾向にある。しかるに1発色現像の後、直
結して漂白又は漂白定着処理すると1発色現像主薬に起
因する色スティンが漂白液又は漂白定着液中で生じる欠
点を有している。
パクト化等のために1発色現像に直結して漂白又は漂白
定着処理する傾向にある。しかるに1発色現像の後、直
結して漂白又は漂白定着処理すると1発色現像主薬に起
因する色スティンが漂白液又は漂白定着液中で生じる欠
点を有している。
このため、特開昭50−136031号、同51−10
2640号及び特公昭54−12222号各公報特開載
されているが如きアミン系化合物やメルカプト系化合物
を漂白液又は漂白定着液に添加することにより、色ステ
ィンを改良することが知られているが、近年の高温迅速
処理等の高活性な処理に対しては、その効果は未だ充分
なものとはいえないのが実情である。特に漂白剤として
。
2640号及び特公昭54−12222号各公報特開載
されているが如きアミン系化合物やメルカプト系化合物
を漂白液又は漂白定着液に添加することにより、色ステ
ィンを改良することが知られているが、近年の高温迅速
処理等の高活性な処理に対しては、その効果は未だ充分
なものとはいえないのが実情である。特に漂白剤として
。
公害湛びに経済的理由から近年一般的によく用いられて
きている有機酸鉄(Im)錯体な用いた高温処理の場合
には、その色スティンの発生は、よシ著しいため、大き
な問題となりつつある。
きている有機酸鉄(Im)錯体な用いた高温処理の場合
には、その色スティンの発生は、よシ著しいため、大き
な問題となりつつある。
また、近年水資源の不足、下水道料金および光熱費の高
騰等の経済的理由、並びに公害的理由から、水洗水量を
減少し、かつ公害対策をとった処理工程が望まれている
。
騰等の経済的理由、並びに公害的理由から、水洗水量を
減少し、かつ公害対策をとった処理工程が望まれている
。
従来、これらの対策としては1例えば水洗槽を多段構成
にして水を向流させる方法が西8%ll’f第2、92
0.222号およびニス−アール・ゴールドバッサ−(
S、R,Goldwasser ) 、 [ウメータ0
フロー9レイト・イン中イマージ曹ンウォッシングオプ
・モーシ買ンピクチャー・フィルム(WaterFlo
w Rate In Immersion −Wash
ing ofMotjonplcture Film
) J SMPTE、 !10f、 64 +248〜
253頁、May、(1955)等圧記載されている。
にして水を向流させる方法が西8%ll’f第2、92
0.222号およびニス−アール・ゴールドバッサ−(
S、R,Goldwasser ) 、 [ウメータ0
フロー9レイト・イン中イマージ曹ンウォッシングオプ
・モーシ買ンピクチャー・フィルム(WaterFlo
w Rate In Immersion −Wash
ing ofMotjonplcture Film
) J SMPTE、 !10f、 64 +248〜
253頁、May、(1955)等圧記載されている。
また定着能を有する処理浴のすぐ後に予備水洗を設け、
ハロゲン化銀写真感光材料に含有したり、付着して水洗
工程中に入る公害成分を減少させ。
ハロゲン化銀写真感光材料に含有したり、付着して水洗
工程中に入る公害成分を減少させ。
かつ水洗水量を減少させる処理方法が知られている。
しかしながら、これらの技術は全く水洗水を使わないと
いう処理方法ではない。しかるに近年の水資源の涸渇、
原油の値上げKよる水洗のための 3− 経費アップなどが、益々深刻な問題になりつつある。そ
こで、m白熊を有する処理液(漂白液、漂白定着液など
)での色スティンの発生が防止され。
いう処理方法ではない。しかるに近年の水資源の涸渇、
原油の値上げKよる水洗のための 3− 経費アップなどが、益々深刻な問題になりつつある。そ
こで、m白熊を有する処理液(漂白液、漂白定着液など
)での色スティンの発生が防止され。
かつ水洗水を実質的it使わない処理方法の出現が待ち
望まれている。
望まれている。
本発明は上記に鑑みて成されたもので、第一に。
漂白能を有する処理液での色スティンの発生を抑制でき
、かつ水洗水を実質的に使わないハロゲン化銀カラー写
真感光材料の処理方法を提供することにあpl第二に、
*白能を有する処理液の成分が希薄にもかかわらず漂白
能が良好なノ・ロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方
法を提供することに6す、第三に、安定化処理に用いら
れる水洗代替安定液の槽数が少なくコンパクトな自動現
像機を可能にするハロゲン化銀カラー写真感光材料の処
理方法を提供することにあり、第四に、エネルギーコス
トが低く、水洗水を実質的に使わ々いハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料の処理方法を提供するとと忙あり、第五
に、公害負荷量の少ないハ= 4− ロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法を提供するこ
とを技術的課題とする。
、かつ水洗水を実質的に使わないハロゲン化銀カラー写
真感光材料の処理方法を提供することにあpl第二に、
*白能を有する処理液の成分が希薄にもかかわらず漂白
能が良好なノ・ロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方
法を提供することに6す、第三に、安定化処理に用いら
れる水洗代替安定液の槽数が少なくコンパクトな自動現
像機を可能にするハロゲン化銀カラー写真感光材料の処
理方法を提供することにあり、第四に、エネルギーコス
トが低く、水洗水を実質的に使わ々いハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料の処理方法を提供するとと忙あり、第五
に、公害負荷量の少ないハ= 4− ロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法を提供するこ
とを技術的課題とする。
上記技術的課題を解決する本発明のハロゲン化銀カラー
写真感光材料の処理方法は、ハロゲン化銀カラー写真感
光材料を漂白能を有する処理液で処理する工程と、実質
的に水洗工程を経ることなく安定化処理する工程を有す
る地理方法において。
写真感光材料の処理方法は、ハロゲン化銀カラー写真感
光材料を漂白能を有する処理液で処理する工程と、実質
的に水洗工程を経ることなく安定化処理する工程を有す
る地理方法において。
該漂白能を有する処理液が有機酸鉄(11錯体の少なく
とも一穐を0.03〜(1,I Oモル/ρ含有するこ
とを特徴とする。
とも一穐を0.03〜(1,I Oモル/ρ含有するこ
とを特徴とする。
本発明の好ましい実施態様としては、安定化処理に用い
られる水洗代替安定液が、鉄イオンに対するキレート安
定度定数が6以上であるキレート剤を含有することが挙
げられる。
られる水洗代替安定液が、鉄イオンに対するキレート安
定度定数が6以上であるキレート剤を含有することが挙
げられる。
本発明者らは鋭意研究した結果、漂白能を有する処理液
の色スティンはエチレンジアミン四酢酸鉄@)錯体の如
き有機酸鉄@)錯体の創りつまり漂白能を有する処理液
の銀漂白能力に大きく依存しており、漂白剤である有機
酸鉄@)錯体なある濃度以下にすれば、漂白能を有する
処理液の色スティンが極めて有効に防止できることを見
い出し、さらをて前記有機酵鉄個)錯体がある濃度以下
の漂白能を有する処理液に直結して水洗代替安定化処理
を行うと、罵<べきことに銀漂白能力の劣化もなく。
の色スティンはエチレンジアミン四酢酸鉄@)錯体の如
き有機酸鉄@)錯体の創りつまり漂白能を有する処理液
の銀漂白能力に大きく依存しており、漂白剤である有機
酸鉄@)錯体なある濃度以下にすれば、漂白能を有する
処理液の色スティンが極めて有効に防止できることを見
い出し、さらをて前記有機酵鉄個)錯体がある濃度以下
の漂白能を有する処理液に直結して水洗代替安定化処理
を行うと、罵<べきことに銀漂白能力の劣化もなく。
かっ色スティンの発生もないことを見い出し、不発明を
成すに至ったものである。
成すに至ったものである。
本発明においてハロゲン化銀カラー写真感光材料を漂白
能を有する処理液で処理するとは、l浴泳白足着処理又
は漂白処理のいずれでもよいことを意味する。漂白処理
のみの場合は、次工程の水洗代替安定化処理との間に定
着処理が行われる。
能を有する処理液で処理するとは、l浴泳白足着処理又
は漂白処理のいずれでもよいことを意味する。漂白処理
のみの場合は、次工程の水洗代替安定化処理との間に定
着処理が行われる。
なお1本発明における標白熊を有する処理液は、特殊の
場合、l浴発色現像漂白定着液等であってもよい。
場合、l浴発色現像漂白定着液等であってもよい。
以下漂白能を有する処理液で処理する手段は、l浴漂白
定着処理の場合について主に説明する。
定着処理の場合について主に説明する。
本発明において漂白定着液に含有される有機酸鉄(至)
)錯体は、現像によって生成した金Jtg銀を酸化して
ハロゲン化銀にかえる作用を有するもので、その構造は
、アξノボリ力ルポン酸、アミノポリホスホン酸、オキ
シカルボン酸等の有機酸が鉄(1)イオンをキレートし
たものである。
)錯体は、現像によって生成した金Jtg銀を酸化して
ハロゲン化銀にかえる作用を有するもので、その構造は
、アξノボリ力ルポン酸、アミノポリホスホン酸、オキ
シカルボン酸等の有機酸が鉄(1)イオンをキレートし
たものである。
このような有機酸鉄@)錯体を形成するために用いられ
る有機酸としては、下記一般式[IJ又はIJで示され
る有機′rIR等が挙げられる。
る有機酸としては、下記一般式[IJ又はIJで示され
る有機′rIR等が挙げられる。
一般式(IJ
X、−A、−Z、−A2−X2
一般式圓
式中、A4 r A2 r A3 r A4 r As
およびA6けそれぞれ置換もしくは非置換の炭化水素基
、ZIおよびZ2はそれぞれ置換もしくは非置換の炭化
水素基。
およびA6けそれぞれ置換もしくは非置換の炭化水素基
、ZIおよびZ2はそれぞれ置換もしくは非置換の炭化
水素基。
エーテル基を含む炭化水素基又は+ 0112楡N+0
Hzh7 を表わす。ただし、nl及びnlはそれぞれ1〜3の整
数を示しtA7は+OH□すiX7を示す。n3はθ〜
3の整数でおり+X7は水素原子、カルボン酸基、水酸
基又はホスホン酸基を表わす。またXl、X2゜XB
+ X4 r XBおよびXBはそれぞれカルボン酸基
。
Hzh7 を表わす。ただし、nl及びnlはそれぞれ1〜3の整
数を示しtA7は+OH□すiX7を示す。n3はθ〜
3の整数でおり+X7は水素原子、カルボン酸基、水酸
基又はホスホン酸基を表わす。またXl、X2゜XB
+ X4 r XBおよびXBはそれぞれカルボン酸基
。
水酸基およびホスホン酸基を表わす。
これらの有機酸は、アルカリ金縞塩、アンモニウム塩も
しくは水浴性アミン塩であってもよい。
しくは水浴性アミン塩であってもよい。
次に前記一般式〔1」又は(1)で示される有機酸の代
表的具体例を挙げるが、これらに限定されない。
表的具体例を挙げるが、これらに限定されない。
〔l〕 エチレンジアミンテトラ酢酸
(2) ジエチレントリアミンペンタ酢酸(3) エチ
レンジアミン−N−(β−ヒドロキシエチル) −N
、 N’、 N’−トリ酢酸(4)1.2−プロピレン
ジアミンテトラ酢酸〔5〕 ニトリロトリ酢酸 (6) シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸〔7〕 イ
ミノジ酢酸 〔8〕 ジヒドロキシエチルグリシン (9) ヒドロキシエチルイミノジ酢酸(10) グリ
コールエーテルジアミンテトラ酢酸(U) エチレンジ
アミンテトラプロピオン酸−9−^^^ (12) フェニレンジアミンテトラ酢酸〔13〕 メ
チルイミノジ酢酸 り、14〕 プロピルイミノジ酢酸 〔15〕 クエン酸 (16〕 シェラ酸 〔17〕 酒石酸 〔18〕 コハク酸 〔19〕 クエン酸ナトリウム (2+1) エチレンジアミンテトラメチレンポスホン
酸 〔21〕 アミノトリ(メチレンホスホン酸)(22)
ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸 これら前記一般式LIJ又は(1)で示される有機酸の
うち1本発明において特に好1しく用いられるものは、
アミノポリカルボン酸類でおる。とりわけ好ましく用い
られる前記アミノポリカルボン酸類の具体例としては前
記例示化合物(1)、(2L(3)、(4J、(5)、
(6)、(7)、E9J、(10)、(133゜(14
)及びこれらの塩(ナトリウム塩、アンモニーl〇− ラム塩、トリメチルアンモニウム塩等)が挙げられ、特
に本発明においては〔2〕が好壕しく用いらJLる。
レンジアミン−N−(β−ヒドロキシエチル) −N
、 N’、 N’−トリ酢酸(4)1.2−プロピレン
ジアミンテトラ酢酸〔5〕 ニトリロトリ酢酸 (6) シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸〔7〕 イ
ミノジ酢酸 〔8〕 ジヒドロキシエチルグリシン (9) ヒドロキシエチルイミノジ酢酸(10) グリ
コールエーテルジアミンテトラ酢酸(U) エチレンジ
アミンテトラプロピオン酸−9−^^^ (12) フェニレンジアミンテトラ酢酸〔13〕 メ
チルイミノジ酢酸 り、14〕 プロピルイミノジ酢酸 〔15〕 クエン酸 (16〕 シェラ酸 〔17〕 酒石酸 〔18〕 コハク酸 〔19〕 クエン酸ナトリウム (2+1) エチレンジアミンテトラメチレンポスホン
酸 〔21〕 アミノトリ(メチレンホスホン酸)(22)
ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸 これら前記一般式LIJ又は(1)で示される有機酸の
うち1本発明において特に好1しく用いられるものは、
アミノポリカルボン酸類でおる。とりわけ好ましく用い
られる前記アミノポリカルボン酸類の具体例としては前
記例示化合物(1)、(2L(3)、(4J、(5)、
(6)、(7)、E9J、(10)、(133゜(14
)及びこれらの塩(ナトリウム塩、アンモニーl〇− ラム塩、トリメチルアンモニウム塩等)が挙げられ、特
に本発明においては〔2〕が好壕しく用いらJLる。
本発明の漂白定着液(でおいては、前記有機酸鉄(m)
錯体を2m以上組合せ使用するのは任意である。
錯体を2m以上組合せ使用するのは任意である。
これら本発明の有機酸鉄@)錯体は1本発明の漂白定7
# 液中に0.03モル/eより少ない計では漂白能力
が十分でなく、さらに0.10モルフ犯を越えると1色
スティンが著しいために1本発明では0.03〜F1.
10モル/Vの範囲で添加して用いられる。なお本発明
における漂白定着液には、有機酸鉄(ll錯体以外の姻
白剤が併用されてもよい。
# 液中に0.03モル/eより少ない計では漂白能力
が十分でなく、さらに0.10モルフ犯を越えると1色
スティンが著しいために1本発明では0.03〜F1.
10モル/Vの範囲で添加して用いられる。なお本発明
における漂白定着液には、有機酸鉄(ll錯体以外の姻
白剤が併用されてもよい。
本発明の面白定着液には、搾々の添加剤を含むことがで
きる。この添加剤としては、アルカリハライドまたはア
ンモニウムハライド(例えば臭化カリウム、臭化ナトリ
ウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等)、硼酸塩
、蓚酸塩、酢酸塩。
きる。この添加剤としては、アルカリハライドまたはア
ンモニウムハライド(例えば臭化カリウム、臭化ナトリ
ウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等)、硼酸塩
、蓚酸塩、酢酸塩。
炭酸塩、燐#1塩等の田緩衝剤、定着剤即ち・・ロゲン
化銀と反応して水溶性の錯塩を形成する化合物(例えば
チオ硫酸カリウム、チオ硫酸ナトリウム。
化銀と反応して水溶性の錯塩を形成する化合物(例えば
チオ硫酸カリウム、チオ硫酸ナトリウム。
チオ硫酸アンモニウムの如きチオ硫酸塩、チオシアン酸
カリウム、チオンアン散ナトリウム、チオシアン酸アン
モニウムの如きチオシアン酸塩、あるいはチオ尿素、チ
オエーテル等)、保恒剤(例えば亜硫酸アンモニウム、
亜硫酸カリウム、1亜4A酸アンモニウム、重亜硫酸カ
リウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウ
ム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸すi・リウム
等)を含むことができる。
カリウム、チオンアン散ナトリウム、チオシアン酸アン
モニウムの如きチオシアン酸塩、あるいはチオ尿素、チ
オエーテル等)、保恒剤(例えば亜硫酸アンモニウム、
亜硫酸カリウム、1亜4A酸アンモニウム、重亜硫酸カ
リウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウ
ム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸すi・リウム
等)を含むことができる。
本発明に用いられる漂白定着液には、特開昭46−28
0号、特公昭45−8506号、同46−556号、ベ
ルギー特許770,910号、特公昭45−8836号
、同53−9854号、l特開昭54−71634号及
び同49−42349号等に記載されている種々の漂白
促進剤を添加することができるが1本発明においては漂
白性能及び色スティン及び銀回収効率の向上の点から下
記一般式〔」で示される漂白促進剤を用いることが特に
好ましい。
0号、特公昭45−8506号、同46−556号、ベ
ルギー特許770,910号、特公昭45−8836号
、同53−9854号、l特開昭54−71634号及
び同49−42349号等に記載されている種々の漂白
促進剤を添加することができるが1本発明においては漂
白性能及び色スティン及び銀回収効率の向上の点から下
記一般式〔」で示される漂白促進剤を用いることが特に
好ましい。
一般式Q[,1
式中、Q#i窒素原子を1個以上含むヘテロQ(5〜6
員の不飽和環が少なくとも一つ、これに縮合(7ている
ものも含む)を形成するのに必侠なまたはアルキル基を
表わし、アルキル基としてはIH鎖または分岐の炭素数
1〜4のアルキル基が好オしい。ただり、Q’iま前記
Qと同義である。
員の不飽和環が少なくとも一つ、これに縮合(7ている
ものも含む)を形成するのに必侠なまたはアルキル基を
表わし、アルキル基としてはIH鎖または分岐の炭素数
1〜4のアルキル基が好オしい。ただり、Q’iま前記
Qと同義である。
次に前g己一般式[111Jで示される漂白促進剤の代
表的具体例を与げるが、これらに限定されない。
表的具体例を与げるが、これらに限定されない。
LID−1]
(It’−4)
H
(If−5J
I
NH□5H
CII+−6J
(+g−73
(m−s )
0□H。
〔厘−+o)
I]
これらの漂白促進剤は単独で用いてもよいし、2種以上
を併用してもよく、漂白定着液への添加量としては処理
液l(l当りO,L11〜50gで使用され、%K O
,1〜30gが好ましく用いられ、最も好ましくは0.
1−159の範囲である。
を併用してもよく、漂白定着液への添加量としては処理
液l(l当りO,L11〜50gで使用され、%K O
,1〜30gが好ましく用いられ、最も好ましくは0.
1−159の範囲である。
なお1本発明に用いられる漂白能を有する処理液が漂白
液である場合、前記だ着剤は次工程である定着液中に含
有され、該定着液による処理の後。
液である場合、前記だ着剤は次工程である定着液中に含
有され、該定着液による処理の後。
本発明の水洗代替安定化処理が行わわる。筐た。
該漂白液の場合も、有機酸鉄fill)錯体以外の頷白
剤が併用されてもよい。
剤が併用されてもよい。
本発明の安定化処理に用いられる水洗代替安定液は緩衝
液であればよいが、鉄イオンに対するキレート安定度定
数が6以上であるキレート剤を含有する処理液であるこ
とが好ましい。
液であればよいが、鉄イオンに対するキレート安定度定
数が6以上であるキレート剤を含有する処理液であるこ
とが好ましい。
本発明において「キレート安定度走数」とは。
金属イオンとキレートによって形成される錯体の溶液中
における安定度を示すもので、錯体の解離定数の逆数と
して定義される定数を意味[7゜L、G、 5ille
n A、E、 Martell著、5tability
Constants of Metal −川on O
omplexea ” 、 ’ll’heOhemlc
al 5ociety r London (1964
) 。
における安定度を示すもので、錯体の解離定数の逆数と
して定義される定数を意味[7゜L、G、 5ille
n A、E、 Martell著、5tability
Constants of Metal −川on O
omplexea ” 、 ’ll’heOhemlc
al 5ociety r London (1964
) 。
S、0haberek A、E、 Martel I著
+ ” OrganicSequestering A
gents ” Wlley (1959)等により一
般に知られている。
+ ” OrganicSequestering A
gents ” Wlley (1959)等により一
般に知られている。
本発明の鉄イオンとのキレート安定度定数が6以上であ
るキレート剤としては、有機カルボン酸キレート剤、有
機リン酸キレート剤、無機リン酸キレート剤、ポリヒド
ロキシ化合物環があり、これらキレート剤の具体的化合
物例としては、エチレンジアミンジオルトヒドロキシフ
ェニル酢酸、ニトリロトリ酢酸、ヒドロキシエチレンジ
アミントリ酢酸、ジエチレントリアミ/ペンタ酢酸、ヒ
ドロキシエチルイミノジ酢酸、ジアミノグロバノールテ
トラ酢酸、トランスシクロヘキサンジアミンテトラ酢酸
、エチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、ニ
トリロトリメチレンホスホン酸。
るキレート剤としては、有機カルボン酸キレート剤、有
機リン酸キレート剤、無機リン酸キレート剤、ポリヒド
ロキシ化合物環があり、これらキレート剤の具体的化合
物例としては、エチレンジアミンジオルトヒドロキシフ
ェニル酢酸、ニトリロトリ酢酸、ヒドロキシエチレンジ
アミントリ酢酸、ジエチレントリアミ/ペンタ酢酸、ヒ
ドロキシエチルイミノジ酢酸、ジアミノグロバノールテ
トラ酢酸、トランスシクロヘキサンジアミンテトラ酢酸
、エチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、ニ
トリロトリメチレンホスホン酸。
l−ヒドロキシエチリデン−1,1’−ジホスホン酸、
1.1′−ジホスホンエタン−2−カルボン酸、2−ホ
スホノブタン−1,2,4−)リカルボン酸、1−ヒド
ロキシ−1−ホスホノプロパン−1,2,3−)リカル
ボン酸、カテコール−3,5−ジスルホン酸。
1.1′−ジホスホンエタン−2−カルボン酸、2−ホ
スホノブタン−1,2,4−)リカルボン酸、1−ヒド
ロキシ−1−ホスホノプロパン−1,2,3−)リカル
ボン酸、カテコール−3,5−ジスルホン酸。
ピロリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナトリウム、
ヘキサメタリン酸ナトリウムがある。本発明効果の点か
ら1本発明においてけジエチレント17− リアミンペンタ酢酸、l−ヒドロキシエチリデン−1,
1’−ジホスホン酸やこれらの塩が特に好ましく用いら
れる。
ヘキサメタリン酸ナトリウムがある。本発明効果の点か
ら1本発明においてけジエチレント17− リアミンペンタ酢酸、l−ヒドロキシエチリデン−1,
1’−ジホスホン酸やこれらの塩が特に好ましく用いら
れる。
更に、本発明の水洗代替安定液に添加するのに望ましい
化合物としては、酢酸、硫酸、塩酸、硝酸、スルファニ
ル酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化アン
モニウム等のpHPA整剤、安息香酸ソーダ、ヒドロキ
シ安息香酸ブチル、抗生物質、デヒドロ酢酸、ソルビン
酸カリウム、サイアペンタソール、オルト−フェニルフ
ェノール。
化合物としては、酢酸、硫酸、塩酸、硝酸、スルファニ
ル酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化アン
モニウム等のpHPA整剤、安息香酸ソーダ、ヒドロキ
シ安息香酸ブチル、抗生物質、デヒドロ酢酸、ソルビン
酸カリウム、サイアペンタソール、オルト−フェニルフ
ェノール。
5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オ
ン、2−オクチル−4−インチアゾリン−3−オン、1
−2−ペンツイソチアゾリン−3−オン等の防黴剤、水
溶性金属塩等の添加剤、エチレングリコール、ポリエチ
レングリコール、ポリビニルピロリドン等の分散剤、ホ
ルマリン等の硬膜剤、螢光増白剤等が挙げられる。
ン、2−オクチル−4−インチアゾリン−3−オン、1
−2−ペンツイソチアゾリン−3−オン等の防黴剤、水
溶性金属塩等の添加剤、エチレングリコール、ポリエチ
レングリコール、ポリビニルピロリドン等の分散剤、ホ
ルマリン等の硬膜剤、螢光増白剤等が挙げられる。
これらの化合物の中で本発明において有効なものは特願
昭58−58693号明細釘分明記載されるアンモニア
化合物である。
昭58−58693号明細釘分明記載されるアンモニア
化合物である。
18−
本発明に係る水洗代替安定液のplI値は0.1〜lO
に調整するのが、しく、好ましくはpH2〜9゜より好
咳しくけpH6〜8.5が好適な範囲である。
に調整するのが、しく、好ましくはpH2〜9゜より好
咳しくけpH6〜8.5が好適な範囲である。
安定化処理に際しての処理温度は、15℃〜60℃、好
ましくは20℃〜45℃の範囲がよい。
ましくは20℃〜45℃の範囲がよい。
また処理時間も迅速処理の観点から短時間であるほど好
ましいが1通常20秒〜10分間、最も好ましくは1分
〜5分間であり、複数槽安定化処理の場合は前段槽はど
短時間で処理し、後段槽はど処理時間が長いことが好ま
しい。特に前槽の20九〜50%増しの処理時間で順次
処理することが望ましい。また、安定化処理工程は多段
槽とし。
ましいが1通常20秒〜10分間、最も好ましくは1分
〜5分間であり、複数槽安定化処理の場合は前段槽はど
短時間で処理し、後段槽はど処理時間が長いことが好ま
しい。特に前槽の20九〜50%増しの処理時間で順次
処理することが望ましい。また、安定化処理工程は多段
槽とし。
補充液は最後段槽から補充し、順次前段槽にオーバーフ
ローする逆流方式にすることが好ましい。
ローする逆流方式にすることが好ましい。
本発明による安定化処理の後には水洗処理を全く必要と
しないが、極く短時間内での少量水洗によるリンス、界
面洗浄などけ必要1て応じて任意に行つこLけできる。
しないが、極く短時間内での少量水洗によるリンス、界
面洗浄などけ必要1て応じて任意に行つこLけできる。
本発明において、漂白定着液で処理した後、実質的に水
洗工程を経ることなく安定化処理するとは、漂白定着浴
と安定化処理の間に銀回収のための短時間の銀回収浴、
リンス等を設けてもよいということを意味する。また安
定化処理の後、界面活性剤を含有する水切り浴等も設け
てもよいということも意味しているが、好ましくは、銀
回収浴、リンスおよび水切り浴等は設りない方が自動現
像機のコンパクト化の点から望ましい。
洗工程を経ることなく安定化処理するとは、漂白定着浴
と安定化処理の間に銀回収のための短時間の銀回収浴、
リンス等を設けてもよいということを意味する。また安
定化処理の後、界面活性剤を含有する水切り浴等も設け
てもよいということも意味しているが、好ましくは、銀
回収浴、リンスおよび水切り浴等は設りない方が自動現
像機のコンパクト化の点から望ましい。
本発明の安定液を感光材料と接触させる方法は。
一般の処理液と同様に散中に感光拐料を浸漬するのがよ
いが、スポンジ、合成繊維布等により感光材料の乳剤面
及び搬送リーダーの両面、搬送ベルトに塗り付けてもよ
く、又スプレー等により吹き付けてもよい。
いが、スポンジ、合成繊維布等により感光材料の乳剤面
及び搬送リーダーの両面、搬送ベルトに塗り付けてもよ
く、又スプレー等により吹き付けてもよい。
本発明の漂白定着工程の萌には発色現像処理が行われ、
該発色現像処理に用いられる発色現像液において、本発
明の効果の点から好ましく用いられる発色現像主薬は、
少なくとも一つの水溶性基を有するアミン基を有したp
−フェニレンジアミン系発色現像主薬でおり、特に好゛
まし、くけ下記一般式(ト)で示される化合物である。
該発色現像処理に用いられる発色現像液において、本発
明の効果の点から好ましく用いられる発色現像主薬は、
少なくとも一つの水溶性基を有するアミン基を有したp
−フェニレンジアミン系発色現像主薬でおり、特に好゛
まし、くけ下記一般式(ト)で示される化合物である。
一般式制
H2
式中、R2は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基
を表わし、このアルキル基は直鎖または分岐の訳素a1
〜5のアルキル基を表わし、置換基を有していてもよい
。几、及び几、は水素原子またはアルキル基またはアリ
ール基を表わすが、これらの基は置換基を有していても
よく、アルキル基の場合アリール基が置換したアルキル
基が好ましい。そして几、及びlt4の少なくとも一つ
は水酸基。
を表わし、このアルキル基は直鎖または分岐の訳素a1
〜5のアルキル基を表わし、置換基を有していてもよい
。几、及び几、は水素原子またはアルキル基またはアリ
ール基を表わすが、これらの基は置換基を有していても
よく、アルキル基の場合アリール基が置換したアルキル
基が好ましい。そして几、及びlt4の少なくとも一つ
は水酸基。
カルボン酸基、スルホン酸基、アミノ基、スルホンアミ
ド基等の水溶性基が置換したアルキル基またげ七OH2
世、 O% R5である。このアルキル基は更に置換基
を有していてもよい。
ド基等の水溶性基が置換したアルキル基またげ七OH2
世、 O% R5である。このアルキル基は更に置換基
を有していてもよい。
なお、It5け水素原子またはアルキル基を表わし、ア
ルキル基としては直鎖まだは分岐の炭素数1〜5のアル
キル基を表わし、ml及びm2はそれぞれ1〜5のJI
数を表わす。
ルキル基としては直鎖まだは分岐の炭素数1〜5のアル
キル基を表わし、ml及びm2はそれぞれ1〜5のJI
数を表わす。
次に前記一般式■で示される化合物の代表的λ体側を挙
げるが、これらに限定されるものではない。
げるが、これらに限定されるものではない。
H2
H2
H2
(■−5)
02H,−N−0□H40CH3
H2
LN−5)
0□H,−N−03H6So3H
H2
H2
11111]2
i12
H2
H2
(■−14)
H2
H2
これら一般式おで示されるp−フェニレンジアミン誘導
体は有機酸及び無機酸の塩として用いることができ、例
えば塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩、p−トルエンスルホン酸
塩、亜硫酸塩、ン瓢つ酸塩、ベンゼンジスルホン酸塩等
を用いることができる。
体は有機酸及び無機酸の塩として用いることができ、例
えば塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩、p−トルエンスルホン酸
塩、亜硫酸塩、ン瓢つ酸塩、ベンゼンジスルホン酸塩等
を用いることができる。
本発明においては、これら前記一般式(ト)で示される
p−フェニレンジアミン誘導体の中でも112及−25
−、。
p−フェニレンジアミン誘導体の中でも112及−25
−、。
び/またー′i几4が÷−f 01−1 z幅0男1几
5 (ml 1m2及び几、は前記と同義−で示される
ものである際に、とりわけ本発明の効果を良好に奏する
。
5 (ml 1m2及び几、は前記と同義−で示される
ものである際に、とりわけ本発明の効果を良好に奏する
。
これらの発色現像主薬は一般に現像液1fiKついて約
0.1&〜約30!1の濃度、更に好ましくは現像液l
ρについて約1.9〜約15gの濃度で使用する。
0.1&〜約30!1の濃度、更に好ましくは現像液l
ρについて約1.9〜約15gの濃度で使用する。
筐た、上記発色現像主薬は単独であるいけ二種以上併用
して用いてもよい。さらKまた。上記発色現像主薬はカ
ラー感光材料中に内蔵させてもよい。例えば米国特許3
,719,492号の如き発色現像主薬を金属塩にして
内蔵させる方法、米国特許3,342,559号やリサ
ーチ・ディスクロージャー (Re5earch Dl
sclosura ) 1976年&5159に示され
るが如き、シッフ塩にして発色現像主薬を内蔵させる方
法1%開昭58−65429号及び同58−24137
−@等に示されるが如き色素プレカーサーとして内蔵さ
せる方法や、米国特許3、342.597号に示される
が如き発色現像主薬プレカーサーとして内蔵さぎる方法
等を用いるこ26一 ましくけ炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルキルア
ミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基)、ス
ルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20の直鎖また
は分岐のアルキルアミノスルホニル基、フェニルアミノ
スルホニル基)等。
して用いてもよい。さらKまた。上記発色現像主薬はカ
ラー感光材料中に内蔵させてもよい。例えば米国特許3
,719,492号の如き発色現像主薬を金属塩にして
内蔵させる方法、米国特許3,342,559号やリサ
ーチ・ディスクロージャー (Re5earch Dl
sclosura ) 1976年&5159に示され
るが如き、シッフ塩にして発色現像主薬を内蔵させる方
法1%開昭58−65429号及び同58−24137
−@等に示されるが如き色素プレカーサーとして内蔵さ
せる方法や、米国特許3、342.597号に示される
が如き発色現像主薬プレカーサーとして内蔵さぎる方法
等を用いるこ26一 ましくけ炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルキルア
ミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基)、ス
ルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20の直鎖また
は分岐のアルキルアミノスルホニル基、フェニルアミノ
スルホニル基)等。
X7は水素または発色現像主薬の酸化生成物とのカップ
リング反応時に脱離可能な基を示す。例えばハロゲン原
子(例えば塩素、臭素、弗素などの各原子)、#素原子
または窒素原子が直接カップリング位に結合しているア
リールオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバモイル
メトキシ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、コハ
ク酸イミド基などが挙げられ、更には具体的な例として
は米国特許第3,741,563号、特開昭47−37
425号、4I公昭48−36894号、特開昭50−
10135号、同50−117422号、同50−13
0441号、同51−108841−1!、同50−1
20334号、同52−18315号。
リング反応時に脱離可能な基を示す。例えばハロゲン原
子(例えば塩素、臭素、弗素などの各原子)、#素原子
または窒素原子が直接カップリング位に結合しているア
リールオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバモイル
メトキシ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、コハ
ク酸イミド基などが挙げられ、更には具体的な例として
は米国特許第3,741,563号、特開昭47−37
425号、4I公昭48−36894号、特開昭50−
10135号、同50−117422号、同50−13
0441号、同51−108841−1!、同50−1
20334号、同52−18315号。
同53−105226号などに記載されているものが挙
げられる。
げられる。
11開口U60−256143 (1ω本発明に用いら
れるシアンカプラーは1例えば米国特許第3,758,
308号および特開昭56−65134号に記載された
方法を用いることにより容易に合成できる。
れるシアンカプラーは1例えば米国特許第3,758,
308号および特開昭56−65134号に記載された
方法を用いることにより容易に合成できる。
以下に上記シアンカプラーの好ましい化合物例を記載す
るが、これらに限定されることはない。
るが、これらに限定されることはない。
例示化合物
(0−+)
rll +
04H0
35−
(0−4)
H
01□’−’25 0 t
(0−5)
01211211
(U−6)
H
(0−7)
1−1
36−
(O−S)
H
(0−9)
(1M
((]−11)
H
ナフチル基(例えばフェニル、トリル等)〕、ハロゲン
原子(フッ素、塩素、臭素など)、アミノ基(例えばエ
チルアミノ、ジエチルアミン)、ヒドロキシ基を表わす
。
原子(フッ素、塩素、臭素など)、アミノ基(例えばエ
チルアミノ、ジエチルアミン)、ヒドロキシ基を表わす
。
n13は1〜5の整数、+13は0〜4の整数を表わす
。さらに好ましくはm3 +n3は2以上である。
。さらに好ましくはm3 +n3は2以上である。
Zlま複素環基もしくはナフチル基を形成するのに必要
な非金輌原子群を表わし、複素環基としては1gi素原
子、酸素原子、もしくはイオウ原子を1から4個含む5
員もしくは6員環複素環が好ましい。
な非金輌原子群を表わし、複素環基としては1gi素原
子、酸素原子、もしくはイオウ原子を1から4個含む5
員もしくは6員環複素環が好ましい。
例えばフリル基、チェニル基、ピリジル基、キノリル基
、オキサシリル基、テトラゾリル基、ベンゾチアゾリル
基、テトラヒドロフラニル基などである。
、オキサシリル基、テトラゾリル基、ベンゾチアゾリル
基、テトラヒドロフラニル基などである。
なお、これらの環には任意の置換基を導入することがで
き、例えば炭素原子数1−10のアルキル!(例えばエ
チル、i−プロピル、I−ブチル。
き、例えば炭素原子数1−10のアルキル!(例えばエ
チル、i−プロピル、I−ブチル。
t−ブチル、t−オクチルなど)、アリール基(例、t
in’フェニル、ナフチル)、ハロゲン原子(フッ素、
塩素、臭素など)、シアン、ニトロ、スルホンアミド基
(例えばメタンスルホンアミド。
in’フェニル、ナフチル)、ハロゲン原子(フッ素、
塩素、臭素など)、シアン、ニトロ、スルホンアミド基
(例えばメタンスルホンアミド。
ブタンスルホンアミド、p−)ルエンスルホンアミドな
ど)、スルファモイル基(例えばメチルスルファモイル
、フェニルスル7アモイルナト)。
ど)、スルファモイル基(例えばメチルスルファモイル
、フェニルスル7アモイルナト)。
スルホニki6c例えばメタンスレホニル、p−トルエ
ンスルホニルナト)、フルオロスルホニル基、カルバモ
イル基(例えばジメチルカルバモイル。
ンスルホニルナト)、フルオロスルホニル基、カルバモ
イル基(例えばジメチルカルバモイル。
フェニルカルバモイルなど)、オキシカルボニル基(例
えばエトキシカルボニル、フェノキシカルボニルなど)
、アシル基(例えばアセチル、ベンン°イルなど)、ヘ
テロ環基(例えばピリジルピラゾリル基など)、アルコ
キシ基、アリールAキシ基.アシルオキシ基などを孕げ
ることができる。
えばエトキシカルボニル、フェノキシカルボニルなど)
、アシル基(例えばアセチル、ベンン°イルなど)、ヘ
テロ環基(例えばピリジルピラゾリル基など)、アルコ
キシ基、アリールAキシ基.アシルオキシ基などを孕げ
ることができる。
R7は前記一般式間で示されるシアンカプラーおよび該
/アンカプラーから形成されるシアン色素に耐拡散性を
付与するのに必要な脂肪族基または芳香族基を表わし.
好ましくは炭素数4〜30のアルキル基,アリール基ま
たはへテロ環基である。
/アンカプラーから形成されるシアン色素に耐拡散性を
付与するのに必要な脂肪族基または芳香族基を表わし.
好ましくは炭素数4〜30のアルキル基,アリール基ま
たはへテロ環基である。
例えば直鎖を九は分岐のアルキル基(例えば1−ブチル
、n−オクチル、t−オクチル、n−ドデシル7’にト
)、プルケニル基,シクロアルキル基、5員もしくは6
員環ヘテロ埠基および一般式〔■c〕で示される基など
が挙げられる。
、n−オクチル、t−オクチル、n−ドデシル7’にト
)、プルケニル基,シクロアルキル基、5員もしくは6
員環ヘテロ埠基および一般式〔■c〕で示される基など
が挙げられる。
一般式LVc)
(R.9)k
式中, JFi酸木原木原子は硫黄原子、kは0から4
の整数,tt−toまたはlを示し、1(が2以上の場
合,2つ以上存在するR,は同一でも異なっていてもよ
(、R8は炭素数1〜20の直@または分岐のアルキル
基、R5,は−価の基を示し例えば水素原子、ハロゲン
原子(好ましくは、塩素,臭素)。
の整数,tt−toまたはlを示し、1(が2以上の場
合,2つ以上存在するR,は同一でも異なっていてもよ
(、R8は炭素数1〜20の直@または分岐のアルキル
基、R5,は−価の基を示し例えば水素原子、ハロゲン
原子(好ましくは、塩素,臭素)。
アルキル基(好ましくは直鎖またtま分岐の炭素数1〜
20のアルキル基(例えばメチル、t−ブチル、t−ペ
ンチル、t−オクチル* )’ 7’ シル、 ヘンタ
デシル、ベンジル、フェネチル))、アリール基(例え
ばフェニル)、複素環基(好ましくけ、−33− へ^
^ 含チッ素複素環基)、アルコキシ基(好ましくは。
20のアルキル基(例えばメチル、t−ブチル、t−ペ
ンチル、t−オクチル* )’ 7’ シル、 ヘンタ
デシル、ベンジル、フェネチル))、アリール基(例え
ばフェニル)、複素環基(好ましくけ、−33− へ^
^ 含チッ素複素環基)、アルコキシ基(好ましくは。
直鎖または分岐の炭素数1〜20のアルキルオキシ基(
例えばメトキシ、エトキシ、t−ブチルオキシ、オクチ
ルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ))、アリー
ルオキシ基(例えばフェノキシ)、ヒドロキシ、アシル
オキシ基(好ましくけ、アルキルカルボニルオキ7基、
アリールカルボニルオキ7基(例えばアセトキシ、ベン
ゾイルオキシ))、カルボキシ、アルコキシカルボニル
基(好ましくは炭素数1〜20の直鎖または分岐のアル
キルオキ/カルボニル基)、アリールオキシ力ルボニル
,1(Nましくはフェノキシカルボニル)。
例えばメトキシ、エトキシ、t−ブチルオキシ、オクチ
ルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ))、アリー
ルオキシ基(例えばフェノキシ)、ヒドロキシ、アシル
オキシ基(好ましくけ、アルキルカルボニルオキ7基、
アリールカルボニルオキ7基(例えばアセトキシ、ベン
ゾイルオキシ))、カルボキシ、アルコキシカルボニル
基(好ましくは炭素数1〜20の直鎖または分岐のアル
キルオキ/カルボニル基)、アリールオキシ力ルボニル
,1(Nましくはフェノキシカルボニル)。
アルキルテオ基(好ましくは炭素数1〜20)1アシル
基(好′ましくは炭:JA数1〜20の直鎖゛または分
岐のアルキルカルボニル基)、アンルアミノ基(好まし
くは炭素数1〜20の直鎖まだは分岐のアルキルカルポ
アにド,ベンゼンカルボアミド)。
基(好′ましくは炭:JA数1〜20の直鎖゛または分
岐のアルキルカルボニル基)、アンルアミノ基(好まし
くは炭素数1〜20の直鎖まだは分岐のアルキルカルポ
アにド,ベンゼンカルボアミド)。
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜20の直鎖ま
たは分岐のアルキルスルホンアミド基、ベンゼンスルホ
ンアミド基)、カルバモイル基(好34− ましくけ炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルキルア
ミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基)、ス
ルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20の直鎖また
は分岐のアルキルアミンスルホニル基、フェニルアミノ
スルホニル基)等。
たは分岐のアルキルスルホンアミド基、ベンゼンスルホ
ンアミド基)、カルバモイル基(好34− ましくけ炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルキルア
ミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基)、ス
ルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20の直鎖また
は分岐のアルキルアミンスルホニル基、フェニルアミノ
スルホニル基)等。
X7は水:JAまたは発色現像主薬の酸化生成物とのカ
ップリング反応時に脱離可能々基を示す。例えばハロゲ
ン原子(例えば塩素、臭素、弗素などの各原子)、酸素
原子または窒lA原子が直接カップリング位に結合して
いるアリールオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバ
モイルメトキシ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基
、コ/Xり酸イミド基などが皐げられ、更には具体的な
例としては米国特許第3,741,563号、特開昭4
7−37425号1%公昭48−36894号、特開昭
50−10135号、同50−117422号、同50
−130441号、同51−108841号、同50−
120334号、同52−18315号、同53−10
5226号々どに記載されているものが挙けられる。
ップリング反応時に脱離可能々基を示す。例えばハロゲ
ン原子(例えば塩素、臭素、弗素などの各原子)、酸素
原子または窒lA原子が直接カップリング位に結合して
いるアリールオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバ
モイルメトキシ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基
、コ/Xり酸イミド基などが皐げられ、更には具体的な
例としては米国特許第3,741,563号、特開昭4
7−37425号1%公昭48−36894号、特開昭
50−10135号、同50−117422号、同50
−130441号、同51−108841号、同50−
120334号、同52−18315号、同53−10
5226号々どに記載されているものが挙けられる。
本発明に用いられるシアンカプラーは、例えば米国特許
第3,758,308号およびq#開昭56−6513
4号に記載された方法を用いることにより容易に合成で
きる。
第3,758,308号およびq#開昭56−6513
4号に記載された方法を用いることにより容易に合成で
きる。
以下に上記シアンカプラーの好ましい化合物例を記載す
るが、これらに限定されることはない。
るが、これらに限定されることはない。
例示化合物
(0−1)
ril+
(0−4)
H
01□f−1□5 01
(0−5,1
012’25
(0−6)
H
(0−7)
H
04I−■。
(O−S)
H
(0−9)
H
(0−11)
H
t05H。
(0−12)
OH
t05H,。
本発明において使用し得るハロゲン化銀乳剤としては塩
化@、臭化銀、沃化銀、塩臭化銀、塩沃化製、沃臭化銀
、塩沃臭化銀の如きいずれのハロゲン化銀を用いたもの
であってもよい。また、これらのハロゲン化銀の保護コ
ロイドとしては、ゼラチン等の天然物の他1合成によっ
て得られる種々のものが使用できる。ハロゲン化銀乳剤
には、安定剤、増感剤、硬膜剤、増感色素、界面活性剤
等通常の写真用添加剤が含まれてもよい。
化@、臭化銀、沃化銀、塩臭化銀、塩沃化製、沃臭化銀
、塩沃臭化銀の如きいずれのハロゲン化銀を用いたもの
であってもよい。また、これらのハロゲン化銀の保護コ
ロイドとしては、ゼラチン等の天然物の他1合成によっ
て得られる種々のものが使用できる。ハロゲン化銀乳剤
には、安定剤、増感剤、硬膜剤、増感色素、界面活性剤
等通常の写真用添加剤が含まれてもよい。
不発1jlIK使用されるハロゲン化鋼カラー写真感光
材料とは、カラーネガフィルム、カラーペーパー、カラ
ー反転フィルム、カラー反転ペーパー等発色現像工8(
アクチペーターも倉む)及び漂白又は漂白定着工程を有
する処理工程を適用する感光材料なら全て用いることが
できる。
材料とは、カラーネガフィルム、カラーペーパー、カラ
ー反転フィルム、カラー反転ペーパー等発色現像工8(
アクチペーターも倉む)及び漂白又は漂白定着工程を有
する処理工程を適用する感光材料なら全て用いることが
できる。
なお1本発明において、発色現像処理と漂白能を有する
処理液による処理との間に1コンデイジ冒二ング処理を
行う等、必要に応じて他の処理工程が介在してもよい。
処理液による処理との間に1コンデイジ冒二ング処理を
行う等、必要に応じて他の処理工程が介在してもよい。
以下、実施例によって不発明を更に詳細に説明するが1
本発明の実施態様がこれに限定されるものではない。
本発明の実施態様がこれに限定されるものではない。
〔実施例1〕
白色顔料としてアナターゼ型の酸化チタンを含むポリエ
チレン層によって、表面を被覆した紙支持体上にコロナ
放電による前処理を施こした後。
チレン層によって、表面を被覆した紙支持体上にコロナ
放電による前処理を施こした後。
次の各層を順次塗設してカラー印画紙を作った。
第1層=5モル%の塩化銀を含む塩臭化銀写真乳剤をア
ンヒドロ−5−メチル−5′−メトキシ−3,3’ −
シー (3−スルホプロピル)セレナシアニンヒドロオ
キシドによp光学増感し、これに2.5−ジ−t−ブチ
ルハイドロキノン及びイエローカプラーとしてα−[4
−(1−ベンジル−2−フェニル−3,5−ジオキソ−
1,2,4−)リアシリシル)〕−〕α−ピバリルー2
−クロロー5−r−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)ブチルアξド〕アセトアニリドのプロテクト分散液
を加えたものを銀o3sg/n?となるように塗設した
。
ンヒドロ−5−メチル−5′−メトキシ−3,3’ −
シー (3−スルホプロピル)セレナシアニンヒドロオ
キシドによp光学増感し、これに2.5−ジ−t−ブチ
ルハイドロキノン及びイエローカプラーとしてα−[4
−(1−ベンジル−2−フェニル−3,5−ジオキソ−
1,2,4−)リアシリシル)〕−〕α−ピバリルー2
−クロロー5−r−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)ブチルアξド〕アセトアニリドのプロテクト分散液
を加えたものを銀o3sg/n?となるように塗設した
。
第2層;ジ−t−オクチルハイドロキノン及び紫外II
i!吸収剤としての2− (2’−ヒドロキシ−3′。
i!吸収剤としての2− (2’−ヒドロキシ−3′。
5′−ジ−t−ブチルフェニル)ペンツトリアゾール、
2− (2’−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル
)ペンツトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′
−t−ブチル−5−メチルフェニル)−5−クロルペン
ツトリアゾール及び2− (2’−ヒドロキシ−31、
5/−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロルペンツト
リアゾールの混合物を含むプロテクト分散液を加えたゼ
ラチン溶液を中間層として塗設した。
2− (2’−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル
)ペンツトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′
−t−ブチル−5−メチルフェニル)−5−クロルペン
ツトリアゾール及び2− (2’−ヒドロキシ−31、
5/−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロルペンツト
リアゾールの混合物を含むプロテクト分散液を加えたゼ
ラチン溶液を中間層として塗設した。
第3層=15モル%の塩化銀を含む塩臭化銀写真乳剤を
アンヒトo−9−エチル−5,5′−ジフェニル−3,
3’−シ(3−スルホプロピル)オキサカルボシアニン
ヒドロオキシドによシ光学増感し。
アンヒトo−9−エチル−5,5′−ジフェニル−3,
3’−シ(3−スルホプロピル)オキサカルボシアニン
ヒドロオキシドによシ光学増感し。
これに2.5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2゜−
41−^1・ 2.4−トリメチル−6−ラウリルオキシ−7−t−オ
クチルクロマン及びマゼンタカプラーとして1−(2,
4,6−ドリクロロフエニル)−3−(2−クロロ−5
−オクタデセニルサクシンイミドアニリノ)−5−ピラ
ゾロンのプロテクト分散液を加えたものを、鋏0.4.
9/I11”となるように塗設した。
41−^1・ 2.4−トリメチル−6−ラウリルオキシ−7−t−オ
クチルクロマン及びマゼンタカプラーとして1−(2,
4,6−ドリクロロフエニル)−3−(2−クロロ−5
−オクタデセニルサクシンイミドアニリノ)−5−ピラ
ゾロンのプロテクト分散液を加えたものを、鋏0.4.
9/I11”となるように塗設した。
第4層:第2層と同じ液を中間層として塗設した。
第5層:15モル%の塩化銀を含む塩臭化銀写真乳剤を
アンヒドロ−2−(3−エチル−5−(l−エチル−4
−(IH)−キノリリデン)エチリデン−4−オキソ−
チアゾリジン−2−イリデンコメチル−3−(3−スル
ホプロピル)ベンゾオキサシリウムヒドロオキシドを用
いて光学増感し、これに2,5−ジ−t−ブチルハイド
ロキノン及びシアンカプラーとして下記(o−13)の
プロテクト分散液を加えたものを、銀0.271i/d
となるように塗設した。
アンヒドロ−2−(3−エチル−5−(l−エチル−4
−(IH)−キノリリデン)エチリデン−4−オキソ−
チアゾリジン−2−イリデンコメチル−3−(3−スル
ホプロピル)ベンゾオキサシリウムヒドロオキシドを用
いて光学増感し、これに2,5−ジ−t−ブチルハイド
ロキノン及びシアンカプラーとして下記(o−13)の
プロテクト分散液を加えたものを、銀0.271i/d
となるように塗設した。
第6層:ゼラチン溶液を保護層として塗設した。
42−
上記の各感光性層に用いたハロゲン化銀写真乳剤は、特
公昭46−7772号公報記載の方法で―標し、それぞ
れチオ硫酸ナトリウムにより化学増感を施こし、安定剤
として4−ヒト「1キシ−6−メチル−1,3,3a
、 7−チトラデインデンを添加した。またすべての層
の塗布液には、塗布助剤としてサポニンと硬膜剤として
ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテルをそれぞれ添
加した。
公昭46−7772号公報記載の方法で―標し、それぞ
れチオ硫酸ナトリウムにより化学増感を施こし、安定剤
として4−ヒト「1キシ−6−メチル−1,3,3a
、 7−チトラデインデンを添加した。またすべての層
の塗布液には、塗布助剤としてサポニンと硬膜剤として
ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテルをそれぞれ添
加した。
LO−13)
1−1
以上のようにして作ったカラー1’l] +1ili紙
に、KS−7fi感光第1(小西六写真工業社製)を用
いて白色階段露光を与えた後1次の工程に従って発色現
W!処理を行った。
に、KS−7fi感光第1(小西六写真工業社製)を用
いて白色階段露光を与えた後1次の工程に従って発色現
W!処理を行った。
処理工程 温度1) 時間(分)
発色現儂 38 20
漂白定着 38 1.0
安定化処理 30 3.0
乾 燥 75〜85
使用した発色現像液、漂白定着液及び安定液は次の組成
のものを調整し使用した。
のものを調整し使用した。
(発色現像液)
(注1) 螢光増白剤として、ミケホアMXコンクな用
いた。
いた。
(漂白定着液)
(安定液)
」二記漂白定着液中に発色現像液を添加しであるのit
連続処理の収斂状態を想定して添加したものである。
連続処理の収斂状態を想定して添加したものである。
陳だ漂白定着液中の有機酸鉄(Ill)錯体及びその添
加針を表1の如くにして、処理を行い、処理後の感光材
料の未露光部のシアンスティン及び最高幾度部の残留銀
量を測定した。なお、濃度測定には、PI′)A−65
光学濃度針(小西六写真工業社製)を使い、残留銀計測
定は螢光X線法により行った。
加針を表1の如くにして、処理を行い、処理後の感光材
料の未露光部のシアンスティン及び最高幾度部の残留銀
量を測定した。なお、濃度測定には、PI′)A−65
光学濃度針(小西六写真工業社製)を使い、残留銀計測
定は螢光X線法により行った。
表 1
上記表より、本発明の有機酸鉄個)錯体を0.03〜0
.lOモル/NO範囲で使用すれば、シアンスティン及
び残留銀量がいずれも良好であるが、この範囲外では、
いずれかの性能が劣っていて実用に適さないことが刊る
。さらに、0.04〜009モル/皇の範囲では、特に
良好な効果を奏している。
.lOモル/NO範囲で使用すれば、シアンスティン及
び残留銀量がいずれも良好であるが、この範囲外では、
いずれかの性能が劣っていて実用に適さないことが刊る
。さらに、0.04〜009モル/皇の範囲では、特に
良好な効果を奏している。
〔実施例2〕
実施例1の実験点4(例示化合物田麩(叫アンモニウム
塩0.06モル/(添加)で用いた漂白定着液に例示化
合物(Ill−2J又は〔厘−11)をそれぞれ2&/
i県加し、同様の処理を行った。ただし、開目定着の処
理時間は40秒で行い、シアンスティン及び残留銀量を
測定した。結果を表2に示す。
塩0.06モル/(添加)で用いた漂白定着液に例示化
合物(Ill−2J又は〔厘−11)をそれぞれ2&/
i県加し、同様の処理を行った。ただし、開目定着の処
理時間は40秒で行い、シアンスティン及び残留銀量を
測定した。結果を表2に示す。
以下余白
表 2
上記表より、本発明においては、一般式則1で示される
化合物が添加されることにより、シアンスティン及び残
留銀量が良好で、かつ迅速な処理ができ、より好ましい
ことが判る。
化合物が添加されることにより、シアンスティン及び残
留銀量が良好で、かつ迅速な処理ができ、より好ましい
ことが判る。
〔実施例3〕
実施例1の実験点4で用いた安定液に1キレート剤とし
て、l−ヒドロキソエチリデン−1,1’−ジホスホン
酸(60%水溶液)(キレート安定度定数的33)を”
#/fl添加して連続処理を行い、処理後の感光材料未
露光部のイエロー及びシアンスティンを測定した。結果
を表3に示す。
て、l−ヒドロキソエチリデン−1,1’−ジホスホン
酸(60%水溶液)(キレート安定度定数的33)を”
#/fl添加して連続処理を行い、処理後の感光材料未
露光部のイエロー及びシアンスティンを測定した。結果
を表3に示す。
47−
表 3
上記表よシ1本発明においては安定液にキレート剤を添
加することKよって、スティンが改良されることが判る
。
加することKよって、スティンが改良されることが判る
。
〔実施例4〕
実施例1の実験風4で用いた発色現像液中の発色現像主
薬の例示化合物(+V−+)を3−メチル−4−アミノ
−N、N’−ジエチルアニリン塩酸塩に代え、及び例示
化合物(N’−4)P−)ルエンスルホン酸塩に代えて
同様の実験を行い、処理後の感光材料のシアンスティン
及び残留銀量を測定し友。結果を表4に示す。
薬の例示化合物(+V−+)を3−メチル−4−アミノ
−N、N’−ジエチルアニリン塩酸塩に代え、及び例示
化合物(N’−4)P−)ルエンスルホン酸塩に代えて
同様の実験を行い、処理後の感光材料のシアンスティン
及び残留銀量を測定し友。結果を表4に示す。
=48=
表 4
上記表より、本発明においては、一般式■で示される発
色8!像主薬を用いる場合Klシアンスティン及び残留
銀量が良好であり1%に前記一般式間の几2及び/また
はR4が禁0112−)、−、B、 (m (rm2及
びR5は前記に同義で示されるものである時、とりわけ
良好であることが判る。
色8!像主薬を用いる場合Klシアンスティン及び残留
銀量が良好であり1%に前記一般式間の几2及び/また
はR4が禁0112−)、−、B、 (m (rm2及
びR5は前記に同義で示されるものである時、とりわけ
良好であることが判る。
〔実施例5〕
実施例1で作成した感光材料のシアンカプラー(0−1
3,lを例示化合物LO−2)に変更してカラーペーパ
ーを作成した。この試料を用いて。
3,lを例示化合物LO−2)に変更してカラーペーパ
ーを作成した。この試料を用いて。
実施例1の実験Na4と同様の処理を行い、処理後の感
光材料のシアンスティン及び残留銀量を測定した。結果
を表5に示す。
光材料のシアンスティン及び残留銀量を測定した。結果
を表5に示す。
表 5
上記表より1木兄BAにおいては、一般式間で示される
シアンカプラーを使用することにより、更に好ましい効
果を奏することが判る。
シアンカプラーを使用することにより、更に好ましい効
果を奏することが判る。
特許出願人 小西六写真工業株式会社
代 理 人 弁理士 坂 口 信 昭
(ほか1名)
手 続−?rrJ 正 1啓(自発)
昭和80年8月30日
昭和59年特許願第110945号
2 発明の名称
ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法3 補正を
する者 事件との関係 出願人 名 称 (127)小西六写真=[業株式会社4代理人
〒160 住 所 東京都新宿区西新宿七丁目lO番11号第2イ
ト−ビル5階 置(03)381−0055(代) FAX381−0
1035 拒絶理由通知の日付 自発 6 補正により増加する発明の数 51− 補正の内容(特願昭59−110945号)明細書につ
いて次の通り補正する。
する者 事件との関係 出願人 名 称 (127)小西六写真=[業株式会社4代理人
〒160 住 所 東京都新宿区西新宿七丁目lO番11号第2イ
ト−ビル5階 置(03)381−0055(代) FAX381−0
1035 拒絶理由通知の日付 自発 6 補正により増加する発明の数 51− 補正の内容(特願昭59−110945号)明細書につ
いて次の通り補正する。
l 第17頁第13行、第18頁第1〜2行及び第48
頁下から第5〜4行に「l−ヒドロキシエチリデン−1
,1′−ジホスホン酸」とあるを[l−ヒドロキシエチ
リデン−1,1−ジホスホン酸」と各々補正する。
頁下から第5〜4行に「l−ヒドロキシエチリデン−1
,1′−ジホスホン酸」とあるを[l−ヒドロキシエチ
リデン−1,1−ジホスホン酸」と各々補正する。
2 第17頁第14行にrl、1 ′−ジホスホノエタ
ン」とあるをrl、1−ジホスホノエタン」と補正する
。
ン」とあるをrl、1−ジホスホノエタン」と補正する
。
3 第26頁第14行にr No、5159 Jとある
をrNo、15159J と補正する。
をrNo、15159J と補正する。
4 第28頁第6行に「一般式〔V〕」とあるを「一般
式(V)、(VI)又は〔■〕」と補正する。
式(V)、(VI)又は〔■〕」と補正する。
5 第28頁第10行の一般式(V)から第39頁の(
C−12)の構造式までを下記の通り補正する。
C−12)の構造式までを下記の通り補正する。
記
一般式[VI
M
式中、R20及びR21は一方が水素原子であり、他方
が少なくとも炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル
基であり、Xは水素原子又は発色現像主薬の酸化体との
カプリング反応により離脱しうる基を表し、R22はバ
ラスト基を表す。
が少なくとも炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル
基であり、Xは水素原子又は発色現像主薬の酸化体との
カプリング反応により離脱しうる基を表し、R22はバ
ラスト基を表す。
一般式[V1]
n■
一般式[■1]
lJ
式中、Yは一〇〇R24、
(但しR24はアルキル基、アルケニル基、シクロアル
キル基、アリール基またはへテロ環基を表し、R25は
水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アリール基またはへテロ環基を表し、R24とR2
5とが互いに結合して5〜6員のへテロ環を形成しても
よい。)を表し、R23はバラスト基を表し、Zは水素
原子又は発色現像主薬の酸化体とのカプリング反応によ
り離脱しうる基を表す。
キル基、アリール基またはへテロ環基を表し、R25は
水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アリール基またはへテロ環基を表し、R24とR2
5とが互いに結合して5〜6員のへテロ環を形成しても
よい。)を表し、R23はバラスト基を表し、Zは水素
原子又は発色現像主薬の酸化体とのカプリング反応によ
り離脱しうる基を表す。
本発明に係るシアンカプラーは前記一般式[V]〜[■
1]で表すことができるが、該一般式[V]について更
に説明する。
1]で表すことができるが、該一般式[V]について更
に説明する。
本発明において、前記一般式[mlのR21、R2Oで
表される炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル基は
1例えばエチル基、プロピル基、ブチル基である。
表される炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルキル基は
1例えばエチル基、プロピル基、ブチル基である。
一般式[V]において、R22で表されるバラスト基は
、カプラーが適用される層からカプラーを実質的に他層
に分散できないようにするのにヒ分ながさばりをカプラ
ーに与えるところの大きさと形状を有する有機基である
0代表的なバラスト基以下余白 としては、全炭素数8〜32のアルキル基又はアリール
基が挙げられるが、好ましくは全炭素数13〜28であ
る。これらのアルキル基とアリール基は置換基を有して
もよく、このアリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリルオキシ基、
カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基、
シアン基、ニトロ基、カルバモイル基、カルボンアミド
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲンが挙げ
られ、またアルキル基の置換基としては、アルキル基を
除く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられる。
、カプラーが適用される層からカプラーを実質的に他層
に分散できないようにするのにヒ分ながさばりをカプラ
ーに与えるところの大きさと形状を有する有機基である
0代表的なバラスト基以下余白 としては、全炭素数8〜32のアルキル基又はアリール
基が挙げられるが、好ましくは全炭素数13〜28であ
る。これらのアルキル基とアリール基は置換基を有して
もよく、このアリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリルオキシ基、
カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基、
シアン基、ニトロ基、カルバモイル基、カルボンアミド
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲンが挙げ
られ、またアルキル基の置換基としては、アルキル基を
除く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられる。
該バラスト基として好ましいものは下記一般式%式%
R42は炭素数1〜12のアルキル基を表し、Arはフ
ェニルノ!等のアリール基を表し、このアリール基は置
換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基
、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキルスルホンアミ
ド基等が挙げられるが、最も好ましものはドブチル基等
の分岐のアルキル基が挙げられる。
ェニルノ!等のアリール基を表し、このアリール基は置
換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基
、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキルスルホンアミ
ド基等が挙げられるが、最も好ましものはドブチル基等
の分岐のアルキル基が挙げられる。
前記一般式[V]でXにより定義される発色現像主薬の
酸化体とのカプリングで離脱しうる基は、当業者によく
知られているように、カプラーの当量数を決定すると共
に、カプリングの反応性を左右する0代表例としては、
IM素、フッ素に代表されるハロゲン、アリールオキシ
基、置換又は未置換のアルコキシ基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、アリールチオ基、ヘテロイルチオ基
、ヘテロイルオキシ基、スルホニルオキシ基、カルバモ
イルオキシ基等が挙げられる。さらに具体的な例として
は、特開昭50−10135号、同50−120334
号、同50−130414号、同54−48237号、
同51−146828号、同54−14736号、同4
7−37425号、回50−123341号、同58−
95345号、特公昭48−36894号、米国特許3
.47Ei、583号、同3,737,316号、同3
,227,551号等に記載されている基が挙げられる
。
酸化体とのカプリングで離脱しうる基は、当業者によく
知られているように、カプラーの当量数を決定すると共
に、カプリングの反応性を左右する0代表例としては、
IM素、フッ素に代表されるハロゲン、アリールオキシ
基、置換又は未置換のアルコキシ基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、アリールチオ基、ヘテロイルチオ基
、ヘテロイルオキシ基、スルホニルオキシ基、カルバモ
イルオキシ基等が挙げられる。さらに具体的な例として
は、特開昭50−10135号、同50−120334
号、同50−130414号、同54−48237号、
同51−146828号、同54−14736号、同4
7−37425号、回50−123341号、同58−
95345号、特公昭48−36894号、米国特許3
.47Ei、583号、同3,737,316号、同3
,227,551号等に記載されている基が挙げられる
。
次に一般式[V]表されるシアンカプラーの例示化合物
を挙げるが、これらに限定されない、該例示化合物とし
ては、一般式[V]において、下記のようにR21,X
、R22、R20を特定したものが挙げられる。
を挙げるが、これらに限定されない、該例示化合物とし
ては、一般式[V]において、下記のようにR21,X
、R22、R20を特定したものが挙げられる。
以下余白
以下に本発明例示化合物の合成法を示すが、他の例示化
合物も同様の方法により合成することができる。
合物も同様の方法により合成することができる。
例示化合物C−5の合成例
[(1)−a 1 2−ニトロ−4,8−ジクロロ−5
−エチルフェノールの合成 2−ニトロ−5−エチルフェノール33g、沃素0.6
g及び塩化第2鉄1.5gを氷酢酸150+siに溶解
する。これに40℃でスルフリルクロライド75a+u
を3時間で滴下する0滴下途中で生成した沈澱はスルフ
リルクロライド滴下終了後、加熱還流することにより、
反応溶解する。加熱還流は約2時間を要する0反応液を
水中に注ぎ生成した結晶はメタノールにより再結晶精製
する。 (1)−aの確認は核磁気共鳴スペクトル及び
元素分析により行った。
−エチルフェノールの合成 2−ニトロ−5−エチルフェノール33g、沃素0.6
g及び塩化第2鉄1.5gを氷酢酸150+siに溶解
する。これに40℃でスルフリルクロライド75a+u
を3時間で滴下する0滴下途中で生成した沈澱はスルフ
リルクロライド滴下終了後、加熱還流することにより、
反応溶解する。加熱還流は約2時間を要する0反応液を
水中に注ぎ生成した結晶はメタノールにより再結晶精製
する。 (1)−aの確認は核磁気共鳴スペクトル及び
元素分析により行った。
[(1)−b ] ]2−ニトロー4.6−ジクロロー
5エチルフェノールの合成 [(1)−a ]の化合物21.2gを300mMのア
ルコールに溶解し、これに触媒■のラネーニッケルな加
た0反応後ラネーニッケルを除去し、アルコール減圧に
て留去した。残渣の[(1)−b ]は精製することな
く次のアシル化を行った。
5エチルフェノールの合成 [(1)−a ]の化合物21.2gを300mMのア
ルコールに溶解し、これに触媒■のラネーニッケルな加
た0反応後ラネーニッケルを除去し、アルコール減圧に
て留去した。残渣の[(1)−b ]は精製することな
く次のアシル化を行った。
[(1)−c ] 2[(2,4−ジーtart−アシ
ルフェノキシ)アセトアミド]−4,8−ジクロロ−5
−エチルフェノールの合成 [(1)−b ]で得たクルードなアミド体18.5g
を50(1muの氷酢酸と18.7 gの酢酸ソーダよ
りなる混液に溶解し、これに2,4−ジーtert−ア
シルフェノキシ酢酸クロリド28.0gを酢酸50m
lに溶解した酢酸溶液を室温にて滴下する。30分間で
滴下し、更に30分間攪拌後、反応液を氷水中に注入す
る。生成した沈澱を濾取し、乾燥後、アセトニトリルに
て2回再結晶すると目的物が得られる。目的物の確認は
元素分析及び核磁気共鳴スペクトルにて行った。
ルフェノキシ)アセトアミド]−4,8−ジクロロ−5
−エチルフェノールの合成 [(1)−b ]で得たクルードなアミド体18.5g
を50(1muの氷酢酸と18.7 gの酢酸ソーダよ
りなる混液に溶解し、これに2,4−ジーtert−ア
シルフェノキシ酢酸クロリド28.0gを酢酸50m
lに溶解した酢酸溶液を室温にて滴下する。30分間で
滴下し、更に30分間攪拌後、反応液を氷水中に注入す
る。生成した沈澱を濾取し、乾燥後、アセトニトリルに
て2回再結晶すると目的物が得られる。目的物の確認は
元素分析及び核磁気共鳴スペクトルにて行った。
以下余白
4
02 + R2s N03 G立
秋に、本発明に用いられる一般式[Vl]または[Vl
l]で示されるシアンカプラーについて説明する。前記
一般式[■1]及び[■1]において、Yは。
l]で示されるシアンカプラーについて説明する。前記
一般式[■1]及び[■1]において、Yは。
にORz 4、
で表される基である。但しR24はアルキル基、好まし
くは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチ5 ル、エチル、t−ブチル、ドデシルの各基等)、アルケ
ニル基好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基(アリ
ル基、ヘプタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ま
しくは5〜7員環のもの(例えばシクロヘキシル等)、
アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基
等)、ヘテロ環基、好ましくは窒素原子、酸素原子もし
くはイオウ原子を1〜4個含む5員〜6員環のへテロ環
基(例えばフリル基、チェニル基、ベンゾチアゾリル基
等)を表す、R25は水素原子もしくはR24で表され
る基を表す、R24とR25と互いに結合して5〜6員
のへテロ環を形成してもよい、なお、R22及びR23
には任意の置換基を導入することができ、例えば炭素数
1〜10のアルキル基(例えばメチル、i−プロピル、
i−ブチル、t−ブチル、t−オクチル等)、アリール
基(例えばフェニル、ナフチル等)、ハロゲン原子(フ
ッ素、塩素、臭素等)、シアノ、ニトロ、スルホンアミ
ド基(例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホンア
ミド、P−トルエンスルホンアミド等)、スルフγモイ
ル基6 (例えばメチルスルファモイル、フェニルスルファモイ
ル等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル、p−
トルエンスルホニル等)、フルオロスルホニル基、カル
バモイル基(例えばジメチルカルバモイル、フェニルカ
ルバモイル等)、オキシカルボニル基(例えばエトキシ
カルボニル、フェノキシカルボニル等)、アシル基(例
えばアセチル、ベンゾイル等)、ヘテロ環基(例えばピ
リジル基、ピラゾリル基等)、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシルオキシ基等を挙げることができる。
くは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチ5 ル、エチル、t−ブチル、ドデシルの各基等)、アルケ
ニル基好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基(アリ
ル基、ヘプタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ま
しくは5〜7員環のもの(例えばシクロヘキシル等)、
アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基
等)、ヘテロ環基、好ましくは窒素原子、酸素原子もし
くはイオウ原子を1〜4個含む5員〜6員環のへテロ環
基(例えばフリル基、チェニル基、ベンゾチアゾリル基
等)を表す、R25は水素原子もしくはR24で表され
る基を表す、R24とR25と互いに結合して5〜6員
のへテロ環を形成してもよい、なお、R22及びR23
には任意の置換基を導入することができ、例えば炭素数
1〜10のアルキル基(例えばメチル、i−プロピル、
i−ブチル、t−ブチル、t−オクチル等)、アリール
基(例えばフェニル、ナフチル等)、ハロゲン原子(フ
ッ素、塩素、臭素等)、シアノ、ニトロ、スルホンアミ
ド基(例えばメタンスルホンアミド、ブタンスルホンア
ミド、P−トルエンスルホンアミド等)、スルフγモイ
ル基6 (例えばメチルスルファモイル、フェニルスルファモイ
ル等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル、p−
トルエンスルホニル等)、フルオロスルホニル基、カル
バモイル基(例えばジメチルカルバモイル、フェニルカ
ルバモイル等)、オキシカルボニル基(例えばエトキシ
カルボニル、フェノキシカルボニル等)、アシル基(例
えばアセチル、ベンゾイル等)、ヘテロ環基(例えばピ
リジル基、ピラゾリル基等)、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシルオキシ基等を挙げることができる。
一般式[Vll及び一般式[Vll]ニtl’テ、R2
3は一般式[Vll及び一般式[■1]で表されるシア
ンカプラー及び該シアンカプラーから形成されるシアン
色素に耐拡散性を付与するのに必要なバラスト基を表す
、好ましくは炭素数4〜30のアルキル基、アリール基
またはへテロ環基である。
3は一般式[Vll及び一般式[■1]で表されるシア
ンカプラー及び該シアンカプラーから形成されるシアン
色素に耐拡散性を付与するのに必要なバラスト基を表す
、好ましくは炭素数4〜30のアルキル基、アリール基
またはへテロ環基である。
例えば直鎖又は分岐のアルギル基(例えばt−ブチル、
n−オクチル、t−オクチル、n−ドデシル等)。
n−オクチル、t−オクチル、n−ドデシル等)。
6員環ヘテロ環基等が挙げられる。
一般式[v1]及び一般式[v1]において、Zは水素
原子又はN−ヒドロキシアルキル置換−p−フェニレン
ジアミン誘導体現像主薬の酸化体とのカプリング反応時
に離脱可能な基を表す0例えば、ハロゲン原子(例えば
塩素、臭素、フッ素等)、置換又は未置換のアルコキシ
基、アリールオキシ基、ペテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スル
ホンアミド基等が挙げられ、更に具体的な例としては米
国特許3.741,5Ei3号、特開昭47−3742
5号、特公昭4B−36894号、特開昭50−101
35号、同50−117422号。
原子又はN−ヒドロキシアルキル置換−p−フェニレン
ジアミン誘導体現像主薬の酸化体とのカプリング反応時
に離脱可能な基を表す0例えば、ハロゲン原子(例えば
塩素、臭素、フッ素等)、置換又は未置換のアルコキシ
基、アリールオキシ基、ペテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スル
ホンアミド基等が挙げられ、更に具体的な例としては米
国特許3.741,5Ei3号、特開昭47−3742
5号、特公昭4B−36894号、特開昭50−101
35号、同50−117422号。
同50−130441号、同51−108841号、同
50−120343号、同52−18315号、同53
−105226号、同54−14736号、同54−4
8237号、同55−32071号、同55−6595
7号、同56−1938号、同56−12643号、回
56−27148 7号、1iIQ59−146050号、同59−166
956号、同60−24547号、同80−35731
号、同60−37557号等に記載されているものを挙
げることができる。
50−120343号、同52−18315号、同53
−105226号、同54−14736号、同54−4
8237号、同55−32071号、同55−6595
7号、同56−1938号、同56−12643号、回
56−27148 7号、1iIQ59−146050号、同59−166
956号、同60−24547号、同80−35731
号、同60−37557号等に記載されているものを挙
げることができる。
本発明においては前記一般式[Vllまたは[M1]で
表されるシアンカプラーのうち、下記一般式[Vllr
l、[IX]または[×]で表されるシアンカプラーが
更に好ましい。
表されるシアンカプラーのうち、下記一般式[Vllr
l、[IX]または[×]で表されるシアンカプラーが
更に好ましい。
一般式[司 ゛
H
一般式[1×1
H
9
一般式[X]
R
一般式[■]において、 R43は置換、未置換のアリ
ール基(特に好ましくはフェニル基)である、該アリー
ル基が置換基を有する場合の置換基としては、SO2R
4b、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等) 、−C
F3 、−NO2、−CM、−COR46、−COOR
J 6、−5020t?4b、から選ばれる少なくとも
1つの置換基が包含される。
ール基(特に好ましくはフェニル基)である、該アリー
ル基が置換基を有する場合の置換基としては、SO2R
4b、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等) 、−C
F3 、−NO2、−CM、−COR46、−COOR
J 6、−5020t?4b、から選ばれる少なくとも
1つの置換基が包含される。
ここで、RA&はアルキル基、好ましくは炭素数1〜2
0のアルキル基(例えばメチル、エチル。
0のアルキル基(例えばメチル、エチル。
0
tert−ブチル、ドデシルの各基等)、アルケニル基
、好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基(アリル基
、ヘプタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ましく
は5〜7員環基(例えばシクロヘキシル等)、アリール
基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基等)を表
し、 R47は水素原子もしくはR46で表される基で
ある。
、好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基(アリル基
、ヘプタデセニル基等)、シクロアルキル基、好ましく
は5〜7員環基(例えばシクロヘキシル等)、アリール
基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基等)を表
し、 R47は水素原子もしくはR46で表される基で
ある。
一般式[VI]で表される本発明のシアンカプラーの好
適な化合物は、R43が置換ないし未置換のフェニル基
であり、フェニル基への置換基としてシアン、ニトロ、
−3O2R48(R48はアルキル基)、ハロゲン原子
、トリフルオロメチルであるような化合物である。
適な化合物は、R43が置換ないし未置換のフェニル基
であり、フェニル基への置換基としてシアン、ニトロ、
−3O2R48(R48はアルキル基)、ハロゲン原子
、トリフルオロメチルであるような化合物である。
一般式[IX]及び[Xlにおいて、R44、R45は
アルキル基、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(
例えばメチル、エチル、tert−ブチル、ドデシルの
各八等)、アルケニル基、好ましくは炭素数2〜20の
アルケニル基(アリル基、オレイル基等)、シクロアル
キル基、好ましくはリール基(例えばフェニル基、トリ
ル基、ナフチル基等)、ヘテロ環基(例えば窒素原子、
酸素原子、もしくはイオウ原子を1〜4個含む5員〜6
員環のへテロ環が好ましく、例えばフリル基、チェニル
基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。)を表す。
アルキル基、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(
例えばメチル、エチル、tert−ブチル、ドデシルの
各八等)、アルケニル基、好ましくは炭素数2〜20の
アルケニル基(アリル基、オレイル基等)、シクロアル
キル基、好ましくはリール基(例えばフェニル基、トリ
ル基、ナフチル基等)、ヘテロ環基(例えば窒素原子、
酸素原子、もしくはイオウ原子を1〜4個含む5員〜6
員環のへテロ環が好ましく、例えばフリル基、チェニル
基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。)を表す。
前記R46、R41及び一般式[IK]及び[XlのR
44、R45には、さらに任意の置換基を導入すること
ができ、具体的には、一般式[v1]及び[Vll]に
おいてR24またはR25に導入することのできるが如
き置換基である。そして置換基としては特にハロゲン原
子(塩素原子、フッ素原子等)が好ましい。
44、R45には、さらに任意の置換基を導入すること
ができ、具体的には、一般式[v1]及び[Vll]に
おいてR24またはR25に導入することのできるが如
き置換基である。そして置換基としては特にハロゲン原
子(塩素原子、フッ素原子等)が好ましい。
一般式[■]、[IX]または[XlおいてZ及びR2
3は各々一般式[v1]及び[VIl]と同様の意味を
有している。R23で表されるパラスト基の好ましい例
は、下記一般式[X[]で表されるス(である。
3は各々一般式[v1]及び[VIl]と同様の意味を
有している。R23で表されるパラスト基の好ましい例
は、下記一般式[X[]で表されるス(である。
2
一般式[X+]
(Rso)K
式中、Jは酸素原子、硫黄原子又はスルホニル基を表し
、KはO〜4の整数を表し、文はO又はlを示し、Kが
2以上の場合2つ以上存在する1’lsoは同一でも異
なっていてもよい、R49は炭素数1〜20の直鎖又は
分岐、及びアリール基等の置換したアルキレン基を表し
、I’lsoは一価の基を表し、好ましくは水素原子、
ハロゲン原子(例えばクロム、ブロム)、アルキル基、
好ましくは直鎖又は分岐の炭素数1〜20のアルキル基
(例えばメチル、t−ブチル、t−ペンチル、t−オク
チル、ドデシル、ペンタデシル、ベンジル、フェネチル
等の各基)、アリール基(例えばフェニル基)、複素環
基(例えば含有チッ素複素環基)アルコキシ基、好まし
くは直鎖又は分岐の炭素数1〜20のアルコキシ基(例
えばメトキシ、エトキシ、t−ブチルオキシ、オクチル
オキシ、デシルオキシ、ドブ3 シルオキシ等の各基)、アリールオキシ基(例えばフェ
ノキシ基)、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、好ましく
はアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオ
キシ2!i(例えばアセトオキシ基、ベンゾイルオキシ
基)、カルボキシ、アルキルオキシカルボニル基、好ま
しくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルカルボ
ニル基、好ましくはフェノキシカルボニル基、アルキル
チオ基、好ましくは炭素数1〜20のアシル基、好まし
くは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルカルボニ
ル基、アシルアミノ基、好ましくは炭素数1〜20の直
鎖又は分岐のアルキルカルボアミド基、ベンゼンカルボ
アミド基、スルホンアミド基、好ましくは炭素数1〜2
0の直鎖又は分岐のアルキルスルホンアミド基又はベン
ゼンスルホンアミド基、カルバモイル基、好ましくは炭
素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルアミンカルボニ
ル基又はフェニルアミノカルボニル基、スルファモイル
基、好ましくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキ
ルアミノスルホニル井父はフェニルアミノスルホニル基
等を表す。
、KはO〜4の整数を表し、文はO又はlを示し、Kが
2以上の場合2つ以上存在する1’lsoは同一でも異
なっていてもよい、R49は炭素数1〜20の直鎖又は
分岐、及びアリール基等の置換したアルキレン基を表し
、I’lsoは一価の基を表し、好ましくは水素原子、
ハロゲン原子(例えばクロム、ブロム)、アルキル基、
好ましくは直鎖又は分岐の炭素数1〜20のアルキル基
(例えばメチル、t−ブチル、t−ペンチル、t−オク
チル、ドデシル、ペンタデシル、ベンジル、フェネチル
等の各基)、アリール基(例えばフェニル基)、複素環
基(例えば含有チッ素複素環基)アルコキシ基、好まし
くは直鎖又は分岐の炭素数1〜20のアルコキシ基(例
えばメトキシ、エトキシ、t−ブチルオキシ、オクチル
オキシ、デシルオキシ、ドブ3 シルオキシ等の各基)、アリールオキシ基(例えばフェ
ノキシ基)、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、好ましく
はアルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオ
キシ2!i(例えばアセトオキシ基、ベンゾイルオキシ
基)、カルボキシ、アルキルオキシカルボニル基、好ま
しくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルカルボ
ニル基、好ましくはフェノキシカルボニル基、アルキル
チオ基、好ましくは炭素数1〜20のアシル基、好まし
くは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルカルボニ
ル基、アシルアミノ基、好ましくは炭素数1〜20の直
鎖又は分岐のアルキルカルボアミド基、ベンゼンカルボ
アミド基、スルホンアミド基、好ましくは炭素数1〜2
0の直鎖又は分岐のアルキルスルホンアミド基又はベン
ゼンスルホンアミド基、カルバモイル基、好ましくは炭
素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキルアミンカルボニ
ル基又はフェニルアミノカルボニル基、スルファモイル
基、好ましくは炭素数1〜20の直鎖又は分岐のアルキ
ルアミノスルホニル井父はフェニルアミノスルホニル基
等を表す。
次に一般式[Vl]又は[■1]で表されるシアンカプ
ラーの具体的な化合物例を示すが、これらに限定されな
い。
ラーの具体的な化合物例を示すが、これらに限定されな
い。
以下余白
5
〔例示化合物〕
C−スタ
−30
1”1IJ
(1)0811.。
6−
H
−33
0−j9。
7
−35
−3I
2H5
−j7
H
8
a−i
0−ノフ
H
9
0−り1
−P2
C−幻
0
0−りt
H
1
C−ψ7
H
C−9?
C−亨り
H
(t)05H。
2
C−50
0−タ1
I−I
−52
1−1
3
−5j
O−4り
C−丁ダ
t
4
0−ff!
−f7
0−51”
5
−57
t
−60
ρl
0−l/
y−r
6
c −/、Z
O2
O−〆j
t
O−1ll
n目
7
−15
−t6
H
C−!?
H
8
O−4J’
0M
02H。
016H3300
1
C−?/
0口
9
−22
LJ
−73
H
−29
t
0
o −7s
O−り1
1
0−’IT
n口
−96
n口
2
O−刊
H
−20
−81
3
−22
−83
1”If−T
−5tA
H
4
0−3y
O−F56
−87
5
−88
−89
−qQ
6−
−92
H
O,H。
04H, I!
0 − 91;−
−9b
H
2H5
−97
H
2H5
−78
0口
8
0−?q
OH
(t)O,II、、
o−to。
OH
NH8O2C1−13
9
2H5
C−10牛
0−11)r
OH
0
−10b
0H,0OOH
−107
0M
C4為5o2NH
O■(
o2NH
(CH2)2002H5
1
c−/1r7
0−//θ
t
Q −//2
OH
2
0−//J
OH
01出、、(n)
0−//≠
(II−1
0−//、f
0M
t
3
t
O−//?
MJ
t
O−/21)
OH
t
4
0−/2/
n■
Q /22
OH
O−/2J
O−/2り
1
5
Q−723″
N
O−/21
OH
N
O−/Z7
n目
N
6
これら本発明のシアンカプラーは公知の方法によって合
成することができ、一般式[v1]で表される化合物の
場合、例えば米国特許3,222,178号、同3,4
48,822号、同3.!398,253号、英国特許
1.011,940号等に記載の合成法によって合成す
ることができる。また一般式[■1]で表される化合物
の場合1例えば米国特許2.772,162号、同3.
758,308号、同3,880,881号、同4,1
24,398号、英国特許975,773号、同8.0
11,693号、同8.011,894号、特開昭47
−21139号、同50−112038号、同55−1
63537号、同56−29235号、同55−993
41号、同56−116030号、同52−69329
号、同56−55945号、同56−80045号、同
50−134644号並びに英国特許1.011,94
0号、米国特許3,448.1322号、同3.898
,253号、特開昭56−65134号、同57−20
4543号、同57−204544号、同57−204
545号、特願昭58−131309号、同56−13
1311号、同幻 56−131314号、同56−130459号、同5
7−149791号、特開昭59−146050号、同
59−188956号、同60−24547号、同60
−35731号、同6〇−37557号等に記載の合成
法によって合成することができる。
成することができ、一般式[v1]で表される化合物の
場合、例えば米国特許3,222,178号、同3,4
48,822号、同3.!398,253号、英国特許
1.011,940号等に記載の合成法によって合成す
ることができる。また一般式[■1]で表される化合物
の場合1例えば米国特許2.772,162号、同3.
758,308号、同3,880,881号、同4,1
24,398号、英国特許975,773号、同8.0
11,693号、同8.011,894号、特開昭47
−21139号、同50−112038号、同55−1
63537号、同56−29235号、同55−993
41号、同56−116030号、同52−69329
号、同56−55945号、同56−80045号、同
50−134644号並びに英国特許1.011,94
0号、米国特許3,448.1322号、同3.898
,253号、特開昭56−65134号、同57−20
4543号、同57−204544号、同57−204
545号、特願昭58−131309号、同56−13
1311号、同幻 56−131314号、同56−130459号、同5
7−149791号、特開昭59−146050号、同
59−188956号、同60−24547号、同60
−35731号、同6〇−37557号等に記載の合成
法によって合成することができる。
一般式[V]、[Vl]又は[■1〕で表されるシアン
カプラーは、本発明の目的に反しない範囲において本発
明外のシアンカプラーと組合せて用いることができる。
カプラーは、本発明の目的に反しない範囲において本発
明外のシアンカプラーと組合せて用いることができる。
また、一般式[vl、[■1及び[■1]のシアンカプ
ラーを1又は2以上併用することもできる。
ラーを1又は2以上併用することもできる。
一般式[V]〜[Vll]で表される本発明に係るシア
ンカプラーをハロゲン化銀乳剤層中に含有させるときは
、通常ハロゲン化銀1モル当り約0.005〜2モル、
好ましくはo、oi−iモルの範囲で用いられる。
ンカプラーをハロゲン化銀乳剤層中に含有させるときは
、通常ハロゲン化銀1モル当り約0.005〜2モル、
好ましくはo、oi−iモルの範囲で用いられる。
功、旦
8
Claims (2)
- (1) ハロゲン化銀カラー写真感光材料を漂白能を有
する処理液で処理する工程と、実質的に水洗工程を経る
ことなく安定化処理する工程を有する処理方法において
、該漂白能を有する処理液が有機酸鉄(II)錯体の少
なくとも一種を0.03〜0.1θモル/旦含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理
方法。 - (2)安定化処理に用いられる水洗代替安定液が。 鉄イオンに対するキレート安定度定数が6以上であるキ
レート剤を含有することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のノ・ロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11094584A JPS60256143A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11094584A JPS60256143A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60256143A true JPS60256143A (ja) | 1985-12-17 |
| JPH0580657B2 JPH0580657B2 (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=14548532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11094584A Granted JPS60256143A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60256143A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS569744A (en) * | 1979-07-05 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Bleaching composition for photographic processing |
| JPS5818632A (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-03 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
| JPS58115438A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−感光材料の処理方法 |
| JPH0580657A (ja) * | 1991-09-25 | 1993-04-02 | Hitachi Metals Ltd | マグネツトロール |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11094584A patent/JPS60256143A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS569744A (en) * | 1979-07-05 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Bleaching composition for photographic processing |
| JPS5818632A (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-03 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
| JPS58115438A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−感光材料の処理方法 |
| JPH0580657A (ja) * | 1991-09-25 | 1993-04-02 | Hitachi Metals Ltd | マグネツトロール |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0580657B2 (ja) | 1993-11-09 |
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