JPS607625A - 磁気媒体をデイスクに適用する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気媒体をディスクに適用する方法に関する。

過去においては、磁気媒体は代表的にはディヌクが低速
度で回転している間に適用されてきた。

そのときのディスクの回転速度は高速回転工程中に増大
せしめられて遠心力によシディスクから余剰の媒体を駆
逐する。例えば、米国特許第４，３５３，９３７号、第
４．１３３，９１１号および第３，１９　Ｂ、６５７号
明細書を参照されたい。次いで、ディスクは焼付けおよ
び研磨する前に磁気配向工程および乾燥工程によ多処理
される。研磨はディスクの表面仕上げを改良しかつディ
スクに付着させた磁気媒体の厚さを減少させるために行
われた。

磁気媒体は非常に低速度でディスクに適用されられたの
で、磁気媒体の粘度が高速回転工程前に非常に迅速に変
化し、その結果ディスクに最終的に接着する磁気媒体の
フィルムの厚さが比較的に厚くなった。

まだ、この方法では、空気で運ばれた微粒がディスク上
に沈積し、そして磁気媒体がディスクから半径方向に駆
逐されるときに磁気媒体が微粒のまわシに流れようとす
るので、その後高速回転工程中に半径方向のランを生ず
る危険性が多分にあった。それに加えて、研磨作業中、
微粒が研磨、テープに付着した場合に、円周方向に引掻
き傷が生じた。そのうえ、磁気媒体が端縁のまわシのデ
ィスクの一方の側からディスクの他方の側に流れる場合
に「ラップアラウンド」として知られているコーティン
グ傷が発生した。

本発明は現在行われているコーテイング後の研磨作業を
なくすことができるように高級の表面仕上げを施された
薄い磁気コーティングフィルムを形成することによジ先
行技術の諸問題を解決するものである。

本発明による好ましい方法によれは、磁気媒体分与ノズ
ルがディスクの外径からその内径まで移動し、その後デ
ィスクの外径まで再び戻るときに、ディスクはコーティ
ング適用工程中高速度で回転せしめられる。高速回転に
より生ずる大きい遠心力およびノズルの高い吐出圧力の
ために、媒体の非常に薄いフィルムのみがディスクに最
終的に接着する。余剰の媒体はディスクがら駆逐される
ときに薄いフィルムに沿って流れてフィルム上に保護層
を形成して粘度の迅速な変化を阻止する。高速回転工程
が省かれ、そして高速コーティング工程直後に、ディス
クの速度が減少され、そして配向工程中に配向磁界にさ
らされる。磁気媒体の粘度変化が最小限にとどめられて
いるため、磁気媒体中の磁気粒子は従来の方法の場合よ
シも配向磁界の方向に適正に整列し易くなシ、その結果
、得られた媒体の記録性が改善される。そのうえ、媒体
フィルムの厚さが従来よシもはるかに薄くかつフィルム
の表面の質がよシ高級であるために、研磨工程をなくす
ことができる。それに加えて、従来の方法の場合と比し
て、媒体が空気で運ばれた微粒およびその他の汚染物に
暴露される機会がはるかに少なくなシ、従って、磁気媒
体の汚染物による汚染が少なくなる。

その結果、過去においては、高速回転速度および高速回
転時間ならびに磁気媒体の粘度が主としてコーティング
の厚さを決定したのに対して、本発明においては、高速
回転工程が省かれ、そして磁気媒体適用中のディスクの
速度、ノズルの移動速度、およびノズル吐出圧力と、本
発明によシ粘度変化を最小限度にとどめることができる
こととによシコーティングの厚さおよび性質を決定する
ことができる。従って、本発明の新しい方法によシ従来
の方法と比較してコーティングパラメータの完全な移動
が得られる。

従って、本発明の一つの目的は、磁気媒体をディスクに
塗布するだめの改良された方法を提供することである。

本発明の別の目的は、コーテイング後の研磨作業を行わ
ないで１０−２０マイクロインｆ程度（Ｄ磁気媒体の非
常に薄いフィルムをディスクに適用することができる方
法を提供することである。

本発明のさらに別の目的は、コーテイング後の研磨を必
要としないような高級の表面仕上げが得られる、媒体を
ディスクに適用する方法を提供することである。

本発明の別の目的は、ディス夛が高速度で回転せしめら
れている間に媒体をディスクに適用する方法を提供する
ことである。

本発明のさらに別の目的は、ディスクへの媒体の適用後
にディスクが直ちに配向磁界にさらされるようガ媒体を
ディスクに適用する方法を提供することである。

本発明のさらに別の目的は、磁気配向工程前の磁気媒体
の粘度変化を最小限にとどめることができる磁気媒体を
ディスクに適用する方法を提供することである。

本発明の別の目的は流れ、研磨引掻き傷およびラップア
ラウンドのようなコーティングの傷を実質的になくすこ
とができる、磁気媒体をディスクに適用する方法を提供
することである。

本発明のさらに別の目的は、磨き油および溶剤を必要と
する方法による研磨よりも寧ろ乾燥パフ磨きのみを必要
とする、磁気媒体をディスクに適用する方法を提供する
ことである。

本発明のこれらの目的およびその他の目的、利点ならび
に新規の特徴は添付図面に関する本発明の以下の詳細な
説明から明らかとなろう。

第１図は本発明の方法を実施しうる簡素化したディスク
コーティング装置１を示す。ディスクコーティング装置
１の基本的な構造そのものだけが本発明にとって重要で
あるので、ディスクコーティング装置１の細部は図示し
ていない。ディスクコーティング装置１は回転スピンド
ル５を備えている。回転スピンドル５の回転速度は、例
えば、少くとも３，８００　ｒ、ｐ、ｍまで可変になっ
ている。

回転スピンドル５は図示していない電源によ多回転せし
められる。磁気媒体が適用されるディスク１０は中央開
口部１２を有している。開口部１２は任意の好適な機構
によシスピンドル５に回転しうるように固定されている
。ディスク１０は内径１４および外径１５を有している
。内径１４および外径１５は磁気媒体が適用されるディ
スク１０の同心状領域１６を規制している。磁気媒体分
与ノズル２０がアーム２５により支持されている。アー
ム２５はまた制御装置（図示せず）によシ制御されるモ
ータ３０によシ枢動せしめられる。アーム２５はノズル
２０を加圧された流体磁気媒体供給源（図示せず）に接
続する流体導管（図示せず）を備えている。好ましい実
施態様においては、ノズル２０の頂部の吐出開口部はほ
ぼ０．５１Ｐｍ（０，０２インチ）である。アーム２５
はモータ３０によシ矢印２７．２８の方向に枢動させる
ことができ、それによりノズル２０は外径１５から内径
１４まで移動し、そして再び内径１４から外径１５まで
戻ることができるようになっている。

モータ３０の制御装置はディスク１０を横切るノズル２
０の移動速度を決定する。ノズル２０の吐出圧力を変更
するだめの機構を設けることができる。

以上、ディスクコーティング装置１０基本的な構造を開
示したが、先行技術による方法をディスクの回転速度−
と時間との関係を示すグラフによシ例示した第２図につ
いて以下に述べることにする。

第２図の慣用の方法によれば、ディスク１０は工程４０
の間、１０秒間はぼ２３００　ｒｐｍで先づ回転せしめ
られ、その間ディスク１０はその表面からいかなる空気
で運ばれた微細な物質または微粒をも除去するために洗
浄溶液を含浸させた綿屑が付着していない布で軽く払拭
される。ディスク１０の速度は工程４２において１６秒
ないし１８秒の間１５０　２５０　ｒｐｍに減少せしめ
られ、その間ノズル２０が外径１５から内径１４まで移
動し、その後外径１５まで戻るときに磁気媒体がノズル
２０により供給される。ノズル２０の吐出圧力はｆ’ｓ
は０．１４　ｋｇ７ａｍ２（２，Ｏｐｓｉｇ　）ないし
０．２１　ｋｇ／ｃｍ２（３，０ｐｓｉｇ　）である。

工程４４は高速回転工程である。この工程では、ディヌ
ク１０の速度はほぼ８秒ないし１２秒間３０００−５４
００’ｒｐｍに上昇せしめられてディスク１０から余剰
の媒体を駆逐してそれによシディスク１０に適用される
磁気フィルムの厚さを規制する。配向工程４６において
は、ディスク１０の速度は１５秒ないし２５秒間５０−
６０　ｒｐｍに減少せしめられ、その間磁界の中に浸漬
されてディスク１０にそのときに適用された媒体層の磁
気粒子を適正に配向させる傾向を生ずる。乾燥工程４８
においては、媒体フィルムの乾燥を促進するために、デ
ィスク１０の速度は２０−２５秒間２６００ｒｐｍに上
昇せしめられる。次いで、ディスク１０は通常の焼イ」
けおよび研磨工程によシ処理される。

以上、第２図の慣用の方法について記載したが、本発明
の改良された方法を第６図に示しである。

本発明の方法はまた溶剤洗浄工程５０から開始される。

この洗浄工程中、ディスク１０は（はぼ）１０秒間（は
ぼ）　２３００　ｒｐｍで回転せしめられ、その間ディ
スク１０はその表面からいかガる空気で運ばれた微細な
異物まだは微粒をも除去するために洗浄溶剤を含浸させ
た糸屑のついていない布で軽く払拭される。この工程は
将来はディスク１０をスピンドル５に配置する前により
良好なディスク取扱方法をとることにより省くことがで
きるようになることが望まれる。溶剤洗浄工程５０の直
後の工程５２において、ディスク１０の速度は（約）８
秒々いし９秒の間（約）３０００−３８００　ｒｐｍに
上昇せしめられ、その間ノズル２０は約０．４２　ｋｇ
／ａｍ２（６ｐｓｉｇ　）ないし０．５６ｋｇ／ｃｒＩ
Ｉ２（８ｐｓｉｇ）　（Ｄ　／ズル吐出圧力でａｉ’ｓ
体を分与し、外径１５から出発して内径１４まで移動し
、内径１４において約１秒間休止し、その後約３．１　
ｃｍ　（１，２インチ）７秒の移動速度で外径１５まで
戻る。第４図および第５図は工程５２の間にディスク１
０への流体磁気媒体の適用を例示している。流体磁気媒
体は重合体結合剤組成物の中に懸濁した酸化鉄粒子を含
んでいる。第４図に示しだように、ノズル２０が外径１
５から内径１４に向かって移動するときに、媒体の薄い
フィルムγ０がディスク１ｏの表面に接着し、その間余
剰の（接着していない）媒体層８０がノズル移動点９０
から外径１５に向かって半径方向に外方に流れ、次いで
ディスク１０の高速回転により発生した遠心力のために
ディスク１０から流出せしめられる。ディスク１０の高
速回転は媒体の非常に薄いフィルム７０のみがディスク
１０に接着することを保証し、かつそれに加えて、保護
層８０がノズル２０の移動点９０から半径方向に外側に
配置された同心円形のディスクの表面全体にわたって延
びることを保証する。ノズル２０が外径１５から内径１
４まで移動する間に余剰媒体層８０が保護層として作用
してその下のフィルム７０の蒸発およびその粘度の迅速
な変化を阻止する。ノズル２０が−たん内径１４に到達
すると、その位置で瞬間的に（約１秒間休止して媒体フ
ィルム７０の端縁が内径１４において良好に規制される
ことを保証する。次いで、ノズル２０は外径１５に向か
って半径方向に外方に復帰移動する。

第５図に示したように、ノズル２０が外径１５に向かっ
て復帰移動するときに、保護層８０もまた外径１５に向
かって復帰移動して薄い媒体層７０を大気に露出させる
。ノズル２０の移動速度は約３．１６ｒｎ（１，２イン
チ）７秒である。ノズル２０が−たん外径１５に到達す
ると、ディスク１０は直ちに第６図の配向工程５４に移
動せしめられる。

この工程５４において、ディスク１０の速度は１０秒な
いし１５秒の間約５２　ｒｐｍに減少せしめられ、その
間ディスク１０は配向磁界にさらされる。薄いフィルム
ＴＯの第一部分が大気にさらされた後、ディスク１０が
配向磁界に数秒間さらされることに留意されたい。その
結果、媒体が最初にディスク１０に適用されそして大気
にさらされたときから配向工程５４の開始まで最小の蒸
発および粘度変化のみが起ることになる。その結果、薄
いフィルム７０の磁気粒子が従来の方法によシ可能であ
った配向よシも配向磁界の線に沿って完全な配向をはる
かに受け易くなる。その結果、仕上げられた製品中の媒
体の質が改良され、そして磁気記録作用のだめの優れた
特性が得られる。

配向工程５４の次に非常に短い乾燥工程５６が行われる
。乾燥工程５４では、ディスク１０は配向磁界が存在し
ない状態で５秒以内の間（約）２３００　ｒｐｍで回転
せしめられて乾燥を促進する。

本発明の方法によシ形成された媒体フィルム７０は従来
の方法で得られた厚さく３０マイクロインチ）よシもは
るかに薄い。（１０マイクロインチ−２０マイクロイン
チ）。その結果、フィルム７０は従来の方法の場合よシ
もはるかに早く乾燥し、そして乾燥工程５６が可成シ短
縮され、そして乾燥工程を省くことすら可能である。

以上、本発明の方法を開示したが、本発明の方法の種々
の利点および特徴について以下記載する。

プロセス全体の時間が従来のプロセスよシも短い。（９
５秒と比較して５５秒）その結果、生産が増大する。し
かしながら、さらに重要なことは、このサイクル時間の
短縮にょシディスクが大気中の汚染物にさらされる時間
間隔が短縮され、従って空気で運ばれた微粒に起因する
コーティングの汚染が減少せしめられることである。こ
れは本発明により形成されたコーティングの厚さが従来
の方法で形成されるコーティングの厚さよシもはるかに
薄いので、コーティングフィルムがはるかに早く乾燥し
、従ってはるかに短い時間間隔中粘着状態として知られ
ている状態である場合に特にあてはまることである。デ
ィスク１０が粘着状態にある間、ディスクは媒体フィル
ム上に落下して粘着する空気で運ばれた微粒によシ最も
汚染され易い。本発明の媒体フィルムは迅速に乾燥する
ので、媒体フィルム上に落下した空気で運ばれた微粒が
従来の方法の揚会と比して粘着する傾向が少くなる。

また、微粒による汚染も新しい方法の自己洸浄作用によ
シ減少せしめられる。すなわち、媒体適用工程中のノズ
ル吐出圧力をよシ高く保ちかつディスクの回転速度をよ
シ高くすることにょシディスク上に落下したいかなる微
粒をも洗い流す傾向が生ずる。この特徴にょセ「ラン」
として知られているコーティングの傷の発生を阻止する
ことができる。従来の方法においては、もしも回転工程
中に微粒がディスク上に存在していたとすれば、微粒が
半径方向に駆逐されるときに媒体が微粒のまわシに流れ
る傾向を生じ、その結果ディスク上に半径方向に向いた
「ラン」を生ずる。本発明の新しい方法では、このよう
な微粒は一般にディスクから洗い流される。

ラップアラウンド型のコーティングの傷もまた本発明の
方法によシなくすことができる。ラップアラウンドは適
用工程または回転工程中にディスクの外縁のまわシのデ
ィスクの一方の側からディスクの他方の側に流れる場合
に発生する。低速度での媒体の適用および高速回転工程
をなくして高速媒体適用工程を採用したために、このよ
うなラップアラウンドの発生が阻止される。

新しい方法によクコ−ティング後の研磨作業をなくした
ために、その他のコーティング傷の発生を阻止すること
ができる。形成されたフィルムの厚−さおよびその表面
の質のために、研磨が不必要である。過去において、こ
のような研磨は表面仕上げを改善しかつ媒体フィルムの
厚さを減少するために行われた。磁気フィルムを薄くす
ることによ勺ディスクによシ緻密に記録することができ
る。

研磨は回転動力が伝達される研磨ナイロンテープによシ
慣習的に行われ、そしてディスクが前記テープで研磨さ
れている間にディスクに研磨溶剤が適用された。もしも
研磨作業中に研磨テープがディスク上の微粒を捕捉した
とすれば、円周方向の引掻き傷が屡々発生する。そのう
え１．研磨溶剤が屡々汚染物をディスクの表面上に導′
入するので、研磨操作後に汚染物を完全に除去すること
はＪ１常に困難であった。研磨工程を行う必要をなくす
こと忙より、媒体上の円周方向の引掻き傷および研磨溶
剤によシ生じた汚れならびにその他の関連した問題もま
たなくすことができる。本発明の方法によシ製造された
ディスクは溶剤による研磨よシも寧ろ単に乾燥したパフ
で軽く研磨することが必要である。

主として、コーティング適用中のディスクの高い回転速
度およびノズル吐出圧力のために改良された方法を使用
してよシ薄い磁気フィルムｆ　ｙ＋イスクに使用できる
ことに注目された。過去において磁気媒体が低速度で適
用された場合、磁気媒体が大気にさらされるディスク上
に適用されたときに磁気媒体の粘度が迅速に増大し、そ
れ故に、高速回転工程が−たん開始されると、磁気媒体
が自由に流れ難くなシ、そして高速回転工程中にょシ多
量の磁気媒体がディスクに接着した。ディスクに適用さ
れるコーティングの厚さに影響をおよぼす別の要素は特
にノズルが内径１４から外径１５に復帰移動するときの
ノズルの移動速度である。

興味をひかれることは、アームの移動速度が低減された
場合に、フィルムの厚さが減少することである。これは
ノズル２０が内径１４から外径１５に復帰移動している
ときにノズル２０から吐出された媒体の流れの圧力のた
めにフィルム２０に穴が形成されることを意味し、まだ
ノズル吐出圧力およびアーム移動速度の両方が媒体フィ
ルムの厚さに影響をおよほすことを示している。

本発明の方法を実施するために使用される装置によシノ
ズル２０を円滑に移動することができることが極めて重
要である。特に内径１４から外径１５に戻る際にノズル
２０が振動する場合に、相応した厚さの変化が起ってフ
ィルムの円周方向において厚さの薄い部分が生ずる。そ
の結果、ノズル２０が枢動アーム２５で支持される状態
で図示しであるが、本発明はこのような構造に使用する
ために限定されるものではなく、ノズル２０を外径１５
と内径１４との間に移動゛するその他の装置もさらに好
適であるか庫しれない。

以上、本発明の好ましい実施態様を開示したが、その多
数の変型および変更は当業者に明らかであ如、従って、
本発明は特許請求の範囲によってのみ限定されるもので
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の改良された方法を実施しうる簡素化し
た磁気媒体コーティング装置の斜視図、第２図は先行技
術による方法を例示した、ディスク回転速度と時間との
関係を示したグラフ、第６図は本発明の改良された方法
を例示した、ディスク回転速度と時間との関係を示した
グラフ、第４図は媒体をディスクに付着させかつディス
クの外径からその内径に向かって移動するノ′ズル２０
を例示した横断面を示す立面図、第５図はディスクの内
径から戻ってディスクの外径に向かって移動する間に媒
体をディスクに付着させるノズル２０を例示した横断面
を示した立面図である。 ５・・・スピンドル、１０・・・ディスク、１２・・・
中央開口部、１４・・・内径、１５・・・外径、２０・
・・ノズル、５２・・・コーティング適用工程、５４・
・・磁気配向工程、５６・・・乾燥工程、７０・・・媒
体フィルム、８０・・・保護層。 糟　＆’ｔ　昨ｙ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１ン　電源によシ回転可能なスピンドルと、内径、外
   径および中央開口部を有するディスクとを有し、前記デ
   ィスクが前記中央開口部において前記スピンドルに回転
   するように固定され、さらに、磁気媒体を前記ディスク
   上にノズル吐出圧力で分与するためのノズルを有し、前
   記ノズルが前記ディスクに対して移動しうるように装着
   されかつ前記外径と前記内径との間で移動可能でおる装
   置において、高速コーティング適用工程中に前記ディス
   クを少くとも５０００　ｒｐｍの回転速度で回転し、前
   記コーティング適用工程中に前記ノズルが前記外径と前
   記内径との間を移動するときに前記磁気媒体を前記ノズ
   ルからノズル吐出圧力で前記ディスクに適用し、そして
   前記コーティング適用工程直後の配向工程中に前記ディ
   スクの回転速度を減少し、前記配向工程中に前記ディス
   クが配向磁界にさらされる諸工程を含むことを特徴とす
   る磁気媒体をディスクに適用する方法。 （２、特許請求の範囲第１項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記コーティング適用工程
   中に前記磁気媒体が前記ノズルから所定のノズル吐出圧
   力で分与され、かつ前記コーティング適用工程中の前記
   ノズル吐出圧力が少くとも肌４２　ｋｇ／ｃｍ２（６ｐ
   ｓｉｇ　）であることを特徴とする磁気媒体をディスク
   に適用する方法。 （３）特許請求の範囲第１項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記コーティング適用工程
   の開始時において、前記ノズルが前記ディスクの前記外
   径において磁気媒体の分与を開始して前記ディスクの前
   記内径に向かって移動し、そして前記コーティング適用
   工程の終りに前記ディスクの前記内径から前記ディスク
   の前記外径まで戻ることを特徴とする磁気媒体をディス
   クに適用する方法。 （４）特許請求の範囲第６項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記コーテイング適用工程
   中、前記ノズルが前記外径から前記内径に向かって移動
   するときに磁気媒体の薄いフィルムが前記ディスクに接
   着し、かつ過剰な磁気媒体の保護層が前記回転している
   ディスクの遠心力のために前記ノズルから半径方向に外
   方に前記薄いフィルムの上を流れ、前記ノズルが−たん
   前記内径に達すると、前記保護層が前記内径から前記外
   径まで延び、前記保護層が前記ノズルと共に前記外径に
   向かって前進しかつ前記ノズルが前記内径から前記外径
   まで移動するときに前記フィルムを露出させることを特
   徴とする磁気媒体をディスクに適用する方法。 （５）％許請求の範囲第４項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記コーティング適用工程
   中、前記ノズルが前記外径から前記内径まで−たん移動
   したとき、前記ノズルが前記内径から前記外径まで戻る
   前に約１秒の時間間隔休止することを特徴とする磁気媒
   体をディヌクに適用する方法。 （６）特許請求の範囲第４項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記ノズルが前記外径から
   前記内径まで移動する間所定の移動速度を有し、かつ前
   記ノズルの前記移動速度が前記コーティング適用工程中
   ２．５　Ｃ７ｎ（１，０インチ）７秒ないし３．８Ｃｒ
   ｎ（１，５インチ）７秒であることを特徴とする磁気媒
   体をディスクに適用する方法。 （７）特許請求の範囲第１項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、さらに、前記配向工程に引
   続く乾燥工程を含み、前記乾蜂工程中、前記フィルムの
   乾燥を促進するために前記ディスクの回転速度を増大さ
   せることを特徴とする磁気媒体をディスクに適用する方
   法。 （８）特許請求の範囲第１項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記コーティング適用工程
   が７秒ないし１０秒の持続時間を有していることを特徴
   へする磁気媒体ケディスクに適用する方法。 （９）％許請求の範囲第１項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記コーティング適用工程
   中、前記回転速度が３０”００　ｒｐｍないし５８００
   　ｒｐｍの範囲内にあることを特徴とする磁気媒体をデ
   ィスクに適用する方法。 （１０）　％許請求の範囲第１項に記載の磁気媒体をデ
   ィスクに適用する方法において、前記コーティング適用
   工程中、前記ノズル圧力が０．４２　ｋｇ／ｃＩｎ２（
   ６ｐｓｉｇ　）ないし０．５６　ｋｌｉ’／ｃＩｎ”　
   （８ｐｓｉｇ　）の範囲内にあることを特徴とする磁気
   媒体をディスクに適用する方法。 ０］）特許請求の範囲第１項に記載の磁気媒体をディス
   クに適用する方法において、前記コーティング適用工程
   が７秒ないし１０秒の範囲内の持続時間を有し、かつ前
   記コーティング適用工程中、前記回転速度が６００　Ｏ
   ｒｐｍないし６８００　ｒｐｍでありかつ前記ノズル吐
   出圧力が０．４２　ｋｇ７ｃｍ２（６ｐθｉｇ）ないし
   ０．５６　（８ｐｓｉｇ）であることを特徴とする磁気
   媒体をディスクに適用する方法。