JPS6095705A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6095705A JPS6095705A JP20304983A JP20304983A JPS6095705A JP S6095705 A JPS6095705 A JP S6095705A JP 20304983 A JP20304983 A JP 20304983A JP 20304983 A JP20304983 A JP 20304983A JP S6095705 A JPS6095705 A JP S6095705A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- substrate
- thin film
- forming
- magnetic head
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、コア素片の磁気ギヤング形成面側に、コア素
片よシも高い飽和磁束密度を有する磁性材料薄膜を配す
る工うに、した磁気ヘッドの製造方法に関する。
片よシも高い飽和磁束密度を有する磁性材料薄膜を配す
る工うに、した磁気ヘッドの製造方法に関する。
たとえばＶＴＲ（ビデオチープレコーター）川の磁気記
録媒体である磁気テープに磁気記録さノする信号が高密
度化さ九でぐるに従い、磁気テープとして高い残留磁束
密度Ｂｒをイ→するノクルテープ等７が使用さｎてきて
いる。このメタルテープ痔の高い抗磁力１−ｆｃ（ｒ持
つ磁気テープに用いらｇる磁気へメトは、磁気ギャップ
近傍の磁界強度を・高くする必要がある。そこで、この
磁気へノドは、磁気ヘッドを・ｔ１６成する磁性月別コ
ア素片の持つ飽和磁束密度よりも高い飽和磁束密１及を
有する磁性（Ａ別’ｆｉ’Ｊ Ｉ模を、コア素片の磁気
キャノグ形成面側に、一対のコア素片の一方または両方
に配するようにしている。
録媒体である磁気テープに磁気記録さノする信号が高密
度化さ九でぐるに従い、磁気テープとして高い残留磁束
密度Ｂｒをイ→するノクルテープ等７が使用さｎてきて
いる。このメタルテープ痔の高い抗磁力１−ｆｃ（ｒ持
つ磁気テープに用いらｇる磁気へメトは、磁気ギャップ
近傍の磁界強度を・高くする必要がある。そこで、この
磁気へノドは、磁気ヘッドを・ｔ１６成する磁性月別コ
ア素片の持つ飽和磁束密度よりも高い飽和磁束密１及を
有する磁性（Ａ別’ｆｉ’Ｊ Ｉ模を、コア素片の磁気
キャノグ形成面側に、一対のコア素片の一方または両方
に配するようにしている。
つぎに、このような磁気ヘットの従来よシ知られる製造
方法の説明ケ行なう。
方法の説明ケ行なう。
丑ず、第１図Ａに示すように、コア素片の軟磁性飼料と
なるたとえばマンガン ジンク フェライト（Ｍｎ−Ｚ
ｎンエライト）基板１の表面を研削したのち、鏡面研磨
を行なう０ つき゛に、第１図Ｂに示すように、鏡面研磨した基板１
面にＭ ｎ −Ｚ ｎフェライトよシも高飽和磁束密度
をイ１するたとえばセンダストよりなる磁性材料薄膜２
をスパフタリング等を用いて被着形成する。つきに、第
１図Ｃに示すように、所定のトランク幅Ｔｗが得らｎる
。ｒ、りにトランク幅設定用の苛３を砥石によるいわゆ
るラッピングあるいはエノチンダにより上記基板１上に
形成する。つぎに、第１図りに示すように、巻線側コア
素片となるＭｌｌ −Ｚ ｎフェライトブロック４と上
記溝３が形成されたグロック５とを、ギヤングスペーサ
を介して、ガラスケ用い融着接合する。そして、その後
、接合されたプロ７２７１個の磁気ヘッド相当分に切断
分割し、１１１面研磨および磁気テープ当接面の円筒研
磨と行ない、第２図に示す磁気ヘッドを得る。この第２
図で、コア素片７はフェライトブロック５を旬材として
形成さｎｌ コア素片８はフェライトブロック４を母材
として形成さ几る。
なるたとえばマンガン ジンク フェライト（Ｍｎ−Ｚ
ｎンエライト）基板１の表面を研削したのち、鏡面研磨
を行なう０ つき゛に、第１図Ｂに示すように、鏡面研磨した基板１
面にＭ ｎ −Ｚ ｎフェライトよシも高飽和磁束密度
をイ１するたとえばセンダストよりなる磁性材料薄膜２
をスパフタリング等を用いて被着形成する。つきに、第
１図Ｃに示すように、所定のトランク幅Ｔｗが得らｎる
。ｒ、りにトランク幅設定用の苛３を砥石によるいわゆ
るラッピングあるいはエノチンダにより上記基板１上に
形成する。つぎに、第１図りに示すように、巻線側コア
素片となるＭｌｌ −Ｚ ｎフェライトブロック４と上
記溝３が形成されたグロック５とを、ギヤングスペーサ
を介して、ガラスケ用い融着接合する。そして、その後
、接合されたプロ７２７１個の磁気ヘッド相当分に切断
分割し、１１１面研磨および磁気テープ当接面の円筒研
磨と行ない、第２図に示す磁気ヘッドを得る。この第２
図で、コア素片７はフェライトブロック５を旬材として
形成さｎｌ コア素片８はフェライトブロック４を母材
として形成さ几る。
以上、説明したように従来の製造方法では、Ｍｎ−Ｚｎ
フェライト基板１上に磁性材料薄膜２を被着形成したの
ち、上記トランク幅設定用の溝３を形成するようにして
いる。このため、このトランク幅設定用の溝３を形成す
るたとえば機械加工により、上記薄膜２にストレスがか
かり、薄膜２が剥離したり、また薄膜２の力（江端が変
質したりする。また、加工端にパリの発生もあり、この
／くりを除去する工程も別に必要であった０さらに、薄
膜２およびフェライト基板界面へのストレスは、薄膜２
が剥離しない場合でも、ガラス６による融着接合時に、
このガラス６の滲みこみにより、擬似ギヤングが形成さ
几るおそｇがある○このように、従来の磁気ヘッドの製
造方法においては、安定な製造が行なえないという問題
点金有していた０ 〔発明の目的〕 そこで、本発明はこのような実情に鑑み提案さｆＬｆＣ
ものであり、コア素片に用いら几る磁性材料ニジも高い
飽和磁束密度を有する磁１牛月利薄膜をコア素片の磁気
ギヤツブ形成面側に被着形成するような磁気ヘッドの製
造方法において、トランク幅設定用の溝を形成する際に
、上記薄膜にストレスがか刀へるようなことはなく、丑
だ膜の剥離が起こるようなことのない安定な磁気ヘッド
の製造方法を提供することを目的とする。
フェライト基板１上に磁性材料薄膜２を被着形成したの
ち、上記トランク幅設定用の溝３を形成するようにして
いる。このため、このトランク幅設定用の溝３を形成す
るたとえば機械加工により、上記薄膜２にストレスがか
かり、薄膜２が剥離したり、また薄膜２の力（江端が変
質したりする。また、加工端にパリの発生もあり、この
／くりを除去する工程も別に必要であった０さらに、薄
膜２およびフェライト基板界面へのストレスは、薄膜２
が剥離しない場合でも、ガラス６による融着接合時に、
このガラス６の滲みこみにより、擬似ギヤングが形成さ
几るおそｇがある○このように、従来の磁気ヘッドの製
造方法においては、安定な製造が行なえないという問題
点金有していた０ 〔発明の目的〕 そこで、本発明はこのような実情に鑑み提案さｆＬｆＣ
ものであり、コア素片に用いら几る磁性材料ニジも高い
飽和磁束密度を有する磁１牛月利薄膜をコア素片の磁気
ギヤツブ形成面側に被着形成するような磁気ヘッドの製
造方法において、トランク幅設定用の溝を形成する際に
、上記薄膜にストレスがか刀へるようなことはなく、丑
だ膜の剥離が起こるようなことのない安定な磁気ヘッド
の製造方法を提供することを目的とする。
この目的を達成するために本発明の磁気ヘッドの製造方
法は、第１の磁性基板にトランク幅を残して複数の消音
形成する工程と、上記ａ件基板よりも高飽和磁束密度を
有する磁性材料薄膜を第１の磁性基板の溝加工面側に形
成する工程と、第２の磁性基板に巻線穴となる溝を形成
する工程と、上記第１の磁性基板と上記第２の磁性基板
と全所要ギヤノブ間隔となるギャップスペーサ全介して
接合する工程と、合体した第１および第２の磁性基板を
第１Ｌ０Ｄ磁性基板に形成した上記溝部分ですＪ断しヘ
ントチノブを得る工程とを有することを特徴とする。
法は、第１の磁性基板にトランク幅を残して複数の消音
形成する工程と、上記ａ件基板よりも高飽和磁束密度を
有する磁性材料薄膜を第１の磁性基板の溝加工面側に形
成する工程と、第２の磁性基板に巻線穴となる溝を形成
する工程と、上記第１の磁性基板と上記第２の磁性基板
と全所要ギヤノブ間隔となるギャップスペーサ全介して
接合する工程と、合体した第１および第２の磁性基板を
第１Ｌ０Ｄ磁性基板に形成した上記溝部分ですＪ断しヘ
ントチノブを得る工程とを有することを特徴とする。
以下、本発明の一実施例ケ図面に基づき説明する。
第３図は、本発明に係る磁気ヘンドの製造方法の工程図
金示しておシ、また第４図は、この製造方法によって作
ら九た磁気ヘッドの外観斜視図である。
金示しておシ、また第４図は、この製造方法によって作
ら九た磁気ヘッドの外観斜視図である。
ところで、この磁気へノドは巻線穴１１が形成されるコ
ア素片１３にギャップスペーサ１５を介してガラス１６
を用い隔着接合されるコア素片１２の磁気ギヤツブ形成
面側にのみ磁性材料薄膜１４が被着形成されている。こ
の磁性材料薄膜１４は、上記コア素片１２，１３に用い
られるたとえばマンガンジンクツエライト（Ｍｎ−Ｚｎ
フェライト〕よシも高い飽和磁束密度２有している。こ
のような磁気ヘッドは、磁気ギャップより発生する磁界
強度が高く、高い抗磁力Ｈｃ’に有するメク、＋１／テ
ープ等の磁気テープに用いら肌る。また、上記製造方法
は、トラック幅Ｔｗの狭いたとえば２０μｔｎであるよ
うな磁気ヘッドの製造方法として有効であシ、このよう
な磁気ヘッドは、ビテメーヘノド、ビデオ用フライング
イレーズヘッド（回転型消去ヘッド）、固定ヘッド、ま
たＰＣＭ用ヘッド傅志して用いら九る。
ア素片１３にギャップスペーサ１５を介してガラス１６
を用い隔着接合されるコア素片１２の磁気ギヤツブ形成
面側にのみ磁性材料薄膜１４が被着形成されている。こ
の磁性材料薄膜１４は、上記コア素片１２，１３に用い
られるたとえばマンガンジンクツエライト（Ｍｎ−Ｚｎ
フェライト〕よシも高い飽和磁束密度２有している。こ
のような磁気ヘッドは、磁気ギャップより発生する磁界
強度が高く、高い抗磁力Ｈｃ’に有するメク、＋１／テ
ープ等の磁気テープに用いら肌る。また、上記製造方法
は、トラック幅Ｔｗの狭いたとえば２０μｔｎであるよ
うな磁気ヘッドの製造方法として有効であシ、このよう
な磁気ヘッドは、ビテメーヘノド、ビデオ用フライング
イレーズヘッド（回転型消去ヘッド）、固定ヘッド、ま
たＰＣＭ用ヘッド傅志して用いら九る。
つきに、第３図を参照して上記製造方法の工程を順を追
って説明する。
って説明する。
まず、第３図Ａに示すように、たとえばＭｎ−Ｚｎノエ
ライトよりなる第１のｍ性基板２２の表面を研削する。
ライトよりなる第１のｍ性基板２２の表面を研削する。
この磁性基板２２ば、上記コア素片１２の母材である。
つきの工程で、第３図Ｂに示すように、」二記基板２２
に、トランク幅Ｔｗｉ残して、トランク幅設定用の溝３
１を砥石を用いた機械加工等にょシ複数形成し、その後
加工面側を鏡面研磨する。
に、トランク幅Ｔｗｉ残して、トランク幅設定用の溝３
１を砥石を用いた機械加工等にょシ複数形成し、その後
加工面側を鏡面研磨する。
つぎの工程で、第３図Ｃに示すように、上記基板２２の
溝３１の加工面側全面に、この基板２２よりも高い飽和
磁束密度を有するたとえばいわゆるセンダストよシなる
磁性材料薄膜２４全、スパッタリング等に、に９被着形
成する。
溝３１の加工面側全面に、この基板２２よりも高い飽和
磁束密度を有するたとえばいわゆるセンダストよシなる
磁性材料薄膜２４全、スパッタリング等に、に９被着形
成する。
つぎの工程で、第３図りに示すように、たとえばＭ ｎ
−Ｚ ＩＮフェライトよシなる第２の磁性基板２３に
上記巻線穴１１となる溝３芝および位置合せ基準面とな
る溝３３を形成する。
−Ｚ ＩＮフェライトよシなる第２の磁性基板２３に
上記巻線穴１１となる溝３芝および位置合せ基準面とな
る溝３３を形成する。
つぎの工程で、第３図Ｅに示すように、上記第１の磁１
寸基板２２と上記第２の磁性基板２３とを、所要のギャ
ップ間隔ｔが形成さノするようにギャノプスペー＋ｊを
介して、ガラスを用い融着接合する。
寸基板２２と上記第２の磁性基板２３とを、所要のギャ
ップ間隔ｔが形成さノするようにギャノプスペー＋ｊを
介して、ガラスを用い融着接合する。
ところで、このギャップスペーサは、スパッタリング等
を用いて被着さ九る。
を用いて被着さ九る。
７后゛
そして、つぎの工程で、全体した上記基板２２．２３を
第３図Ｆに示すように、第１の基板２２に形成した溝３
１の各部分の中心を通る二点鎖線ｑで切断するとともに
、二点鎖線ｒで切断し、分割さｆＬｆｃヘントチノブ３
４を得る。このヘンドチング３４は、１個の磁気へノド
に相当している。
第３図Ｆに示すように、第１の基板２２に形成した溝３
１の各部分の中心を通る二点鎖線ｑで切断するとともに
、二点鎖線ｒで切断し、分割さｆＬｆｃヘントチノブ３
４を得る。このヘンドチング３４は、１個の磁気へノド
に相当している。
その後、ヘンドチンプ３４の側面研磨および磁気テープ
当接面の円筒研磨ケ行ない、第４図に示す磁気へノドを
得る。
当接面の円筒研磨ケ行ない、第４図に示す磁気へノドを
得る。
このように本発明によれは、トランク幅設定用の溝３１
を形成加工したのち、たとえばセンダストよシなる磁性
相ＡＣ１薄膜２４勿被着形成している。
を形成加工したのち、たとえばセンダストよシなる磁性
相ＡＣ１薄膜２４勿被着形成している。
このため、溝３１の形成時にストレスが薄膜２４に加え
られることはなく、このストレスが加えられることで従
来発生していた薄膜２４の剥離や加工端の変質が防止さ
れ、−また加工端にパリが発生ずるようなこともない。
られることはなく、このストレスが加えられることで従
来発生していた薄膜２４の剥離や加工端の変質が防止さ
れ、−また加工端にパリが発生ずるようなこともない。
また、擬［以ギヤノン°が形成されるようなこともない
。
。
この、］：９に、不発り」によって、非常に安定した磁
気ヘッドの製造が可能となる。１ ところで、第５図は本発明の他の実施例によって形成さ
九た磁気ヘッドを示している。この実施例によれば、溝
３１を形成加工し全面に薄膜２４を被着形成したのち、
溝３１の各部分近傍に被着した薄膜２４を機械加工によ
り除去している。このため、磁気ヘッドには磁気ギヤン
グ周辺（でのみ薄膜１７が残り、コア素片１２と融着接
合用のガラス１６とが直接接合さｉするため、肋膜２４
の被着強度によらず一定のチップ強度を得ることができ
る。
気ヘッドの製造が可能となる。１ ところで、第５図は本発明の他の実施例によって形成さ
九た磁気ヘッドを示している。この実施例によれば、溝
３１を形成加工し全面に薄膜２４を被着形成したのち、
溝３１の各部分近傍に被着した薄膜２４を機械加工によ
り除去している。このため、磁気ヘッドには磁気ギヤン
グ周辺（でのみ薄膜１７が残り、コア素片１２と融着接
合用のガラス１６とが直接接合さｉするため、肋膜２４
の被着強度によらず一定のチップ強度を得ることができ
る。
以上述べた２つの実施例では、ギャップスペーサ１５の
片側にのみ磁性材料薄膜を配するようにしているが、両
側に配するようにした磁気ヘッドについても本発明を適
用できる。
片側にのみ磁性材料薄膜を配するようにしているが、両
側に配するようにした磁気ヘッドについても本発明を適
用できる。
ところで、第１．第２の磁性基板２２．２３の磁性材料
としてＭｎ−Ｚｎフェライトの他に、ニッケルジンクツ
エライト（Ｎｉ−Ｚｎノエライト）等を用いてもよい。
としてＭｎ−Ｚｎフェライトの他に、ニッケルジンクツ
エライト（Ｎｉ−Ｚｎノエライト）等を用いてもよい。
また、磁性材料薄膜の高飽和磁束密度旧制としては、鉄
−アルミニウム−シリコン系（Ｆｅ−ＡＪ、−８ｉ系）
の上述のいわゆるセンダストの他に、Ｍ−Ｘで示さ■る
非晶質材料を用いてもよい。ここで、ＭｌｄＦｅ 、
Ｃｏ （コバ／ｌ／ト）、Ｎｉ であシ、Ｘは／ζトえ
ばｓｌ、Ｂ（はう素）、Ｐ（リン）、Ｃ（カーボン）等
であり、具体的には」二記非晶質拐相として、Ｆ”ｅ−
Ｃｏ−８ｉ−Ｂ系の磁性材料が上げら九る〇 〔発明の効果〕 以上の説明から明らかなように、本発明にょｆＬば、コ
ア素片の母材となる磁性基板にトランク幅設定用の溝を
形成加工したのち、」二記磁注基板とは異なる飽和磁束
密度を有する磁性材料薄膜ケ、溝加工面側の上記磁性基
板上に被着形成するようにしている。このため、薄膜に
溝形成時の機械川ｊ工によるストレスが加わることがな
く、薄膜の剥ｔｉｅｒ 、加工端の変質が防１」二され
る。さらに、加工端にパリが発生ずるようなことはない
。また、擬似ギヤングの形成も防止される。
−アルミニウム−シリコン系（Ｆｅ−ＡＪ、−８ｉ系）
の上述のいわゆるセンダストの他に、Ｍ−Ｘで示さ■る
非晶質材料を用いてもよい。ここで、ＭｌｄＦｅ 、
Ｃｏ （コバ／ｌ／ト）、Ｎｉ であシ、Ｘは／ζトえ
ばｓｌ、Ｂ（はう素）、Ｐ（リン）、Ｃ（カーボン）等
であり、具体的には」二記非晶質拐相として、Ｆ”ｅ−
Ｃｏ−８ｉ−Ｂ系の磁性材料が上げら九る〇 〔発明の効果〕 以上の説明から明らかなように、本発明にょｆＬば、コ
ア素片の母材となる磁性基板にトランク幅設定用の溝を
形成加工したのち、」二記磁注基板とは異なる飽和磁束
密度を有する磁性材料薄膜ケ、溝加工面側の上記磁性基
板上に被着形成するようにしている。このため、薄膜に
溝形成時の機械川ｊ工によるストレスが加わることがな
く、薄膜の剥ｔｉｅｒ 、加工端の変質が防１」二され
る。さらに、加工端にパリが発生ずるようなことはない
。また、擬似ギヤングの形成も防止される。
このため本発明によれば、磁気へノドの製造の歩留捷り
を向上することが可能であるとともに、磁気へノドの品
質向上ケ図ることができる。
を向上することが可能であるとともに、磁気へノドの品
質向上ケ図ることができる。
第１図は従来の磁気ヘッドの製造方法ケ示す工程図、第
２図ｉ−，Ｊ： Ｊニー記従来の製造方法によって作ら
れた磁気へノドの外観斜視図、第３図（ｒｉ本発明に図 係る磁気へノドの製造方法を示す工程度、第４図は上記
本発明の製造方法によって作られた磁気ヘッドの外貌斜
視図、第５図は本発明の他の実施例によって作ら九た磁
気へノドの外観余（親図である。 １１・・・巻線穴 １４．１７・・・磁性材料薄膜 １５・・・ギャップスペーサ １６・・・ガラス ２２．２３・・・磁性基板 ２４・・・磁性材料薄膜 ３１・・・ トランク幅設定用の溝 ３２・・・巻、線式となる溝 ３４−・・ヘントチノブ 特許出願人 ソニー株式会社 代理人 弁理士 小 池 晃 同 １） 利 榮 − 第１Ｉ人
２図ｉ−，Ｊ： Ｊニー記従来の製造方法によって作ら
れた磁気へノドの外観斜視図、第３図（ｒｉ本発明に図 係る磁気へノドの製造方法を示す工程度、第４図は上記
本発明の製造方法によって作られた磁気ヘッドの外貌斜
視図、第５図は本発明の他の実施例によって作ら九た磁
気へノドの外観余（親図である。 １１・・・巻線穴 １４．１７・・・磁性材料薄膜 １５・・・ギャップスペーサ １６・・・ガラス ２２．２３・・・磁性基板 ２４・・・磁性材料薄膜 ３１・・・ トランク幅設定用の溝 ３２・・・巻、線式となる溝 ３４−・・ヘントチノブ 特許出願人 ソニー株式会社 代理人 弁理士 小 池 晃 同 １） 利 榮 − 第１Ｉ人
Claims (1)
- 第１の磁性基板にトランク幅を残して複数の消音形成す
る工程と、上記磁性基板よりも（％飽和磁束密度を有す
る磁性、飼料薄膜を第１の磁性基板の溝加工面側に形成
する工程と、第２の磁性基板に巻線穴となる溝を形成す
る工程と、上記第１の磁性基板と上記第２の磁！生基板
とを所要ギヤング間隔となるギャップスペーサを介して
接合する工程と、合体した第１および第２の磁性基板金
弟１の磁性基板に形成した上記溝部分で切断−へノドチ
ンプを得る工程とを有することを特徴とする磁気ヘッド
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20304983A JPS6095705A (ja) | 1983-10-29 | 1983-10-29 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20304983A JPS6095705A (ja) | 1983-10-29 | 1983-10-29 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6095705A true JPS6095705A (ja) | 1985-05-29 |
Family
ID=16467491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20304983A Pending JPS6095705A (ja) | 1983-10-29 | 1983-10-29 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6095705A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62223807A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-10-01 | Hitachi Metals Ltd | 複合型磁気ヘツド |
| JPS63175211A (ja) * | 1987-01-16 | 1988-07-19 | Seiko Epson Corp | 複合磁気ヘツド |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59207415A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | Hitachi Ltd | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 |
-
1983
- 1983-10-29 JP JP20304983A patent/JPS6095705A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59207415A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | Hitachi Ltd | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62223807A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-10-01 | Hitachi Metals Ltd | 複合型磁気ヘツド |
| JPS63175211A (ja) * | 1987-01-16 | 1988-07-19 | Seiko Epson Corp | 複合磁気ヘツド |
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