JPS61140102A - 薄膜抵抗装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は薄膜抵抗装置の製造方法に関するものである
。

〔従来の技術〕

従来の薄膜抵抗装置においては、第４図示のように絶縁
基板１０上に薄膜抵抗１１をパターン形成し、コンタク
ト部分にアルミ配線ｔ２．ｔ５を形成していた。

〔発明が解決しＬうとする問題点〕

抵抗値はコンタクト部分の距離にＬシ決められるが、上
述の従来例では、アルミ配線のエツチング加工精度はあ
まシエぐなく、高精度の抵抗値を得ることが困難であっ
た。また抵抗体としてＯｒ・Ｓ１系の材料を用いたとき
配線材料のアルミニウム□ はシリコンＳ１と反応しやすぐ、Ｃｒ５ａｉ材の抵抗値
が変わるという欠点もあった。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明は上記従来技術における欠点を解決するための
もので、抵抗体の上を絶縁−でＩｍ覆し、その絶縁嗅に
コンタクト窓をあけることにＬす、コンタクト間の距離
を制御して高精度の抵抗を得ようとするものである。

〔実施例〕

第１図において、絶縁基板１上に薄膜抵抗体２をパター
ン形成する。抵抗体２の材料としては、Ｏｒ＊Ｓｊ、系
の材料などが用いられ、これを絶縁基板１上にデポジシ
ョンし、ホトエツチングでバター二／グする。その上に
シリコン酸化物Ｓｉｎ、にニジ絶縁１１！５を全１１ｉ
ｌｉＫ被覆形成した後、コンタクト部分４．５′をホト
エツチングで窓明けする（第２図）。そしてコンタクト
部分４．５にアルミニウムで配線パターン６．７を形成
する（第５図）。

〔発明の効果〕

本発明においては、コンタクト部分が窓明けされるが、
絶縁１１ｇ８１０．の窓明けの方が従来Ｋかけるアルミ
配線ニジも梢度工くできるため、コンタクト間の距離の
制御がよ）正確にでき、したがって抵抗の精度を上げる
ことができる。また、抵抗材料１１ＣＯｒ−８１，系材
料を用いた場合には、Ｃｒ−８１系材料がアルミニウム
と接触するのはコンタクトホール部分だけに限られて、
これは一定かつ小さくすることができるため、薄膜抵抗
形成時における抵抗材料の比抵抗が保たれ、再現性のＬ
い抵抗値がえられる。

【図面の簡単な説明】

第１〜第５図は本発明方法の実施例を製造工程を追って
示す断面図で、ｌ！４図は従来例の断面図である。 １・・・絶縁基板 ２・・・薄嘆抵抗体 ３・・・絶縁嘆 ４・・・コンタクト部分 ５・・・コンタクト部分 ６・・・配線パターン ７・・・配線パターン 以　　　上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 絶縁基板上に薄膜抵抗体をパターン形成し、その上に絶
   縁膜を形成し、上記絶縁膜をエッチングしてコンタクト
   部分を窓明けし、上記コンタクト部分に配線形成をおこ
   なうことを特徴とする薄膜抵抗装置の製造方法。