JPS6172631A - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
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- JPS6172631A JPS6172631A JP19258184A JP19258184A JPS6172631A JP S6172631 A JPS6172631 A JP S6172631A JP 19258184 A JP19258184 A JP 19258184A JP 19258184 A JP19258184 A JP 19258184A JP S6172631 A JPS6172631 A JP S6172631A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明に、ガラスの製造方法に関するものであり、詳し
くは、金属アルコキシドを原料としてゾルゲル法にエフ
ガラス全製造する方法に関する。
くは、金属アルコキシドを原料としてゾルゲル法にエフ
ガラス全製造する方法に関する。
現在、元ファイバーのプリフォームを作製する方法とし
て[、VAD法ヲハじめとする、810L4等を火炎中
に通しガラス微粒子金ターゲツト上に堆積させ、得られ
tガラス多孔質体全焼結しガラス塊金得る、といり方法
が主流になっている。これは高純度の多孔質ガラス全比
較的安価に得らnる優tた方法である。しかしこの方法
は気相反応である九め、添加物として使える物質がガス
化できるものに限らnる。という欠点があつto そこで、近年、この欠点を補り方法として、S1金主体
とした金属アルコキシド’!l−7JD水分解し、シリ
カゲルあるいに添加元iTh含むシリカゲル金得、該シ
リカゲル?乾燥させた後魚孔化処理等全行い透明ガラス
全得る方法が盛んに研究されている。
て[、VAD法ヲハじめとする、810L4等を火炎中
に通しガラス微粒子金ターゲツト上に堆積させ、得られ
tガラス多孔質体全焼結しガラス塊金得る、といり方法
が主流になっている。これは高純度の多孔質ガラス全比
較的安価に得らnる優tた方法である。しかしこの方法
は気相反応である九め、添加物として使える物質がガス
化できるものに限らnる。という欠点があつto そこで、近年、この欠点を補り方法として、S1金主体
とした金属アルコキシド’!l−7JD水分解し、シリ
カゲルあるいに添加元iTh含むシリカゲル金得、該シ
リカゲル?乾燥させた後魚孔化処理等全行い透明ガラス
全得る方法が盛んに研究されている。
一例?挙げnば、シリコンテトラメトキシIClSi
のアルコキシド?希釈液例えばエタ/ −ルと充分に攪
拌混合しt後、水?加え更に攪拌して加水分解する。こ
の時水ににアンモニア等pH調整剤で加えておくことが
好ましい。加水分解反応の開始と共に粒子の析出が始ま
り、該反応溶液を内面にシリコ−7?塗った容器に移し
、乾燥時間?長くできる工うにアルミ箔等で蓋?して例
えば60′C程度の恒温槽中にてゆっくり乾燥させるこ
とに=9、ゾル液のゲル化お工びゲルの乾燥?行う。乾
燥するに従ってゲルに収縮し、通常数日?経るとほぼ乾
燥が終了する。このエラにして得たゲルを取り出し、例
えば成木を含むHe 雰囲気中にて加熱する等により無
孔化処理を行い、透明ガラス化する方法が丁でに知られ
ている。
のアルコキシド?希釈液例えばエタ/ −ルと充分に攪
拌混合しt後、水?加え更に攪拌して加水分解する。こ
の時水ににアンモニア等pH調整剤で加えておくことが
好ましい。加水分解反応の開始と共に粒子の析出が始ま
り、該反応溶液を内面にシリコ−7?塗った容器に移し
、乾燥時間?長くできる工うにアルミ箔等で蓋?して例
えば60′C程度の恒温槽中にてゆっくり乾燥させるこ
とに=9、ゾル液のゲル化お工びゲルの乾燥?行う。乾
燥するに従ってゲルに収縮し、通常数日?経るとほぼ乾
燥が終了する。このエラにして得たゲルを取り出し、例
えば成木を含むHe 雰囲気中にて加熱する等により無
孔化処理を行い、透明ガラス化する方法が丁でに知られ
ている。
この工うないわゆるゾルゲル法に、アルコキシドが金属
・非金属7問わず多くの元素について作製できるので、
各種の元素で容易に添加できるといり長石がある。
・非金属7問わず多くの元素について作製できるので、
各種の元素で容易に添加できるといり長石がある。
し7111為しながら、上記の方法においては、ゲルが
焼結の過程で割n易いという欠点もある。この焼結時の
割nは、乾燥ゲルの細孔径が小さく、焼M時に、水、ア
ルコールなどが抜ける前に閉気孔が生ずるためと考えら
nている。閉気孔が生じた後、こn’にさらに加熱する
と、閉気孔内の圧力が上昇し、割nが生ずる。逆に細孔
径が大きく閉気孔ができにくいゲルに焼結しゃ丁い。
焼結の過程で割n易いという欠点もある。この焼結時の
割nは、乾燥ゲルの細孔径が小さく、焼M時に、水、ア
ルコールなどが抜ける前に閉気孔が生ずるためと考えら
nている。閉気孔が生じた後、こn’にさらに加熱する
と、閉気孔内の圧力が上昇し、割nが生ずる。逆に細孔
径が大きく閉気孔ができにくいゲルに焼結しゃ丁い。
ま九、かさ密度が小さけnば細孔径は大きく易焼結であ
ることが知らnている(特公昭59−−9497 、特
公昭59−9499、特開昭56−100145各号公
報)。従って、ガラス塊全安定して得るには、かさ密度
の小さいゲル全かさ密度がらまクバラッかない=9に得
ることが必要である。
ることが知らnている(特公昭59−−9497 、特
公昭59−9499、特開昭56−100145各号公
報)。従って、ガラス塊全安定して得るには、かさ密度
の小さいゲル全かさ密度がらまクバラッかない=9に得
ることが必要である。
乾燥ゲルのたさ密度全制御する方法としては。
未乾燥ゲル全凍結乾燥する。加水分解時にNaOHなど
一価の金属水酸化物を加える、加水分解時にアンモニア
を刀口える、などの方法が知らnている。
一価の金属水酸化物を加える、加水分解時にアンモニア
を刀口える、などの方法が知らnている。
凍結乾燥は未乾燥ゲル?凍結した後、真空中で水分・ア
ルコール分を昇華させるものである(特開昭56−10
0145号公報)。ゲルが乾燥時に収縮するのに表面張
力のためであるので、凍結乾燥丁nば表面張力に働かず
、従ってゲルは収縮しない。その結果、かさ密度の小さ
な乾燥ゲルが得らnる。ところが、未乾燥ゲルには普通
多くのアルコール分が含まnているので、凍結するには
極めて低い温度まで冷却する必要があるため、この方法
は高価であるといり欠点を持つ。
ルコール分を昇華させるものである(特開昭56−10
0145号公報)。ゲルが乾燥時に収縮するのに表面張
力のためであるので、凍結乾燥丁nば表面張力に働かず
、従ってゲルは収縮しない。その結果、かさ密度の小さ
な乾燥ゲルが得らnる。ところが、未乾燥ゲルには普通
多くのアルコール分が含まnているので、凍結するには
極めて低い温度まで冷却する必要があるため、この方法
は高価であるといり欠点を持つ。
加水分解時に一価の金属水酸化物金加える方法(特公昭
59−9499号公報)ではその一価の金属が不純物と
して混入してしまうといり欠点全持つ。
59−9499号公報)ではその一価の金属が不純物と
して混入してしまうといり欠点全持つ。
加水分解時にアンモニアを加えても乾燥ゲルのかさ密度
?小さくすることができる。これに、加水分解時アンモ
ニアを加えると生成粒子径が大きくなること(文献 5
t6ber et at、 Co11oid工nter
face 5cience 、 vo上26C1968
)p62)、ゲルが乾燥時収縮するのは表面張力による
ものでありその収縮力に粒子径に反比例するため粒子径
が大きけnばゲルのかさ密度は小さくなること(G、
A1exander著、ノリ力と私、東京化学同人(1
971)、p、37)から容易に想像できる。iた。実
験結果もそれをしめしている(特公昭、59−9497
号公報〕。しかし、この方法音用いてもかさ密度は充分
小さくなるとは言えず、まtできた乾燥ゲルのかさ密度
も大きくバラライでいた。
?小さくすることができる。これに、加水分解時アンモ
ニアを加えると生成粒子径が大きくなること(文献 5
t6ber et at、 Co11oid工nter
face 5cience 、 vo上26C1968
)p62)、ゲルが乾燥時収縮するのは表面張力による
ものでありその収縮力に粒子径に反比例するため粒子径
が大きけnばゲルのかさ密度は小さくなること(G、
A1exander著、ノリ力と私、東京化学同人(1
971)、p、37)から容易に想像できる。iた。実
験結果もそれをしめしている(特公昭、59−9497
号公報〕。しかし、この方法音用いてもかさ密度は充分
小さくなるとは言えず、まtできた乾燥ゲルのかさ密度
も大きくバラライでいた。
本発明はこの工うな従来法の欠点全解消すること、丁な
わち乾燥シリカゲルのかさ密度?低く、またかさ密度の
バラツキ全エク小さくできる手段に関し、そWVcエク
、易焼結かつ安定した石英ガラスの製造方法全提供する
こと?目的とするものである。
わち乾燥シリカゲルのかさ密度?低く、またかさ密度の
バラツキ全エク小さくできる手段に関し、そWVcエク
、易焼結かつ安定した石英ガラスの製造方法全提供する
こと?目的とするものである。
本発明に、出発原料の少なくとも1つ全アルコキシドと
し、ガラス塊−全製造する方法に於て、アルコキシドの
加水分解時に液中にコロイドになりうる大きさの粒子が
分散している工う、該粉子?加えることを特徴とするガ
ラスの製造方法にエフ上記の目的を違反する。
し、ガラス塊−全製造する方法に於て、アルコキシドの
加水分解時に液中にコロイドになりうる大きさの粒子が
分散している工う、該粉子?加えることを特徴とするガ
ラスの製造方法にエフ上記の目的を違反する。
また好ましい実施態様としては、前記の石英ガラスの製
造方法において、前記粒子が分散し11 ている
液が脱気処理されている上記号法金挙げることができる
。この脱気処理に、I Torr’@越え、760 T
orrに達しない圧力下で行わすることが好ましい。
造方法において、前記粒子が分散し11 ている
液が脱気処理されている上記号法金挙げることができる
。この脱気処理に、I Torr’@越え、760 T
orrに達しない圧力下で行わすることが好ましい。
さらに好ましい実施態様として、前記粒子が成分として
、Eli、 B、 Ge、 P、 Al、 Sb、 T
i、 Zr、 Sn。
、Eli、 B、 Ge、 P、 Al、 Sb、 T
i、 Zr、 Sn。
Sr、 Y、 P’bお工び0日からなる群りり選ばn
た少なくとも1種の元素?含む上記の石英ガラスの製造
方法?挙げることかできる。
た少なくとも1種の元素?含む上記の石英ガラスの製造
方法?挙げることかできる。
本発明の出発原料としては、Si、 B、 Ge、 P
。
。
At、 Sb、 Ti、 Zr、 Sn、 Y、 Pb
お:びOs’>らなる群より選ばれる少な(とも1種の
元素のアルコキシドお工びその塩を用いることができ、
七の少なくとも1つにアルコキシドを用いる。
お:びOs’>らなる群より選ばれる少な(とも1種の
元素のアルコキシドお工びその塩を用いることができ、
七の少なくとも1つにアルコキシドを用いる。
本発明は、出発原料の少なくとも1つのアルコキシドと
し、加水分解時に別途添加した微粒子全分散させておく
ことに=9.乾燥ゲルのかさ密度全小さくシ、またかさ
密度のバラツキを減ら丁ものである。
し、加水分解時に別途添加した微粒子全分散させておく
ことに=9.乾燥ゲルのかさ密度全小さくシ、またかさ
密度のバラツキを減ら丁ものである。
なお、ここでいうアルコキシドとしては%Si。
B、 Ge、 P、 Al、 S’b、 Ti、 Zr
、 Sn、 Y、 Pbお工びC8からなる群より選ば
れる少くとも1a[の元素のメトキシド、エトキシド、
プロポキシド、ブトキシド等があげら【、例えば主とし
てSl のアルコキシドを出発原料とする場合は石英系
ガラスを製造することができる。まt原料の少なくとも
1つがアルコキシドで、さらに上記の元素の塩を含むも
のでも工い。
、 Sn、 Y、 Pbお工びC8からなる群より選ば
れる少くとも1a[の元素のメトキシド、エトキシド、
プロポキシド、ブトキシド等があげら【、例えば主とし
てSl のアルコキシドを出発原料とする場合は石英系
ガラスを製造することができる。まt原料の少なくとも
1つがアルコキシドで、さらに上記の元素の塩を含むも
のでも工い。
本発明方法におけるアルコキシドの加水分解は通常の方
法、すなわちアルコールお工び水金混合することに工n
ば工ぐ、アルコールとしてはメタノール、エタノール、
グロバノール、ブタノール等が用いらnる。
法、すなわちアルコールお工び水金混合することに工n
ば工ぐ、アルコールとしてはメタノール、エタノール、
グロバノール、ブタノール等が用いらnる。
本発明方法において加えらnる粉子は必らずしもシリカ
粉子である必要はなく、コロイドになりうる大きさの粒
子であnばSi、 B、 Ge、 P、 Al、Sb、
Ti、 Zr、 Sn、 Sr、 Y、 Pbお工び
Cs等の単体あるいは化合物の粒子であっても工い。ま
た5in2とGeO2の混合物の:うに前記元素の単体
あるいに化合物全混合し友ものでも良い。一般に前記元
素以外の金属元素はガラスの光学特性に肩書である。
粉子である必要はなく、コロイドになりうる大きさの粒
子であnばSi、 B、 Ge、 P、 Al、Sb、
Ti、 Zr、 Sn、 Sr、 Y、 Pbお工び
Cs等の単体あるいは化合物の粒子であっても工い。ま
た5in2とGeO2の混合物の:うに前記元素の単体
あるいに化合物全混合し友ものでも良い。一般に前記元
素以外の金属元素はガラスの光学特性に肩書である。
本発明において、加えらnる粒子の大きさは大約1〜5
00mμ程度が好ましく、粒子の製造方法はいかぶっで
らっても=い。
00mμ程度が好ましく、粒子の製造方法はいかぶっで
らっても=い。
また粒子全卵えるのは、■混合前においてアルコキシド
・アルコール・水のいずnかに加える。■アルコールと
アルコキシド全混合したものに加える。■水とアルコー
ル全混合したもの、のいずnの方法にLっても工ぐ、い
ずnにせ工、加水分解反応が進行するときに、粒子の分
課した状態をつくることができればよいのである。
・アルコール・水のいずnかに加える。■アルコールと
アルコキシド全混合したものに加える。■水とアルコー
ル全混合したもの、のいずnの方法にLっても工ぐ、い
ずnにせ工、加水分解反応が進行するときに、粒子の分
課した状態をつくることができればよいのである。
加えらnる粒子の濃度に原料取分に対し105〜100
モルチ程度がLいが、特に好ましくは(15〜20モル
係程度である。
モルチ程度がLいが、特に好ましくは(15〜20モル
係程度である。
このエフに粒子?加え分散させた状態で刀口水分解後に
、ゾル液全ゲル化し、ゲル全乾燥した後1通常の無孔化
処理七経てガラス全書る。
、ゾル液全ゲル化し、ゲル全乾燥した後1通常の無孔化
処理七経てガラス全書る。
また、従来公知のアルコク千の加水分解時にアンモニア
、あるいに−価の金属水酸化物を刀口える方法に1本発
明の粒子を分解させる方法全併用しても、かさ密度を更
に小さくでき、かさ密度のバラツキも小さくできる。
、あるいに−価の金属水酸化物を刀口える方法に1本発
明の粒子を分解させる方法全併用しても、かさ密度を更
に小さくでき、かさ密度のバラツキも小さくできる。
この工うに溶液中に微粒子全分散させることにエリ、な
ぜかさ密度?制御できるのかは、つぎのエリに推測でき
る。加水分解時に分散している粒子の数と生成粒子の数
は強い関連があるであろう。iた。加水分解する金属ア
ルコキシドの量が一定ならば、生成粒子の数が多けnば
。
ぜかさ密度?制御できるのかは、つぎのエリに推測でき
る。加水分解時に分散している粒子の数と生成粒子の数
は強い関連があるであろう。iた。加水分解する金属ア
ルコキシドの量が一定ならば、生成粒子の数が多けnば
。
生M、粒子の径は小さい。また、分散させる粒子の粒子
径の分布幅を狭くすることにエリ、生成粒子径の分布幅
も狭くできることが期待できる。
径の分布幅を狭くすることにエリ、生成粒子径の分布幅
も狭くできることが期待できる。
工って加水分解時に分散させておく粒子の数、径、径の
分布幅によって生成粒子の掻音制御できる。
分布幅によって生成粒子の掻音制御できる。
次に乾燥ゲルのたさ密度について考えると、ゲルは乾燥
時に収縮するが、この収縮力に1分散媒の表面張力によ
ると考えらnる。このとき収縮力は表面張力7丁きま半
径の比で表わさn、 る。従って、粒子径全制御で
きれば、乾燥ゲルのかさ密度も制御できる。結論として
、加水分解時に分散させておく粒子の数、径、径の分布
幅にLつて乾燥ゲルのかさ密度音制御できるものと考え
らnる。
時に収縮するが、この収縮力に1分散媒の表面張力によ
ると考えらnる。このとき収縮力は表面張力7丁きま半
径の比で表わさn、 る。従って、粒子径全制御で
きれば、乾燥ゲルのかさ密度も制御できる。結論として
、加水分解時に分散させておく粒子の数、径、径の分布
幅にLつて乾燥ゲルのかさ密度音制御できるものと考え
らnる。
この方法でゲル化乾燥する際、気泡か発生しやすぐなる
ことがある。こnは、微籾子?添加する際、空気が入り
ゃ丁いtめと考えられる。
ことがある。こnは、微籾子?添加する際、空気が入り
ゃ丁いtめと考えられる。
この気泡の発生は微粒子全分散させt液を減圧下で脱気
処理することにエフ防ぐことができる。
処理することにエフ防ぐことができる。
この脱気処理は普通、数十TQrrの圧力で充分であり
、それ以下の圧力では常温では沸騰が起こる。I To
rr以下の圧力で脱気処理全行なうことは極めて困難で
あり実用的でない。し九がってこの脱気処理は好ましく
はI Torrを越え760Torrに達しない圧力下
で行りことが好ましい。
、それ以下の圧力では常温では沸騰が起こる。I To
rr以下の圧力で脱気処理全行なうことは極めて困難で
あり実用的でない。し九がってこの脱気処理は好ましく
はI Torrを越え760Torrに達しない圧力下
で行りことが好ましい。
以下、実施例にエリ、本発明の方法を具体的に説明する
。
。
実施例1
シリコンテトラメトキシド1/16モルと、エタノール
174モル管、マグネチックスターラで混合し、その中
に水1/2モル會加えさらに混合した後、試験管5本に
、そ几ぞn5分目になるエリに入nた。試験管は、径1
2鱈、長さ105喝であり、内面にシリコーンを塗布し
ておいた。これtAとする。
174モル管、マグネチックスターラで混合し、その中
に水1/2モル會加えさらに混合した後、試験管5本に
、そ几ぞn5分目になるエリに入nた。試験管は、径1
2鱈、長さ105喝であり、内面にシリコーンを塗布し
ておいた。これtAとする。
次にAにおいて水1/2モルに代えて、水1/2モルの
中に気相法で作られ友、径が約12ミリミクロンのシリ
カ包子(アエロジルの商品名で市販さnている)α02
t(水分金吸着しているので実質重量に(101から0
.02を程度)を加え超音波で分散させたものt、水音
用いた以外にすべて同様に行った。こfL’kBとする
。
中に気相法で作られ友、径が約12ミリミクロンのシリ
カ包子(アエロジルの商品名で市販さnている)α02
t(水分金吸着しているので実質重量に(101から0
.02を程度)を加え超音波で分散させたものt、水音
用いた以外にすべて同様に行った。こfL’kBとする
。
さらにAにおいて水1/2モルに代えて、水1/2モル
の中に同じシリカ包子α20f(水分を吸着しているの
で実質重量は110からα20t程度)を加え超音波で
分散させπものt用いt以外にすべて同様に行った。こ
A’kOとする。
の中に同じシリカ包子α20f(水分を吸着しているの
で実質重量は110からα20t程度)を加え超音波で
分散させπものt用いt以外にすべて同様に行った。こ
A’kOとする。
以上で得られ72:A、B、C計15本の試験管?、約
60 Torrの減圧下に10分間保ち液を脱気した後
、一つ一つにアルミ箔で軽くフタをし、60℃恒温槽に
入nた。7日後には、はぼ完全に乾燥しており、平均か
さ密度の大きさはA〉B〉口の順であり、各5本のかさ
密度の標準偏差ばム)B)Oであつ九。表1にシリカ粒
子添加量とかさ密度の平均お工び標準偏差の関係を示す
。
60 Torrの減圧下に10分間保ち液を脱気した後
、一つ一つにアルミ箔で軽くフタをし、60℃恒温槽に
入nた。7日後には、はぼ完全に乾燥しており、平均か
さ密度の大きさはA〉B〉口の順であり、各5本のかさ
密度の標準偏差ばム)B)Oであつ九。表1にシリカ粒
子添加量とかさ密度の平均お工び標準偏差の関係を示す
。
すなわち、粒子を加えることにより、乾燥シリカゲルの
かさ密度?エフ小とし、さらに乾燥シリカゲルのかさ密
度のバラツキも小とすることができた。
かさ密度?エフ小とし、さらに乾燥シリカゲルのかさ密
度のバラツキも小とすることができた。
B、 Cのゲルは、Aのゲルエ9かさ密度が小さいの
で、エリ易焼結であると考えらnる。
で、エリ易焼結であると考えらnる。
実際にこnらA、 13. Oの15個の乾燥シリカ
ゲル’if 、 02 、0121r:含むHe雰囲ス
中1300℃で焼結したところ、Aのゲルは5個すべて
が割nt生じた。B、Cのゲルについてに、643個ず
つしか割rtt−生じなかった。
ゲル’if 、 02 、0121r:含むHe雰囲ス
中1300℃で焼結したところ、Aのゲルは5個すべて
が割nt生じた。B、Cのゲルについてに、643個ず
つしか割rtt−生じなかった。
実施例2
シリコンテトラメトキシド1716モルと、エタノール
1/4モル全、マグネチツクスターラで混合し、その中
に水1/2モルに13チアンモニア水1滴t−加えtも
の上前えさらに混合しt後、試験管5本に、そnぞn5
分目になるエリに入n7t、。試験管は、径12諷、長
さ105鵡であり、内面にシリコーン全塗布しておいた
。
1/4モル全、マグネチツクスターラで混合し、その中
に水1/2モルに13チアンモニア水1滴t−加えtも
の上前えさらに混合しt後、試験管5本に、そnぞn5
分目になるエリに入n7t、。試験管は、径12諷、長
さ105鵡であり、内面にシリコーン全塗布しておいた
。
こt’LkDとする。
次に上記の水1/2モルに13%アンモニア水1滴?加
え文ものに代えて、13%アンモニア水1滴t−mえた
水1/2モルの中に、気相法で作らnた、径が約12ミ
リミクロンのシリカ粒子T1.CL21加えたもの?用
いた以外に上記りと同様に行った。こg’2.gとする
。
え文ものに代えて、13%アンモニア水1滴t−mえた
水1/2モルの中に、気相法で作らnた、径が約12ミ
リミクロンのシリカ粒子T1.CL21加えたもの?用
いた以外に上記りと同様に行った。こg’2.gとする
。
このDお工びEの計10本の試験管を、約60Torr
の減圧下に10分間保ち液を脱気しt後、一つ一つにア
ルミ箔で軽くフタtし、60℃恒温槽に入fた。7日後
には、はぼ完全に乾燥しており、かさ密度の大きさ平均
はD>K、各5本のかさ密度の標準偏差はD>Eであっ
た。以上の結果も表1にまとめて示す。
の減圧下に10分間保ち液を脱気しt後、一つ一つにア
ルミ箔で軽くフタtし、60℃恒温槽に入fた。7日後
には、はぼ完全に乾燥しており、かさ密度の大きさ平均
はD>K、各5本のかさ密度の標準偏差はD>Eであっ
た。以上の結果も表1にまとめて示す。
表 1
すなわち、アンモニア七加え九場合も、粒子を加えるこ
とにエリ、乾燥シリカゲルのかさ密度全エフ小とし、さ
らに乾燥シリカゲルのかさ密度の、バラツキも小とする
ことができ文。
とにエリ、乾燥シリカゲルのかさ密度全エフ小とし、さ
らに乾燥シリカゲルのかさ密度の、バラツキも小とする
ことができ文。
Eのゲルは、Dのゲルエリたさ密度が小さいので、エリ
易焼結であると考えらnる。
易焼結であると考えらnる。
実際にこtらDお工びEの計10個の乾燥シリカゲルf
、Ox@ C4に含むHe雰囲気中1300℃で焼結し
たところ、Dのゲルは5個中2個か割11.t−生じた
。Eのゲルについては、1つも割れt生じなかつ文。
、Ox@ C4に含むHe雰囲気中1300℃で焼結し
たところ、Dのゲルは5個中2個か割11.t−生じた
。Eのゲルについては、1つも割れt生じなかつ文。
対比例
シリコンテトラメトキシド1716モルと、エタノール
1/4モル全、マグネチックスターラで混合し、その中
に水1/2モル’に710えさらに混合しπ後、試験管
5本に、そnぞn5分目になる工すに入nだ。試験管に
、径12IIIII+、長さ105waであり、内面に
シリコーン全塗布り。
1/4モル全、マグネチックスターラで混合し、その中
に水1/2モル’に710えさらに混合しπ後、試験管
5本に、そnぞn5分目になる工すに入nだ。試験管に
、径12IIIII+、長さ105waであり、内面に
シリコーン全塗布り。
ておいtoこfLkFとする。
同じことを、水1/2モルの中に、気相法で作らnた。
径が約12ミリミクロンの7リ力粒子t−α2を加えた
もの愛用いて行った。こf’Lt−1Gとする。
もの愛用いて行った。こf’Lt−1Gとする。
この10本の試験蓄音、脱気処理に行なわずに、一つ一
つにアルミ箔で軽くフタ金し、60℃恒温槽に入nた。
つにアルミ箔で軽くフタ金し、60℃恒温槽に入nた。
7日後にば、はぼ完全に乾燥していた。?のゲルには、
気泡に見らnなかったかGのゲルには5個中2個に、目
視で分かる程度の大きな気泡が発生していた。
気泡に見らnなかったかGのゲルには5個中2個に、目
視で分かる程度の大きな気泡が発生していた。
この工うな気泡に実施例1には見られなかったもので、
実施例1で行なった工5な脱気処理で発生全防ぐことが
できることが分かる。
実施例1で行なった工5な脱気処理で発生全防ぐことが
できることが分かる。
(発明の効果)
本発明に工nば、かさ密度が小さくでλさ密度のバラツ
キも小さい乾燥ゲルを大きな気泡無しに得ることが容易
にできる、従って易焼結な乾燥ゲルを安定して得ること
が容易にできる優n窺効果を有する。
キも小さい乾燥ゲルを大きな気泡無しに得ることが容易
にできる、従って易焼結な乾燥ゲルを安定して得ること
が容易にできる優n窺効果を有する。
Claims (5)
- (1)出発原料の少なくとも1つをアルコキシドとし、
ガラス塊を製造する方法に於て、アルコキシドの加水分
解時に液中にコロイドになりうる大きさの粒子が分散し
ているよう、該粒子を加えることを特徴とするガラスの
製造方法。 - (2)上記アルコキシドが、Si、B、Ge、P、Al
、Sb、Ti、Zr、Sn、Y、PbおよびCsからな
る群より選ばれる少なくとも1種の元素のアルコキシド
である特許請求の範囲第(1)項記載のガラスの製造方
法。 - (3)前記コロイドになりうる大きさの粒子が分散して
いる液が脱気処理されている特許請求の範囲第(1)項
に記載のガラスの製造方法。 - (4)脱気処理は1Torrを越え760Torrに達
しない圧力下にて行われる特許請求の範囲第(2)項に
記載のガラスの製造方法。 - (5)前記コロイドになりうる大きさの粒子は成分とし
て、Si、B、Ge、P、Al、Sb、Ti、Zr、B
n、Sr、Y、PbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも1種の元素を含む特許請求の範囲第(1)〜
(4)項のいずれかに記載のガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19258184A JPS6172631A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19258184A JPS6172631A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6172631A true JPS6172631A (ja) | 1986-04-14 |
| JPH0551539B2 JPH0551539B2 (ja) | 1993-08-02 |
Family
ID=16293660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19258184A Granted JPS6172631A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6172631A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005073938A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Sota Japan Kk | ゲルマニウム付着真珠及びその製造方法、並びに宝飾品、ネックレス及び指圧器具。 |
-
1984
- 1984-09-17 JP JP19258184A patent/JPS6172631A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005073938A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Sota Japan Kk | ゲルマニウム付着真珠及びその製造方法、並びに宝飾品、ネックレス及び指圧器具。 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0551539B2 (ja) | 1993-08-02 |
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