JPS6186467A - 高性能チタン酸バリウム系ポジスタ−の製造方法 - Google Patents
高性能チタン酸バリウム系ポジスタ−の製造方法Info
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- JPS6186467A JPS6186467A JP59206932A JP20693284A JPS6186467A JP S6186467 A JPS6186467 A JP S6186467A JP 59206932 A JP59206932 A JP 59206932A JP 20693284 A JP20693284 A JP 20693284A JP S6186467 A JPS6186467 A JP S6186467A
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- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 17
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
(Ti%B )O3(ただし、Aは酸素12配位金属元
素、Bは酸素6配位金属元素を表わす)で示されるチタ
ン酸バリウム系ペロブスカイト固溶体の原料粉末に、必
要に応じ半導体化剤、半導体化促進剤。
素、Bは酸素6配位金属元素を表わす)で示されるチタ
ン酸バリウム系ペロブスカイト固溶体の原料粉末に、必
要に応じ半導体化剤、半導体化促進剤。
正抵抗温度係数増大剤、抵抗電圧依存性減少剤などを添
加したものを、加圧して成形体とし、1000〜145
0℃で焼結して徐冷することによりチタン酸バリウム系
ポジスタ−を製造する方法は公知である。この方法で得
られるポジスタ−の半導体はキュリ一点以上で正抵抗温
度系数を示し、これに通電した場合、発熱量を自動制御
できるので、布団乾燥器やホーマランドリー用衣類乾燥
器などに、また無接点スイッチ、限流素子として利用さ
れている。
加したものを、加圧して成形体とし、1000〜145
0℃で焼結して徐冷することによりチタン酸バリウム系
ポジスタ−を製造する方法は公知である。この方法で得
られるポジスタ−の半導体はキュリ一点以上で正抵抗温
度系数を示し、これに通電した場合、発熱量を自動制御
できるので、布団乾燥器やホーマランドリー用衣類乾燥
器などに、また無接点スイッチ、限流素子として利用さ
れている。
チタン酸バリウム系ポジスタ−は、バリウムやチタンの
1aを他の全屈元素によって固溶置換することにより、
そのキュリ一点もしくは正抵抗温度係数を示す領域の現
れる温度c以下Tsと記載するンを制御することが可能
である。しかしながら、Tsが高温になるにつれて抵抗
のジャンプ幅(キュリ一点以下の低温側での最小抵抗と
高温側での最大抵抗の差ンが急激に減少し、実用に耐え
なくなる。従って、どのようなTsを有するポジスタ−
についても、ジャンプ幅を高め見られる技術が要請され
ている。
1aを他の全屈元素によって固溶置換することにより、
そのキュリ一点もしくは正抵抗温度係数を示す領域の現
れる温度c以下Tsと記載するンを制御することが可能
である。しかしながら、Tsが高温になるにつれて抵抗
のジャンプ幅(キュリ一点以下の低温側での最小抵抗と
高温側での最大抵抗の差ンが急激に減少し、実用に耐え
なくなる。従って、どのようなTsを有するポジスタ−
についても、ジャンプ幅を高め見られる技術が要請され
ている。
発明の目的
本発明の目的はv1■記要請に応えて、どのようなTs
を有するポジスタ−においても、ジャンプ幅の広いチタ
ン酸バリウム系ポジスタ−を製造することができる方法
を提供するにある。
を有するポジスタ−においても、ジャンプ幅の広いチタ
ン酸バリウム系ポジスタ−を製造することができる方法
を提供するにある。
発明の構成
本発明者らは前記目的を達成すぺ〈鋭意研究の結果、該
ポジスタ−原料粉末の成形体もしくはその焼結体を高酸
素圧中で高温熱処理すると、ジャンプ幅を広くし得られ
ることを究明し得た。この知見に基いて本発明を完成し
た。
ポジスタ−原料粉末の成形体もしくはその焼結体を高酸
素圧中で高温熱処理すると、ジャンプ幅を広くし得られ
ることを究明し得た。この知見に基いて本発明を完成し
た。
本発明の要旨は、チタン酸バリウムまたは一般Q;’(
’、 Ba、 A ) (Ti、 B ) 0. (た
だし、ムは酸素12−1゜ 配序金属元素、Bは酸素6配位金属元素を表わす)溶体
の原料粉末に、必要に応じ半導体化剤、半導体化促進剤
、正抵抗温度係数増大剤、抵抗電圧依存性減少剤などを
添加したものを、加圧して成形体とし、1ooo〜14
50℃で焼結して徐冷することくよりチタン酸バリウム
系ポジスタ−を製Rする方法において、前記成形体もし
くはポジスタ−焼結体を2Ky/cJ以上の高酸素圧中
で、200〜1450℃の温度で熱処理することを特徴
とする製造方法にある。
’、 Ba、 A ) (Ti、 B ) 0. (た
だし、ムは酸素12−1゜ 配序金属元素、Bは酸素6配位金属元素を表わす)溶体
の原料粉末に、必要に応じ半導体化剤、半導体化促進剤
、正抵抗温度係数増大剤、抵抗電圧依存性減少剤などを
添加したものを、加圧して成形体とし、1ooo〜14
50℃で焼結して徐冷することくよりチタン酸バリウム
系ポジスタ−を製Rする方法において、前記成形体もし
くはポジスタ−焼結体を2Ky/cJ以上の高酸素圧中
で、200〜1450℃の温度で熱処理することを特徴
とする製造方法にある。
チタン酸バリウムまたはチタン酸バリウムペロブスカイ
ト固溶体粉末は、その原料粉末である炭酸バリウム、酸
化チタンや固溶置換用原料粉末を混合して仮焼(乾式法
)してもよく、また、構成成分の金属塩類の混合水溶液
に沈殿形成剤、例えば炭酸アンモニウム、アンモニヤ、
苛性アルカリ。
ト固溶体粉末は、その原料粉末である炭酸バリウム、酸
化チタンや固溶置換用原料粉末を混合して仮焼(乾式法
)してもよく、また、構成成分の金属塩類の混合水溶液
に沈殿形成剤、例えば炭酸アンモニウム、アンモニヤ、
苛性アルカリ。
蓚酸などを添加して共沈させて乾燥、仮焼(湿式共沈法
)しても良い。チタン酸バリウムペロブスカイト固溶体
の酸素12位金属元素(一般式A)としては、sr+c
a、Pbなどの元素が挙げられ、また酸素6配位金属元
累としては、Sn 、 Zrなどが挙げられる。
)しても良い。チタン酸バリウムペロブスカイト固溶体
の酸素12位金属元素(一般式A)としては、sr+c
a、Pbなどの元素が挙げられ、また酸素6配位金属元
累としては、Sn 、 Zrなどが挙げられる。
前記原料粉末に半導体化剤(例えばLa l y+ c
eなどの希土類元素、Nb、Ta、Bi、Sb、W、T
hなど)、半導体化促進剤(例えば、1120. 、5
in2など)、正抵抗温度係数増大剤(例えばMn 、
Fe。
eなどの希土類元素、Nb、Ta、Bi、Sb、W、T
hなど)、半導体化促進剤(例えば、1120. 、5
in2など)、正抵抗温度係数増大剤(例えばMn 、
Fe。
Cu 、 Or 、 F 、 C1、Brなど)、抵抗
電圧依存性減少剤(SiO2など)などを添加してもよ
い。これらの添加剤はそれらの塩類を原料混合水溶液中
に添加すると均一に混合し得られる(共沈法)。
電圧依存性減少剤(SiO2など)などを添加してもよ
い。これらの添加剤はそれらの塩類を原料混合水溶液中
に添加すると均一に混合し得られる(共沈法)。
得られた成形体を従来法と同様に1000〜1450℃
で焼結することによってチタン酸バリウム系ポジスタ−
1!作られる。
で焼結することによってチタン酸バリウム系ポジスタ−
1!作られる。
本発明においては、前記の粉末成形体の状態、あるいは
ポジスタ−焼結体を2.0 K17cm2以上の高酸素
圧下、200〜1450℃で熱処理した後、同雰囲気下
で徐々もしくは急冷することを特徴とする。
ポジスタ−焼結体を2.0 K17cm2以上の高酸素
圧下、200〜1450℃で熱処理した後、同雰囲気下
で徐々もしくは急冷することを特徴とする。
貝゛、えると、ペロブスカイト化合物の構成成分の揮発
や溶融が起るので、雰囲気酸素圧は2.OKp/am2
以上であり、熱処理温度は200〜1450℃の範囲で
あることが必要である。
や溶融が起るので、雰囲気酸素圧は2.OKp/am2
以上であり、熱処理温度は200〜1450℃の範囲で
あることが必要である。
この処理を施すことによって、下記の実施例及び比較例
とを比較すると明らかなように、抵抗ジャンプ幅を顕著
に大きくすることができる。
とを比較すると明らかなように、抵抗ジャンプ幅を顕著
に大きくすることができる。
実施例1゜
BaC0,、TiO2及びLa20.粉末を、BaO,
999Lao、。o、 Tie5組成なるように秤量し
、これらをボールミルで約20時間混合した後、100
0℃で2時間仮焼した。得られた粉末を粉砕機で20分
粉砕し、この粉末を117cm2の静水圧下でプレス成
形した。該成形体を1400℃で2時間焼結し、300
℃/hrの速度で室温1で徐冷した。
999Lao、。o、 Tie5組成なるように秤量し
、これらをボールミルで約20時間混合した後、100
0℃で2時間仮焼した。得られた粉末を粉砕機で20分
粉砕し、この粉末を117cm2の静水圧下でプレス成
形した。該成形体を1400℃で2時間焼結し、300
℃/hrの速度で室温1で徐冷した。
該試料を90に2/CTn2の高酸素圧下、1000℃
で2時間熱処理した後、1000℃/hrの速度で室温
まで冷却した。
で2時間熱処理した後、1000℃/hrの速度で室温
まで冷却した。
得られた試料の抵抗の温度変化を測定した結果、正抵抗
温度係数を示す領域の現れる温度(キュリ一点)は11
0℃で、抵抗ジャンプ幅は約5.5桁に達した。
温度係数を示す領域の現れる温度(キュリ一点)は11
0℃で、抵抗ジャンプ幅は約5.5桁に達した。
比較例1゜
実施例1と同様にして得た成形体を1400″Cで2時
間焼結して300℃/hrの室温まで徐冷したものを、
抵抗の温度変化を測定した。その結果、正抵抗温度係数
を示す領域の現れる温度(キュIJ +点)は110℃
で、抵抗ジャンプ幅は2桁に達しなかった。
間焼結して300℃/hrの室温まで徐冷したものを、
抵抗の温度変化を測定した。その結果、正抵抗温度係数
を示す領域の現れる温度(キュIJ +点)は110℃
で、抵抗ジャンプ幅は2桁に達しなかった。
実施例2゜
BaC0,、TiO2及びLa20.をBaO1998
” 0.02Tie、の組成になるように秤量し、更に
これにコロイダルSi○2. TiO2を各々1.0
mo1%、及び0.05TIIO1%のMnを添加した
。これをボールミルで約20時間混合した後、1000
℃で2時間空気中で仮焼した。得られた粉末を粉砕機で
25分間粉砕した後、1t/cT12の静水圧下でプレ
ス成形し・′薄られた試料を90に2/CII+2の高
酸素圧下で1000℃′士2時間熱処理した後、100
0℃/hrの速度で室温まで冷却した。
” 0.02Tie、の組成になるように秤量し、更に
これにコロイダルSi○2. TiO2を各々1.0
mo1%、及び0.05TIIO1%のMnを添加した
。これをボールミルで約20時間混合した後、1000
℃で2時間空気中で仮焼した。得られた粉末を粉砕機で
25分間粉砕した後、1t/cT12の静水圧下でプレ
ス成形し・′薄られた試料を90に2/CII+2の高
酸素圧下で1000℃′士2時間熱処理した後、100
0℃/hrの速度で室温まで冷却した。
得られたものの抵抗の温度変化を測定した結果、正抵抗
温度係数を示す領域の現われる温度(キュリ一点)は1
10℃で、抵抗ジャンプ幅は約8.5桁であった。
温度係数を示す領域の現われる温度(キュリ一点)は1
10℃で、抵抗ジャンプ幅は約8.5桁であった。
比較例λ
前記実施例2と同様にして得られた成形焼結体を高酸素
圧下で熱処理しなかったものの抵抗の温度変化を測定し
た結果、正抵抗温度係数を示す領域の現れる温度(キュ
リ一点)は110℃で、抵抗のジャンプ幅は約5桁であ
った。
圧下で熱処理しなかったものの抵抗の温度変化を測定し
た結果、正抵抗温度係数を示す領域の現れる温度(キュ
リ一点)は110℃で、抵抗のジャンプ幅は約5桁であ
った。
発明の効果
本発明の方法によると、どのようなTsを有するポジス
タ−においても、ジャンプ幅の広いチタ7 酸バリウム
系ポジスタ−を製造し得られる優れた効果を有する。
タ−においても、ジャンプ幅の広いチタ7 酸バリウム
系ポジスタ−を製造し得られる優れた効果を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)チタン酸バリウムまたは一般式(Ba、A)(Ti
、B)O_3(ただし、Aは酸素12配位金属元素、B
は酸素6配位金属元素を表わす)で示されるチタン酸バ
リウム系ペロブスカイト固溶体の原料粉末を、加圧して
成形体とし、1000〜1450℃で焼結して徐冷する
ことによりチタン酸バリウム系ポジスターの製造方法に
おいて、前記成形体もしくはポジスター焼結体を2.0
Kg/cm^2以上の高酸素圧中で、200〜1450
℃の温度で熱処理することを特徴とする高性能チタン酸
バリウム系ポジスターの製造方法。 2)前記成形体が原料粉末に半導体化剤、半導体化促進
剤、正抵抗温度係数増大剤、抵抗電圧依存性減少剤など
を添加したものである特許請求の範囲第1項記載の高性
能チタン酸バリウム系ポジスターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59206932A JPS6186467A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 高性能チタン酸バリウム系ポジスタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59206932A JPS6186467A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 高性能チタン酸バリウム系ポジスタ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186467A true JPS6186467A (ja) | 1986-05-01 |
| JPS6365630B2 JPS6365630B2 (ja) | 1988-12-16 |
Family
ID=16531432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59206932A Granted JPS6186467A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 高性能チタン酸バリウム系ポジスタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6186467A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63146403A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-18 | 松下電器産業株式会社 | Ptcサ−ミスタの製造方法 |
| JPH03218965A (ja) * | 1990-01-22 | 1991-09-26 | Murata Mfg Co Ltd | チタン酸バリウム系半導体磁器の製造方法 |
| JPH0640768A (ja) * | 1992-07-23 | 1994-02-15 | Inax Corp | 高特性ptcセラミックスの製造方法 |
| JP2009227477A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Hitachi Metals Ltd | 半導体磁器組成物の製造方法及び半導体磁器組成物を用いたヒータ |
| JP2013144637A (ja) * | 2013-02-12 | 2013-07-25 | Hitachi Metals Ltd | 半導体磁器組成物の製造方法 |
-
1984
- 1984-10-02 JP JP59206932A patent/JPS6186467A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63146403A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-18 | 松下電器産業株式会社 | Ptcサ−ミスタの製造方法 |
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| JPH0640768A (ja) * | 1992-07-23 | 1994-02-15 | Inax Corp | 高特性ptcセラミックスの製造方法 |
| JP2009227477A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Hitachi Metals Ltd | 半導体磁器組成物の製造方法及び半導体磁器組成物を用いたヒータ |
| US8766145B2 (en) | 2008-03-19 | 2014-07-01 | Hitachi Metals, Ltd. | Process for producing semiconductive porcelain composition and heater employing semiconductive porcelain composition |
| JP2013144637A (ja) * | 2013-02-12 | 2013-07-25 | Hitachi Metals Ltd | 半導体磁器組成物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6365630B2 (ja) | 1988-12-16 |
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