JPS62123149A - β−アセトキシスチレンの液相合成法 - Google Patents
β−アセトキシスチレンの液相合成法Info
- Publication number
- JPS62123149A JPS62123149A JP60261424A JP26142485A JPS62123149A JP S62123149 A JPS62123149 A JP S62123149A JP 60261424 A JP60261424 A JP 60261424A JP 26142485 A JP26142485 A JP 26142485A JP S62123149 A JPS62123149 A JP S62123149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- styrene
- acetoxystyrene
- toluidine
- oxygen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 19
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 title claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 44
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 23
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- OJGMBLNIHDZDGS-UHFFFAOYSA-N N-Ethylaniline Chemical compound CCNC1=CC=CC=C1 OJGMBLNIHDZDGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- IMPPGHMHELILKG-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxyaniline Chemical compound CCOC1=CC=C(N)C=C1 IMPPGHMHELILKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- FRCFWPVMFJMNDP-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylaniline Chemical compound CC(C)NC1=CC=CC=C1 FRCFWPVMFJMNDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N p-anisidine Chemical compound COC1=CC=C(N)C=C1 BHAAPTBBJKJZER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 11
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N radium atom Chemical compound [Ra] HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N o-toluidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- -1 styrene glycol acetates Chemical class 0.000 description 3
- MLPVBIWIRCKMJV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylaniline Chemical compound CCC1=CC=CC=C1N MLPVBIWIRCKMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- DTUQWGWMVIHBKE-UHFFFAOYSA-N phenylacetaldehyde Chemical compound O=CCC1=CC=CC=C1 DTUQWGWMVIHBKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-1,2-ethanediol Chemical compound OCC(O)C1=CC=CC=C1 PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULHFFAFDSSHFDA-UHFFFAOYSA-N 1-amino-2-ethoxybenzene Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1N ULHFFAFDSSHFDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010903 husk Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- NCBZRJODKRCREW-UHFFFAOYSA-N m-anisidine Chemical compound COC1=CC=CC(N)=C1 NCBZRJODKRCREW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 description 1
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- UXUFDYQPKPPFEG-UHFFFAOYSA-N n-methoxy-2-methylaniline Chemical compound CONC1=CC=CC=C1C UXUFDYQPKPPFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940100595 phenylacetaldehyde Drugs 0.000 description 1
- 229940067107 phenylethyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003255 radium Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical compound O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明で得られるβ−アセトキシスチレンは加水分解す
ることにより、フェニルアセトアルデヒド、加水分解及
び水添することでフェニルエチルアルコールとすること
ができる。フェニルアセト香料等の合成中間体として産
業上有用な物質であり、該物質を選択的に合成できる本
発明の方法は産業上極めて有用である。
ることにより、フェニルアセトアルデヒド、加水分解及
び水添することでフェニルエチルアルコールとすること
ができる。フェニルアセト香料等の合成中間体として産
業上有用な物質であり、該物質を選択的に合成できる本
発明の方法は産業上極めて有用である。
従来の技術としては、例えば特開昭54−90130に
示されているようにスチレンを酢酸及び酸素と反応させ
、スチレングリコールアセテート及びスチレンオキシド
を製造するに際し、マンガン化合物及びハロゲン化合物
を触媒として用いる方法が知られている。この触媒系を
用いる方法ではスチレングリコールアセテート類が主生
成物となりβ−アセトキシスチレンを選択的に生成する
ことはない。
示されているようにスチレンを酢酸及び酸素と反応させ
、スチレングリコールアセテート及びスチレンオキシド
を製造するに際し、マンガン化合物及びハロゲン化合物
を触媒として用いる方法が知られている。この触媒系を
用いる方法ではスチレングリコールアセテート類が主生
成物となりβ−アセトキシスチレンを選択的に生成する
ことはない。
本発明は上記の事情に鑑み、スチレン、酢酸及び酸素又
は酸素含有ガスからβ−アセトキシスチレンを選択的に
得ることができる合成方法を提供することを目的とする
。
は酸素含有ガスからβ−アセトキシスチレンを選択的に
得ることができる合成方法を提供することを目的とする
。
もので、スチレン、酢酸及び酸素又は酸素含有ガスから
β−アセトキシスチレンを選択合成するに際して、触媒
として担体にビスマス、マンガン。
β−アセトキシスチレンを選択合成するに際して、触媒
として担体にビスマス、マンガン。
バナジウム、テルルの少くとも一種と・ぐラジウムを担
持させたものを用い、反応系内にトルイジン。
持させたものを用い、反応系内にトルイジン。
メトキシ等のアルコキシ基をもつトルイジン、アニシジ
ン、フェネチジン、エチルアニリン、イソプロピルアニ
リンの少くとも一種を添加することを特徴とする。
ン、フェネチジン、エチルアニリン、イソプロピルアニ
リンの少くとも一種を添加することを特徴とする。
本発明は担体にビスマス、マンガン、バナジウム、テル
ルの少くとも一種とパラジウムを担持させた触媒を用い
て、スチレン、酢酸及び酸素又は酸素含有ガスからβ−
アセトキシスチレンを合成する際に、トルイジン、メト
キシ等のアルコキシ基をもつトルイジ/、アニシゾン、
フェネチジン。
ルの少くとも一種とパラジウムを担持させた触媒を用い
て、スチレン、酢酸及び酸素又は酸素含有ガスからβ−
アセトキシスチレンを合成する際に、トルイジン、メト
キシ等のアルコキシ基をもつトルイジ/、アニシゾン、
フェネチジン。
エチルアニリン、イソプロピルアニリンの少くトも一種
を添加するβ−アセトキシスチレンの合成方法に関する
。
を添加するβ−アセトキシスチレンの合成方法に関する
。
本発明で用いられる反応系への添加化合物として次のも
のを上げることができる。
のを上げることができる。
例えばオルソトルイジン、メタトルイジン、ノやラトル
イジン、トルイジンで置換基としてメトキシ基等のアル
コキシ基をもつ化合物、オルソアニシゾン、メタアニシ
ジン、バラアニシジン、オルソフェネチジン、メタフェ
ネチジン、バラフェネチジン、オルソエチルアニリン、
ハラエチルアニリン、ノ母うイソプロビルアニリンを上
げることができ、就中、トルイジンでアルコキシ基を置
換基として有するものが最適である。
イジン、トルイジンで置換基としてメトキシ基等のアル
コキシ基をもつ化合物、オルソアニシゾン、メタアニシ
ジン、バラアニシジン、オルソフェネチジン、メタフェ
ネチジン、バラフェネチジン、オルソエチルアニリン、
ハラエチルアニリン、ノ母うイソプロビルアニリンを上
げることができ、就中、トルイジンでアルコキシ基を置
換基として有するものが最適である。
該化合物の添加によりスチレン反応活性、β−アセトキ
シスチレン生成選択囲の向上が顕著である。
シスチレン生成選択囲の向上が顕著である。
その添加効果の原因については添加物による触媒表面で
のスチレン、酢酸、酸素の吸着性制御、β−アセトキシ
スチレンの反応性・吸着性制御、即ち副反応が抑止され
て、脱離が促進される効果。
のスチレン、酢酸、酸素の吸着性制御、β−アセトキシ
スチレンの反応性・吸着性制御、即ち副反応が抑止され
て、脱離が促進される効果。
添加物の塩基性等に帰因する触媒表面状態の変化。
立体障害的な効果など幾つかを推定できるが、明確な点
は不明である。
は不明である。
添加量については、使用する触媒中の・ぐラジウムに対
して、モル比で0.01〜15の範囲であり、好ましく
は0.03〜10の範囲である。
して、モル比で0.01〜15の範囲であり、好ましく
は0.03〜10の範囲である。
添加化合物を添加する時期は、反応開始前に溶媒である
酢酸に溶解してもよいし、昇温後、反応系に添加しても
何んら差支えない。
酢酸に溶解してもよいし、昇温後、反応系に添加しても
何んら差支えない。
添加化合物は反応生成物よりの分離・精製が通常問題と
なるが、本発明で添加量は少量でもよく、あまり問題と
ならない。
なるが、本発明で添加量は少量でもよく、あまり問題と
ならない。
しかし、必要ならば吸着、蒸留など公知の方法を用いて
分離することも可能である。
分離することも可能である。
本発明で用いられる触媒の製造にあたっては、この種の
貴金属触媒の調製方法が一般的に使用される。
貴金属触媒の調製方法が一般的に使用される。
例えば、担体上にビスマス、マンガン、バナジウム、テ
ルルの少くとも一種の可溶性塩を水又は酸に溶解したも
のを含浸させ、次いで空気中で焼成する。その後、可溶
性のノやラジウム塩を水又は酸に溶解したものを焼成物
に均一分散させて還元処理する。
ルルの少くとも一種の可溶性塩を水又は酸に溶解したも
のを含浸させ、次いで空気中で焼成する。その後、可溶
性のノやラジウム塩を水又は酸に溶解したものを焼成物
に均一分散させて還元処理する。
・ぐラジウムならびに助触媒元素は同時に担体上に担持
させてもよいし、又順次別々に担持させても何んら差支
えない。
させてもよいし、又順次別々に担持させても何んら差支
えない。
還元は周知の適切な方法により行うことができる。例え
ば、水素又は還元力のある有機化合物中で還元するか、
あるいはヒドラジン又はホルマリンなど周知の還元剤に
より還元する。
ば、水素又は還元力のある有機化合物中で還元するか、
あるいはヒドラジン又はホルマリンなど周知の還元剤に
より還元する。
パラジウムの担持量及び助触媒として添加する元素群の
担持量は、担体に対し元素として通常各各0.01〜3
0重量%、0.01〜90重量係好ましくはo、 i〜
20重量係、0.1〜40重量係重量間内で適宜選択さ
れる。触媒中の・ぞラジウムに対する助触媒元素の比率
は通常・2ラジウム1グラム原子に対して0.01〜2
0グラム原子となるようにするのが好ましく、特に/−
’ラジウム1グラム原子に対して0.05〜10グラム
原子となるようにするのが有利である。
担持量は、担体に対し元素として通常各各0.01〜3
0重量%、0.01〜90重量係好ましくはo、 i〜
20重量係、0.1〜40重量係重量間内で適宜選択さ
れる。触媒中の・ぞラジウムに対する助触媒元素の比率
は通常・2ラジウム1グラム原子に対して0.01〜2
0グラム原子となるようにするのが好ましく、特に/−
’ラジウム1グラム原子に対して0.05〜10グラム
原子となるようにするのが有利である。
触媒の調製のために用いられる担体には、活性炭、シリ
カゲルシリカアルミナ、アルミナ、シリコンカーバイド
、マグネシア、硅藻土、軽石チタニア等が使用できる。
カゲルシリカアルミナ、アルミナ、シリコンカーバイド
、マグネシア、硅藻土、軽石チタニア等が使用できる。
本発明を実施する方法としては、固定床方式。
流動床方式、懸濁触媒方式など各種の方式を適宜選択で
きる。
きる。
また酸素含有ガスは純粋な酸素である必要はなく、不活
性ガスで希釈された酸素、たとえば空気でもよい0酸素
量はスチレンの0.5モルが理論量であるが、空気を使
用する場合0.5〜5モルの範囲が好ましい。
性ガスで希釈された酸素、たとえば空気でもよい0酸素
量はスチレンの0.5モルが理論量であるが、空気を使
用する場合0.5〜5モルの範囲が好ましい。
触媒の使用量はスチレン1モルに対してパラジウムは0
.01グラム原子以下の少量でも十分であり、高価なパ
ラジウムがきわめて少量ですむ。担体付触媒使用量はス
チレンと酢酸との全重量の1〜20重量係重量当する。
.01グラム原子以下の少量でも十分であり、高価なパ
ラジウムがきわめて少量ですむ。担体付触媒使用量はス
チレンと酢酸との全重量の1〜20重量係重量当する。
酢酸の使用量は限定的ではないが、スチレンに対して1
〜20モル係の範囲が好適である。
〜20モル係の範囲が好適である。
液相反応でβ−アセトキシスチレンを合成する際、反応
温度は40〜200℃特に好ましくは60〜150℃で
ある。60℃以下でも反応は起るが、反応速度が遅く、
又、反応温度があまり高いと副生成物の生成量が多くな
シ好ましくない。
温度は40〜200℃特に好ましくは60〜150℃で
ある。60℃以下でも反応は起るが、反応速度が遅く、
又、反応温度があまり高いと副生成物の生成量が多くな
シ好ましくない。
反応圧力は通常、常圧ないし散気圧の加圧下反応原料が
液相を保つ範囲である。もちろんさらに高い圧力下で実
施することもできる。なお本発明明細書におけるスチレ
ン反応率、β−アセトキシスチレン選択率は次のように
定義する。
液相を保つ範囲である。もちろんさらに高い圧力下で実
施することもできる。なお本発明明細書におけるスチレ
ン反応率、β−アセトキシスチレン選択率は次のように
定義する。
β−アセトキシスチレン選択率
副生物の選択率についても同様に定義する。
実施例1
硝酸ビスマス2.70.!9rを硝酸水溶液(1+1)
20mlに溶解させて、これに0.3〜0.5 tta
nφシリカケ9ル10gを浸漬し、触媒液を吸収後、6
0〜70℃の湯浴上で蒸発乾固させた。この乾固物を電
気炉中空気雰囲気下、500℃で2時間焼成した。この
焼成物を塩化パラジウム0.893.9の5チ塩酸水溶
液2Qmlに浸漬し、液を吸収後、60〜70℃の湯浴
上で蒸発乾固させた。これを窒素気流中、150℃で2
時間焼成し、続いて、41/時の流速で水素を流しなが
ら、200℃で2時間還元し、ついで400℃で2時間
還元し、5.36チPd −11,63%Bi −81
02なる組成(但し、金属としての担持率を示す。)の
触媒を得た。
20mlに溶解させて、これに0.3〜0.5 tta
nφシリカケ9ル10gを浸漬し、触媒液を吸収後、6
0〜70℃の湯浴上で蒸発乾固させた。この乾固物を電
気炉中空気雰囲気下、500℃で2時間焼成した。この
焼成物を塩化パラジウム0.893.9の5チ塩酸水溶
液2Qmlに浸漬し、液を吸収後、60〜70℃の湯浴
上で蒸発乾固させた。これを窒素気流中、150℃で2
時間焼成し、続いて、41/時の流速で水素を流しなが
ら、200℃で2時間還元し、ついで400℃で2時間
還元し、5.36チPd −11,63%Bi −81
02なる組成(但し、金属としての担持率を示す。)の
触媒を得た。
得られた触媒1.25g、スチレン89.4ミリモル、
酢酸194ミリモル、・母うメトキシオルソトルイジン
0.73ミlJモルを内容積ioomlの電磁攪拌装置
付きオートクレーブ(SUS # )に仕込み系内を空
気で5kl?/cm2G の加圧とした。次いで系内を
攪拌しながら、電熱、加熱し、90℃で4時間反応させ
た。
酢酸194ミリモル、・母うメトキシオルソトルイジン
0.73ミlJモルを内容積ioomlの電磁攪拌装置
付きオートクレーブ(SUS # )に仕込み系内を空
気で5kl?/cm2G の加圧とした。次いで系内を
攪拌しながら、電熱、加熱し、90℃で4時間反応させ
た。
反応後、オートクレーブを冷却し反応液中のβ−アセト
キシスチレン、アセトフェノン等の副生物、未反応スチ
レンをガスクロマトグラフィーに依り分析した。分析の
結果は表1に示す。
キシスチレン、アセトフェノン等の副生物、未反応スチ
レンをガスクロマトグラフィーに依り分析した。分析の
結果は表1に示す。
比較例1
実施例1で、ノ4ラメトキシオルソトルイジンを反応系
に添加しない以外は同様にテストを行い、分析の結果を
表1に示す。
に添加しない以外は同様にテストを行い、分析の結果を
表1に示す。
実施例2〜3
実施例1で、/クラメトキンオルソトルイジンの添加量
を0.36,1.46ミIJモルとする以外は同様にし
て、スチレンからβ−アセトキシスチレンを得−だ。そ
の結果を表1に示す。
を0.36,1.46ミIJモルとする以外は同様にし
て、スチレンからβ−アセトキシスチレンを得−だ。そ
の結果を表1に示す。
実施例4〜5
実施例1で、ノソラメトキシオルソトルイクンを添加す
る代りに、オルソトルイジン、−J?ラアニシジンを夫
々0.73 ミIJモル添加する以外は同様にして、ス
チレンからβ〜アセトキシスチレンを得た。その結果を
表1に示す。
る代りに、オルソトルイジン、−J?ラアニシジンを夫
々0.73 ミIJモル添加する以外は同様にして、ス
チレンからβ〜アセトキシスチレンを得た。その結果を
表1に示す。
実施例6〜7
実施例1において硝酸ビスマスの代わりに硝酸マンガン
、メタバナジン酸アンモニウムを使用した以外は同様に
して、5.364 Pd −3,061Mn−3in2
.5.36%Pd−2,84%V−8iO2なる組成の
触媒を得た。実施例1と同様に、パラメトキシオルソト
ルイノ70.7349モルを添加して、スチレンからβ
−アセトキシスチレンを得た。その結果を表2に示す。
、メタバナジン酸アンモニウムを使用した以外は同様に
して、5.364 Pd −3,061Mn−3in2
.5.36%Pd−2,84%V−8iO2なる組成の
触媒を得た。実施例1と同様に、パラメトキシオルソト
ルイノ70.7349モルを添加して、スチレンからβ
−アセトキシスチレンを得た。その結果を表2に示す。
実施例8
硝酸ノ’?ラジウム0.46g、二酸化テルル0.10
gを30係硝酸水溶液30m1に溶解し、03〜0、5
ranφヤシガラ炭10Fを加えて、105℃で4時
間還流加熱した。次いで、エバポレーターで減圧下、溶
媒を留去し乾固させた。続いて、実施例1と同様に窒素
中で乾燥し、水素還元を行って、2、13 % Pd
−0,78% Te−活性炭なる組成の触媒を得た。こ
の触媒1.25gを用いて、実施例1と同様にパラメト
キシオルソトルイノ70.7349モルを添加してスチ
レンからβ−アセトキシスチレンを得た。
gを30係硝酸水溶液30m1に溶解し、03〜0、5
ranφヤシガラ炭10Fを加えて、105℃で4時
間還流加熱した。次いで、エバポレーターで減圧下、溶
媒を留去し乾固させた。続いて、実施例1と同様に窒素
中で乾燥し、水素還元を行って、2、13 % Pd
−0,78% Te−活性炭なる組成の触媒を得た。こ
の触媒1.25gを用いて、実施例1と同様にパラメト
キシオルソトルイノ70.7349モルを添加してスチ
レンからβ−アセトキシスチレンを得た。
分析の結果はスチレン反応率14.1%、β−アセトキ
/スチレン選択率83.1%、アセトフェノン選択率5
.0%であった。
/スチレン選択率83.1%、アセトフェノン選択率5
.0%であった。
以上述べたように、本発明の方法はスチレン。
酢酸、酸素、又は酸素含有ガスより高選択率でβ−アセ
トキシスチレンを製造することができ、工業的にも罹め
て優れたものである。
トキシスチレンを製造することができ、工業的にも罹め
て優れたものである。
表 1
Claims (1)
- 担体にビスマス、マンガン、バナジウム、テルルの少く
とも一種とパラジウムを担持させた触媒を用いて、スチ
レン、酢酸及び酸素又は酸素ガスからβ−アセトキシス
チレンを合成する際に、トルイジン、置換基としてアル
コキシ基を有するトルイジン、アニシジン、フェネチジ
ン、エチルアニリン、イソプロピルアニリンの少くとも
一種を添加することを特徴とするβ−アセトキシスチレ
ンの液相合成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60261424A JPS62123149A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | β−アセトキシスチレンの液相合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60261424A JPS62123149A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | β−アセトキシスチレンの液相合成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62123149A true JPS62123149A (ja) | 1987-06-04 |
Family
ID=17361680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60261424A Pending JPS62123149A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | β−アセトキシスチレンの液相合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62123149A (ja) |
-
1985
- 1985-11-22 JP JP60261424A patent/JPS62123149A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63255253A (ja) | アミン類の製造方法 | |
| JPH04225836A (ja) | エチリデンジアセテートの製造方法 | |
| JPS62123149A (ja) | β−アセトキシスチレンの液相合成法 | |
| JP3343982B2 (ja) | 酢酸の製造法 | |
| JPS6362525B2 (ja) | ||
| US6855662B2 (en) | Catalyst for preparing fluorine-containing alcohol compound and a process for preparation of fluorine-containing alcohol compound | |
| JPS628113B2 (ja) | ||
| JPS6039653B2 (ja) | 酸素含有炭化水素化合物の製造方法 | |
| JPH10158227A (ja) | N,n−ジメチルホルムアミドの製造方法 | |
| JPS6126972B2 (ja) | ||
| JP3132141B2 (ja) | γ−ブチロラクトンの製造法 | |
| JP4014287B2 (ja) | 3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法 | |
| JPS627445A (ja) | β−アセトキシスチレンの液相合成用触媒 | |
| JPS6218530B2 (ja) | ||
| KR100710543B1 (ko) | 광학순도가 높은 순수한 (s)-베타-하이드록시-감마-부티로락톤의 연속 제조방법 | |
| JPS62121645A (ja) | ベンズアルデヒドの液相合成用触媒 | |
| JPH01128948A (ja) | 有機含酸素化合物の製造方法 | |
| JPS5936894B2 (ja) | 核置換ベンジルエステルの製造方法 | |
| JPS6120344B2 (ja) | ||
| JPS6119609B2 (ja) | ||
| JPH11140013A (ja) | オキサル酢酸の製造方法 | |
| JPH0227351B2 (ja) | ||
| JPS627446A (ja) | β−アセトキシスチレンの液相合成用触媒 | |
| JPH0227349B2 (ja) | ||
| JPS63162639A (ja) | エタノ−ルを製造する方法 |