JPS62129929A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS62129929A JPS62129929A JP26960285A JP26960285A JPS62129929A JP S62129929 A JPS62129929 A JP S62129929A JP 26960285 A JP26960285 A JP 26960285A JP 26960285 A JP26960285 A JP 26960285A JP S62129929 A JPS62129929 A JP S62129929A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- thin film
- holder
- core
- melting point
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、偏摩耗がない磁気特性のすぐれた薄膜磁気
ヘッドに関する。
ヘッドに関する。
近年、磁気記録の高密度化が進むにつれて、集積化が容
易な薄膜磁気ヘッドが求められている。従来、薄膜磁気
ヘッドを製造するには、第８図に示すように磁性基板も
しくは非磁性基板２（以下、基板という）上に下部磁性
コア３を形成し、その上に磁気ギヤ２１２層４を重ねて
形成する。さらにその上部に、コイル５を必要ターン数
分形成し、そして、コイル５の上面および側面を絶縁膜
６で覆りた後、上部磁性コア７を形成するようにしてい
る。
易な薄膜磁気ヘッドが求められている。従来、薄膜磁気
ヘッドを製造するには、第８図に示すように磁性基板も
しくは非磁性基板２（以下、基板という）上に下部磁性
コア３を形成し、その上に磁気ギヤ２１２層４を重ねて
形成する。さらにその上部に、コイル５を必要ターン数
分形成し、そして、コイル５の上面および側面を絶縁膜
６で覆りた後、上部磁性コア７を形成するようにしてい
る。
ここで、上部磁性コア７を形成した後、さらにＳＺＯ，
などで代表される絶縁膜８を十分厚くスパッタリングや
蒸着などで形成した後、非磁性もしくは磁性基板よシな
るホルダ１０を有機接着剤または低融点ガラスで代表さ
れる無機接着剤９（以下、接着層という）を介して薄膜
形成面と接合し、次に磁気テープ摺接面側を円筒研摩機
などを用いて所定の曲率半径に摺接面を仕上げ、薄膜磁
気ヘッド１を構成している。
などで代表される絶縁膜８を十分厚くスパッタリングや
蒸着などで形成した後、非磁性もしくは磁性基板よシな
るホルダ１０を有機接着剤または低融点ガラスで代表さ
れる無機接着剤９（以下、接着層という）を介して薄膜
形成面と接合し、次に磁気テープ摺接面側を円筒研摩機
などを用いて所定の曲率半径に摺接面を仕上げ、薄膜磁
気ヘッド１を構成している。
上述した薄膜形成面をもつ基板２とホルダ１０の接合に
おいて、有機接着剤による接合は一般的に知られている
方法である。
おいて、有機接着剤による接合は一般的に知られている
方法である。
また、熱膨張係数の異なった薄膜形成パターンを積み重
ねている部分は、憂い温度処理（たとえば５００℃以上
）が薄膜材の剥離という意味で困難であるため、極く加
熱温度の低い低融点ガラスを使用して接合する場合もあ
る。
ねている部分は、憂い温度処理（たとえば５００℃以上
）が薄膜材の剥離という意味で困難であるため、極く加
熱温度の低い低融点ガラスを使用して接合する場合もあ
る。
しかし、有機接着剤や無機接着剤で接合された接着層９
は第９図（第８図の断面図）に示したとおシ、上部磁性
コア７などによって発生する数μｍ以上におよぶ段差り
のため磁気テープ摺接面側に接着層９が現われる。
は第９図（第８図の断面図）に示したとおシ、上部磁性
コア７などによって発生する数μｍ以上におよぶ段差り
のため磁気テープ摺接面側に接着層９が現われる。
この接着層９が等偏向に寸法りとなシ、磁気テープ１１
の磁性面１２の摺動によって落ち込み１３が発生する。
の磁性面１２の摺動によって落ち込み１３が発生する。
この落ち込み１３が原因となシ、磁気ギャップ２層４に
スペースロスやギャップの直線性に影響を与え、磁気ヘ
ッドの特性を劣化させていた。
スペースロスやギャップの直線性に影響を与え、磁気ヘ
ッドの特性を劣化させていた。
これらの段差発生防止方法として、いくつかの方法が知
られている。第１に、第１０図（従来の薄膜磁気ヘッド
の断面図）に示すとおシで、基板２２に形成された前述
の薄膜パターンにより段差りが発生するが、この上にさ
らに形成する絶縁膜２８の厚さＤＰをＤＰ＞Ｄなる関係
で構成し、次にこの絶縁膜２８を平担化するため、機械
加工たとえばラッピング（ボリシング）や砥石加工によ
り点線で示したＤｐ ＞ Ｄ ｓ≧Ｄなる関係位置に除
去加工し平担化する。
られている。第１に、第１０図（従来の薄膜磁気ヘッド
の断面図）に示すとおシで、基板２２に形成された前述
の薄膜パターンにより段差りが発生するが、この上にさ
らに形成する絶縁膜２８の厚さＤＰをＤＰ＞Ｄなる関係
で構成し、次にこの絶縁膜２８を平担化するため、機械
加工たとえばラッピング（ボリシング）や砥石加工によ
り点線で示したＤｐ ＞ Ｄ ｓ≧Ｄなる関係位置に除
去加工し平担化する。
しかし、薄膜形成技術は重ね加工が原則でちゃ、機械的
に除去する加工方法はすでに形成付着させたパターンを
も剥離させる可能性が大であり適切でない。
に除去する加工方法はすでに形成付着させたパターンを
も剥離させる可能性が大であり適切でない。
第２に、第１１図（従来の薄膜磁気ヘッドの断面図）に
示すように、基板３２上に形成した上部磁性コア３７ま
でのパターン上に絶縁膜３８を構成する方法として、バ
イアス・スパッタ法も考えられているが、専用の高価な
真空装置が必要となる。
示すように、基板３２上に形成した上部磁性コア３７ま
でのパターン上に絶縁膜３８を構成する方法として、バ
イアス・スパッタ法も考えられているが、専用の高価な
真空装置が必要となる。
また、その絶縁膜３８の表面は条件によって若干の荒さ
をもつため、ホルダとの接合界面の接着層を皆無にする
ことが困難である。
をもつため、ホルダとの接合界面の接着層を皆無にする
ことが困難である。
以上のように、薄膜パターンによって発生する段差が絶
縁膜上の接着層を介して磁気特性を劣化させていた。
縁膜上の接着層を介して磁気特性を劣化させていた。
この発明は、上述した点にかんがみてなされたもので、
薄膜パターンを形成した基板とホルダの接合において、
磁気テープ摺接面側に偏摩耗のしやすい接着層が介在し
にくく、耐摩耗性の優れた磁気特性の良好な薄膜磁気ヘ
ッド全提供することを目的とする。
薄膜パターンを形成した基板とホルダの接合において、
磁気テープ摺接面側に偏摩耗のしやすい接着層が介在し
にくく、耐摩耗性の優れた磁気特性の良好な薄膜磁気ヘ
ッド全提供することを目的とする。
この発明の薄膜磁気ヘッドは、非磁性体または磁性体の
基板上に磁性薄膜により下部コアを形成し、この下部コ
ア上に磁気ギャップを形成し、この磁気ギャップを介し
て絶縁膜で被覆されたコイルを下部コア上に配設し、こ
のコイルを埋設するごとくに上部コアを形成し、この上
部コア上に保護膜を形成し、高融点ガラスと低融点ガラ
スをそれぞれ所定の厚さに積層して形成したホルダの低
融点ガラスを保護膜側に接触させて加熱接合するように
したものである。
基板上に磁性薄膜により下部コアを形成し、この下部コ
ア上に磁気ギャップを形成し、この磁気ギャップを介し
て絶縁膜で被覆されたコイルを下部コア上に配設し、こ
のコイルを埋設するごとくに上部コアを形成し、この上
部コア上に保護膜を形成し、高融点ガラスと低融点ガラ
スをそれぞれ所定の厚さに積層して形成したホルダの低
融点ガラスを保護膜側に接触させて加熱接合するように
したものである。
以下、この発明の薄膜磁気ヘッドの実施例を第１図ない
し第４図にもとすいて説明する、第１図はその一実施例
の斜視図、第２図から第４図はこの発明になる薄膜磁気
ヘッドの一実施例の製造工程を示す断面図である。
し第４図にもとすいて説明する、第１図はその一実施例
の斜視図、第２図から第４図はこの発明になる薄膜磁気
ヘッドの一実施例の製造工程を示す断面図である。
まず、第２図は薄膜パターンを形成する基板側を示して
おり、この第１図〜第４図において、磁性または非磁性
の基板４２上に磁性薄膜４３、たとえばパーマロイやセ
ンダストなどを下部コアとして形成されている。
おり、この第１図〜第４図において、磁性または非磁性
の基板４２上に磁性薄膜４３、たとえばパーマロイやセ
ンダストなどを下部コアとして形成されている。
次に、磁性薄膜４３上に絶縁膜４４たとえばｓｉｏ、や
Ａ７，０．などがギャップ長ｇをもって磁気ギャップと
して形成されている。そして、コイル４５が必要ターン
数分形成されてお９、そのコイル４５の上面および側面
に絶縁膜４６、たとえば、Ｓｉｎ、、レジスト、ポリイ
ミドなどが被覆されている。
Ａ７，０．などがギャップ長ｇをもって磁気ギャップと
して形成されている。そして、コイル４５が必要ターン
数分形成されてお９、そのコイル４５の上面および側面
に絶縁膜４６、たとえば、Ｓｉｎ、、レジスト、ポリイ
ミドなどが被覆されている。
さらに、上部コア４７としてパーマロイやセンダストな
どをスパッタリング、蒸着、メッキなどで形成されてい
る。
どをスパッタリング、蒸着、メッキなどで形成されてい
る。
次に、コア全体を絶縁する目的で保護膜４８としてＳｉ
Ｏ□などが所定の厚さ分形成されており、かくして、磁
気へラドコア５２を完成する。
Ｏ□などが所定の厚さ分形成されており、かくして、磁
気へラドコア５２を完成する。
さらに、第３図に示すとおり、磁性もしくは非磁性のホ
ルダ基板５１として、たとえばフェライト材、セラミッ
ク材、ガラス材で代表される融点８００°Ｃ以上の材料
基板上に高融点がラス５０がスパッタリング、蒸着、ブ
リメルト法などにより厚さｔＨ分形成されている。
ルダ基板５１として、たとえばフェライト材、セラミッ
ク材、ガラス材で代表される融点８００°Ｃ以上の材料
基板上に高融点がラス５０がスパッタリング、蒸着、ブ
リメルト法などにより厚さｔＨ分形成されている。
次に、高融点がラス５０上に低融点ガラス４９が厚さｔ
Ｌ分高融点がラス５０と同様の方法で形成されている。
Ｌ分高融点がラス５０と同様の方法で形成されている。
このように構成する高融点ガラス５０．低融点がラス４
９で構成されるガラス材の厚みｔＨ、ｔＬと段差りとの
間には次の様な重要な条件が必要である。
９で構成されるガラス材の厚みｔＨ、ｔＬと段差りとの
間には次の様な重要な条件が必要である。
ｔＨ≧Ｄ、 ｔＬ≦２００ＯＡ ・・・・・・囚
このようにして、この発明におけるホルダ５３を完成し
、第２図で示した磁気へラドコア５２とを第４図に示す
とおり、加圧、加熱接合する。このときの接合温度は高
融点がラス５０の軟化温度Ｔ８と低融点ガラス４９の作
業温度Ｔｗが近似となる条件で次のβ式のように処理す
る。
このようにして、この発明におけるホルダ５３を完成し
、第２図で示した磁気へラドコア５２とを第４図に示す
とおり、加圧、加熱接合する。このときの接合温度は高
融点がラス５０の軟化温度Ｔ８と低融点ガラス４９の作
業温度Ｔｗが近似となる条件で次のβ式のように処理す
る。
Ｔｓ ′、Ｔｗ ＜ ８００℃ −・・・−・＋Ｅ
ｌこの条件により高融点がラス５０は軟化し、薄膜パタ
ーンの段差に十分なじんで密着する形になる。低融点ガ
ラス４９は磁気へラドコア５２とホルダ５３の接合に供
されるが、膜厚がもともと２ｏｏｏＡ以下のため発泡も
起こらず十分な接着強度が得られる。
ｌこの条件により高融点がラス５０は軟化し、薄膜パタ
ーンの段差に十分なじんで密着する形になる。低融点ガ
ラス４９は磁気へラドコア５２とホルダ５３の接合に供
されるが、膜厚がもともと２ｏｏｏＡ以下のため発泡も
起こらず十分な接着強度が得られる。
さらに、低融点がラス４９は磁気テープに対する耐摩耗
性が悪いが、もともと２０００Ａ以下の厚さで形成する
だめ、偏摩耗は起こらない。
性が悪いが、もともと２０００Ａ以下の厚さで形成する
だめ、偏摩耗は起こらない。
寸た、高融点ガラス５０は一般に裏硬度であることが知
られているように、磁気テープに対する偏摩耗が起こシ
にくい。
られているように、磁気テープに対する偏摩耗が起こシ
にくい。
次に、第４図の点線に示した位置に円筒研摩機などを使
用して所定の曲率に仕上げると第１図に示した耐摩耗性
の優れた磁気特性の良好な薄膜磁気ヘッド４１が得られ
る。
用して所定の曲率に仕上げると第１図に示した耐摩耗性
の優れた磁気特性の良好な薄膜磁気ヘッド４１が得られ
る。
上記実施例は１トラツクの薄膜磁気ヘッドについて述べ
たものであるが、この発明の趣旨は多トラツクの４嘆磁
気ヘッドについても同様であり、第５図に示すごとく、
磁気テープ摺接面から観察できるとおり、多トラツクの
上部コア４７が並置されているものについても同じ効果
が得られ、薄膜磁気ヘッド６１が得られる。
たものであるが、この発明の趣旨は多トラツクの４嘆磁
気ヘッドについても同様であり、第５図に示すごとく、
磁気テープ摺接面から観察できるとおり、多トラツクの
上部コア４７が並置されているものについても同じ効果
が得られ、薄膜磁気ヘッド６１が得られる。
第６図および第７図はこの発明のさらに異なる他の実施
例の断面図であシ、第６図は非磁性のホルダ基板７１、
たとえば高融点ガラスでその接合面側に低融点ガラス７
２がスパッタリング、蒸着、プリメルト法などにより形
成されていることを示している。この低融点ガラス７２
の厚さｔＬは次の関係を満足させている。そして、ホル
ダ７３を構成している。
例の断面図であシ、第６図は非磁性のホルダ基板７１、
たとえば高融点ガラスでその接合面側に低融点ガラス７
２がスパッタリング、蒸着、プリメルト法などにより形
成されていることを示している。この低融点ガラス７２
の厚さｔＬは次の関係を満足させている。そして、ホル
ダ７３を構成している。
ｔＬ≦２００ＯＡ ・・・・・・・・・（０次
に、第７図はホルダ７３と第１図で示した磁気へラドコ
ア５２を加圧、加熱接合した状態を示している。接合温
度条件は高融点ガラスの軟化温度をＴｓ、低融点ガラス
の作業温度をＴｗとすると、前述の（Ｂ１式の関係とな
る。このようにして段差部をホルダ基板７１自身が埋め
込む形となｐ１低融点がラス７２は接着強度維持に供さ
れる。
に、第７図はホルダ７３と第１図で示した磁気へラドコ
ア５２を加圧、加熱接合した状態を示している。接合温
度条件は高融点ガラスの軟化温度をＴｓ、低融点ガラス
の作業温度をＴｗとすると、前述の（Ｂ１式の関係とな
る。このようにして段差部をホルダ基板７１自身が埋め
込む形となｐ１低融点がラス７２は接着強度維持に供さ
れる。
しかし、この−例ではホルダ７３自身が変形する形態を
とるため、ホルダ基板７１の裏面も変形するため、必要
があれば一点鎖線で示した位置までラッピングや砥石加
工などで除去する。
とるため、ホルダ基板７１の裏面も変形するため、必要
があれば一点鎖線で示した位置までラッピングや砥石加
工などで除去する。
そして、点線で示した位置に円筒研摩機などで所定の曲
率に仕上げ、薄膜磁気ヘッド８１を完成する。
率に仕上げ、薄膜磁気ヘッド８１を完成する。
以上述べたように、この発明の薄膜磁気ヘッドによれば
、ホルダ基板上の高融点ガラスが薄膜パターンの段差を
埋め込み、薄く形成された低融点ガラスがホルダとコア
基板の接合に供され、偏摩耗のない良好な磁気特性が得
られる。
、ホルダ基板上の高融点ガラスが薄膜パターンの段差を
埋め込み、薄く形成された低融点ガラスがホルダとコア
基板の接合に供され、偏摩耗のない良好な磁気特性が得
られる。
第１図はこの発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の斜視図
、第２図ないし第４図はこの発明の薄膜磁気ヘッドの一
実施例の製造工程を説明するための断面図、第５図はこ
の発明の薄膜磁気ヘッドを多トラツクに適用した場合の
実施例の断面図、第６図および第７図はそれぞれこの発
明の薄膜磁気ヘッドのさらに異なる他の実施例の製造工
程を説明するための断面図、第８図は従来の薄膜磁気ヘ
ッドの斜視図、第９図ないし第１１図は従来の薄膜磁気
ヘッドの製造工程を説明するだめの断面図である。 ４１．８１・・・薄膜磁気ヘッド、４２・・・基板、４
３・・・磁性薄膜、４４．４６・・・絶縁膜、４５・・
・コイル、４７・・・上部コア、４８・・・保護膜、４
９・・・低融点ガラス、５０・・・高融点ガラス、５１
゜７１・・・ホルダ基板、５３．７３・・・ホルダ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第３図 Ｚ 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図 第９図 第１１図
、第２図ないし第４図はこの発明の薄膜磁気ヘッドの一
実施例の製造工程を説明するための断面図、第５図はこ
の発明の薄膜磁気ヘッドを多トラツクに適用した場合の
実施例の断面図、第６図および第７図はそれぞれこの発
明の薄膜磁気ヘッドのさらに異なる他の実施例の製造工
程を説明するための断面図、第８図は従来の薄膜磁気ヘ
ッドの斜視図、第９図ないし第１１図は従来の薄膜磁気
ヘッドの製造工程を説明するだめの断面図である。 ４１．８１・・・薄膜磁気ヘッド、４２・・・基板、４
３・・・磁性薄膜、４４．４６・・・絶縁膜、４５・・
・コイル、４７・・・上部コア、４８・・・保護膜、４
９・・・低融点ガラス、５０・・・高融点ガラス、５１
゜７１・・・ホルダ基板、５３．７３・・・ホルダ。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第３図 Ｚ 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図 第９図 第１１図
Claims (2)
- （１）非磁性体または磁性体の基板上に磁性薄膜により
形成された下部コアと、この下部コア上に形成された磁
気ギャップと、この磁気ギャップを介して配設され絶縁
膜で被覆されたコイルと、このコイルを埋設して上記磁
気ギャップ上に形成された上部コアと、この上部コア上
に形成された保護膜と、高融点ガラスと低融点ガラスが
順次積層されてこの低融点ガラス側から上記保護膜に加
熱接合されたホルダとを具備した薄膜磁気ヘッド。 - （２）ホルダは磁性体もしくは非磁性体により形成され
たホルダ基板上に高融点ガラスと低融点ガラスが順次所
定の厚さに形成されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26960285A JPS62129929A (ja) | 1985-11-30 | 1985-11-30 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26960285A JPS62129929A (ja) | 1985-11-30 | 1985-11-30 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62129929A true JPS62129929A (ja) | 1987-06-12 |
Family
ID=17474647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26960285A Pending JPS62129929A (ja) | 1985-11-30 | 1985-11-30 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62129929A (ja) |
-
1985
- 1985-11-30 JP JP26960285A patent/JPS62129929A/ja active Pending
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