JPS6234020B2 - - Google Patents
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- JPS6234020B2 JPS6234020B2 JP7475180A JP7475180A JPS6234020B2 JP S6234020 B2 JPS6234020 B2 JP S6234020B2 JP 7475180 A JP7475180 A JP 7475180A JP 7475180 A JP7475180 A JP 7475180A JP S6234020 B2 JPS6234020 B2 JP S6234020B2
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
本発明は液晶組成物の成分として有用な、正の
誘電異方性を有する新規な液晶化合物及びそれを
含有する液晶組成物に関する。 液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性、誘
電異方性という性質を利用したものであるが、そ
の方式にはTN型(ねじれネマチツク型)、DS型
(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型など
があり、それぞれの方式によつて使用される液晶
物質に要求される性質は異る。しかしいずれの方
式に用いられる液晶物質でも水分、空気、熱、光
等に安定である必要があり、さらにはそのネマチ
ツク温度範囲が−20〜+80℃以上のものが望まれ
ている。しかし、現在のところ、単一物質ではこ
の様な条件を満す物質はないので、数種の液晶物
質や非液晶物質を混合して目的に適合させている
のが現状である。 使用温度が比較的高い様な用途に使用する場合
はN−I点(ネマチツク−透明点)が高い液晶組
成物を使用しなければならないが、その様な液晶
を得るためには高融点の液晶化合物を多く使用す
る必要がある。ところが一般に高融点の液晶物質
は粘度が高く従つて組成物の粘度も高くなる。粘
度が高くなると表示素子の表示速度がおそくなり
応用範囲が制限される。 本発明の化合物は、この様な用途の液晶組成物
に一成分として加えることにより全体の粘度を低
下させ、しかも液晶としての諸性能を低下させな
いばかりか、かえつて向上させる様な化合物に関
するものである。 即ち、本発明は一般式 (上式中、Rは炭素数1〜10の直鎖のアルキル基
を示す) で表わされるトランス−4−アルキル−(4′−ク
ロロフエニル)シクロヘキサン及びそれを少なく
とも1成分含むことを特徴とする液晶組成物であ
る。 本発明の()式の化合物は低粘性であるの
で、これを液晶組成物に加えることにより、その
組成物の粘度が低くなり、従つてそれを用いた表
示素子の表示速度が速くなる。しかも本化合物の
誘電率異方性△εは+2程度と小さいにもかかわ
らずしきい電圧も低くなる。又、本化合物は熱、
光、空気、水に安定であり、他の液晶、即ちビフ
エニル系、フエニルシクロヘキサン系、エステル
系の液晶とよく混合することが出来る。又光学異
方性値が0.06と小さいので視角特性の良い表示素
子をつくることができる。 次に本発明の化合物の製造法を示す。 まず4−クロロ−臭化ベンゼンと金属マグネシ
ウムを反応させ4−クロロベンゼンマグネシウム
ブロミドをつくり、これに4−アルキルシクロヘ
キサノンを反応させて4′−アルキル−1′−シクロ
ヘキサン−1′−オール−4−クロロベンゼンと
し、ついで酸性硫酸カリウムを用いて脱水して
4′−アルキル−4′−シクロヘキセン−1′−イル−
4−クロロベンゼンとし、これを更に酸化白金触
媒を用いて還元して目的のトランス−4−アルキ
ル−(4′−クロロフエニル)シクロヘキサンを得
る。以上を化学式で示すと (Rは前記と同じ) 最後の()′式のものはトランス体とシス体
との混合物であるが再結晶によりトランス体のみ
を分離できる。 以下に本発明の化合物の製造法及びその性質、
更にそれを含む液晶組成物について、実施例によ
り詳細に説明する。 実施例 1 〔トランス−4−ヘプチル−(4′−クロロフエニ
ル)シクロヘキサンの製造〕 フラスコ中のマグネシウム切片2.4g(0.1モ
ル)に対し、p−ブロムクロルベンゼン21g
(0.1モル)を100mlのTHF(テトラヒドロフラ
ン)に溶解した溶液を、窒素気流中で温度を35℃
以下に保ちながら除々に滴下して行く。マグネシ
ウムが溶け均一な溶液になれば、それが4−クロ
ロフエニルマグネシウムブロミドの溶液即ちグリ
ニヤール試薬である。これに、4−ヘプチルシク
ロヘキサノン0.08モルをTHF100mlに溶かした溶
液を、発熱しない様充分冷却しながら20℃以下で
全量を速かに加える。30℃で1時間保つた後、水
冷し20℃以下で徐々に10%硫酸60mlを加える。油
状物をn−ヘプタン200mlで抽出し、それを水層
が中性になるまで水洗してからn−ヘプタンを減
圧留去する。残つた油状物が4′−ヘプチル−1′−
シクロヘキサン−1′−オール−4−クロルベンゼ
ンである。これに3.5gの硫酸水素カリウムを加
え窒素気流中撹拌しながら250℃で2時間加熱し
て脱水する。冷却後n−ヘプタン200mlを加え硫
酸水素カリウムを別しn−ヘプタン層を水洗す
る。n−ヘプタンを減圧留去し残つた油状物をア
ルコール500mlで再結晶させると4′−ヘプチル−
1′−シクロヘキセン−1′−イル−4−クロロベン
ゼン()が得られる。このものの収量は15g、
収率は50%で、融点は62.4〜64.0℃である。次に
その5.0gをベンゼン20mlに溶かし酸化白金
(PtO2)0.25gを加え、接触還元装置で常圧、30
℃で水素還元を行なつた。10時間で水素吸収量は
7.9(0.35モル)であつた。還元終了後、触媒
を別し、少量のエタノールで洗つて液をその
まま冷却すると結晶が析出する。これが4−ヘプ
チル−(4′−クロロフエニル)シクロヘキサンの
シス体とトランス体の混合物である。これを新し
いエタノール150mlで再結晶すると目的のトラン
ス−4−ヘプチル−−(4′−クロロフエニル)シ
クロヘキサンが0.3g得られた(化合物()を
基準として収率6%)。このものは融点(C−I
点)が36.0〜37.5℃、N−I点は18.3℃でモノト
ロロピツク液晶である。 実施例 2〜8 実施例1と全く同様にして()式でRが炭素
数1〜8のアルキル基の化合物を対応するアルキ
ル基を持つ原料を使用することにより製造した。
その収量及び融点などを実施例1の結果と共に第
1表に示す。
誘電異方性を有する新規な液晶化合物及びそれを
含有する液晶組成物に関する。 液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性、誘
電異方性という性質を利用したものであるが、そ
の方式にはTN型(ねじれネマチツク型)、DS型
(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型など
があり、それぞれの方式によつて使用される液晶
物質に要求される性質は異る。しかしいずれの方
式に用いられる液晶物質でも水分、空気、熱、光
等に安定である必要があり、さらにはそのネマチ
ツク温度範囲が−20〜+80℃以上のものが望まれ
ている。しかし、現在のところ、単一物質ではこ
の様な条件を満す物質はないので、数種の液晶物
質や非液晶物質を混合して目的に適合させている
のが現状である。 使用温度が比較的高い様な用途に使用する場合
はN−I点(ネマチツク−透明点)が高い液晶組
成物を使用しなければならないが、その様な液晶
を得るためには高融点の液晶化合物を多く使用す
る必要がある。ところが一般に高融点の液晶物質
は粘度が高く従つて組成物の粘度も高くなる。粘
度が高くなると表示素子の表示速度がおそくなり
応用範囲が制限される。 本発明の化合物は、この様な用途の液晶組成物
に一成分として加えることにより全体の粘度を低
下させ、しかも液晶としての諸性能を低下させな
いばかりか、かえつて向上させる様な化合物に関
するものである。 即ち、本発明は一般式 (上式中、Rは炭素数1〜10の直鎖のアルキル基
を示す) で表わされるトランス−4−アルキル−(4′−ク
ロロフエニル)シクロヘキサン及びそれを少なく
とも1成分含むことを特徴とする液晶組成物であ
る。 本発明の()式の化合物は低粘性であるの
で、これを液晶組成物に加えることにより、その
組成物の粘度が低くなり、従つてそれを用いた表
示素子の表示速度が速くなる。しかも本化合物の
誘電率異方性△εは+2程度と小さいにもかかわ
らずしきい電圧も低くなる。又、本化合物は熱、
光、空気、水に安定であり、他の液晶、即ちビフ
エニル系、フエニルシクロヘキサン系、エステル
系の液晶とよく混合することが出来る。又光学異
方性値が0.06と小さいので視角特性の良い表示素
子をつくることができる。 次に本発明の化合物の製造法を示す。 まず4−クロロ−臭化ベンゼンと金属マグネシ
ウムを反応させ4−クロロベンゼンマグネシウム
ブロミドをつくり、これに4−アルキルシクロヘ
キサノンを反応させて4′−アルキル−1′−シクロ
ヘキサン−1′−オール−4−クロロベンゼンと
し、ついで酸性硫酸カリウムを用いて脱水して
4′−アルキル−4′−シクロヘキセン−1′−イル−
4−クロロベンゼンとし、これを更に酸化白金触
媒を用いて還元して目的のトランス−4−アルキ
ル−(4′−クロロフエニル)シクロヘキサンを得
る。以上を化学式で示すと (Rは前記と同じ) 最後の()′式のものはトランス体とシス体
との混合物であるが再結晶によりトランス体のみ
を分離できる。 以下に本発明の化合物の製造法及びその性質、
更にそれを含む液晶組成物について、実施例によ
り詳細に説明する。 実施例 1 〔トランス−4−ヘプチル−(4′−クロロフエニ
ル)シクロヘキサンの製造〕 フラスコ中のマグネシウム切片2.4g(0.1モ
ル)に対し、p−ブロムクロルベンゼン21g
(0.1モル)を100mlのTHF(テトラヒドロフラ
ン)に溶解した溶液を、窒素気流中で温度を35℃
以下に保ちながら除々に滴下して行く。マグネシ
ウムが溶け均一な溶液になれば、それが4−クロ
ロフエニルマグネシウムブロミドの溶液即ちグリ
ニヤール試薬である。これに、4−ヘプチルシク
ロヘキサノン0.08モルをTHF100mlに溶かした溶
液を、発熱しない様充分冷却しながら20℃以下で
全量を速かに加える。30℃で1時間保つた後、水
冷し20℃以下で徐々に10%硫酸60mlを加える。油
状物をn−ヘプタン200mlで抽出し、それを水層
が中性になるまで水洗してからn−ヘプタンを減
圧留去する。残つた油状物が4′−ヘプチル−1′−
シクロヘキサン−1′−オール−4−クロルベンゼ
ンである。これに3.5gの硫酸水素カリウムを加
え窒素気流中撹拌しながら250℃で2時間加熱し
て脱水する。冷却後n−ヘプタン200mlを加え硫
酸水素カリウムを別しn−ヘプタン層を水洗す
る。n−ヘプタンを減圧留去し残つた油状物をア
ルコール500mlで再結晶させると4′−ヘプチル−
1′−シクロヘキセン−1′−イル−4−クロロベン
ゼン()が得られる。このものの収量は15g、
収率は50%で、融点は62.4〜64.0℃である。次に
その5.0gをベンゼン20mlに溶かし酸化白金
(PtO2)0.25gを加え、接触還元装置で常圧、30
℃で水素還元を行なつた。10時間で水素吸収量は
7.9(0.35モル)であつた。還元終了後、触媒
を別し、少量のエタノールで洗つて液をその
まま冷却すると結晶が析出する。これが4−ヘプ
チル−(4′−クロロフエニル)シクロヘキサンの
シス体とトランス体の混合物である。これを新し
いエタノール150mlで再結晶すると目的のトラン
ス−4−ヘプチル−−(4′−クロロフエニル)シ
クロヘキサンが0.3g得られた(化合物()を
基準として収率6%)。このものは融点(C−I
点)が36.0〜37.5℃、N−I点は18.3℃でモノト
ロロピツク液晶である。 実施例 2〜8 実施例1と全く同様にして()式でRが炭素
数1〜8のアルキル基の化合物を対応するアルキ
ル基を持つ原料を使用することにより製造した。
その収量及び融点などを実施例1の結果と共に第
1表に示す。
【表】
応用例 1
トランス−4−プロピル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 24% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 36% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 25% トランス−4−ペンチル−(4″−シアノビフエニ
ル)シクロヘキサン 15% なる液晶組成物のN−I点は72.0℃、誘電異方性
値△εは+11.6で光学異方性値△nは0.140、20
℃での粘度は28cpである。この液晶組成物を透
明電極を施した厚さ10μmのTNセルに封入した
ものの動作しきい電圧は1.75V、飽和電圧は
2.40Vである。 上記の組成物85部に本発明の実施例6のトラン
ス−4−ペンチル−(4′−クロロフエニル)シク
ロヘキサン15部を加えた組成物のN−I点は63.1
℃、△εは+10.2で△nは0.127 20℃での粘度は
24cpであつた。これを上記と同じセルに封入し
たTNセルの動作しきい電圧は1.65V、飽和電圧
は2.26と低くなつた。
ル)シクロヘキサン 24% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 36% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 25% トランス−4−ペンチル−(4″−シアノビフエニ
ル)シクロヘキサン 15% なる液晶組成物のN−I点は72.0℃、誘電異方性
値△εは+11.6で光学異方性値△nは0.140、20
℃での粘度は28cpである。この液晶組成物を透
明電極を施した厚さ10μmのTNセルに封入した
ものの動作しきい電圧は1.75V、飽和電圧は
2.40Vである。 上記の組成物85部に本発明の実施例6のトラン
ス−4−ペンチル−(4′−クロロフエニル)シク
ロヘキサン15部を加えた組成物のN−I点は63.1
℃、△εは+10.2で△nは0.127 20℃での粘度は
24cpであつた。これを上記と同じセルに封入し
たTNセルの動作しきい電圧は1.65V、飽和電圧
は2.26と低くなつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (上式中、Rは炭素数1〜10の直鎖のアルキル基
を示す) で表わされるトランス−4−アルキル−(4′−ク
ロロ−フエニル)シクロヘキサン。 2 一般式 (上式中、Rは炭素数1〜10の直鎖のアルキル基
を示す) で表わされるトランス−4−アルキル−(4′−ク
ロロフエニル)シクロヘキサンを少なくも1成分
含むことを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7475180A JPS572226A (en) | 1980-06-03 | 1980-06-03 | Trans-4-alkyl-4'-halogenophenylcyclohexane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7475180A JPS572226A (en) | 1980-06-03 | 1980-06-03 | Trans-4-alkyl-4'-halogenophenylcyclohexane |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS572226A JPS572226A (en) | 1982-01-07 |
| JPS6234020B2 true JPS6234020B2 (ja) | 1987-07-24 |
Family
ID=13556270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7475180A Granted JPS572226A (en) | 1980-06-03 | 1980-06-03 | Trans-4-alkyl-4'-halogenophenylcyclohexane |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS572226A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61156373U (ja) * | 1984-11-30 | 1986-09-27 | ||
| EP0481032A1 (de) * | 1990-04-13 | 1992-04-22 | MERCK PATENT GmbH | Flüssigkristallines medium |
| JP3579728B2 (ja) | 1994-06-23 | 2004-10-20 | チッソ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| CN103435437A (zh) * | 2013-09-06 | 2013-12-11 | 黑龙江省科学院石油化学研究院 | 一种合成4-(反式,反式-4-正烷基环己基)氟苯类液晶单体化合物的方法 |
| US10557978B2 (en) * | 2015-07-24 | 2020-02-11 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Composition, optical film including composition, and method of producing optical film |
-
1980
- 1980-06-03 JP JP7475180A patent/JPS572226A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS572226A (en) | 1982-01-07 |
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