JPS6237887B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6237887B2
JPS6237887B2 JP55081695A JP8169580A JPS6237887B2 JP S6237887 B2 JPS6237887 B2 JP S6237887B2 JP 55081695 A JP55081695 A JP 55081695A JP 8169580 A JP8169580 A JP 8169580A JP S6237887 B2 JPS6237887 B2 JP S6237887B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
metal wiring
installation floor
semiconductor device
floor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55081695A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS577143A (en
Inventor
Takeyumi Abe
Osamu Fujikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Toshiba Corp
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd, Toshiba Corp filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP8169580A priority Critical patent/JPS577143A/ja
Publication of JPS577143A publication Critical patent/JPS577143A/ja
Publication of JPS6237887B2 publication Critical patent/JPS6237887B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0428Apparatus for mechanical treatment or grinding or cutting
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/60Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
    • H10W70/67Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their insulating layers or insulating parts
    • H10W70/68Shapes or dispositions thereof
    • H10W70/682Shapes or dispositions thereof comprising holes having chips therein
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/754Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体搭載用基板の製造方法に関す
る。
従来、半導体搭載用基板には、第1図に示す如
く、半導体素子1を装着するための配設床2が基
体3の所定領域に穿設されている。この配設床2
の周囲の基板表面には、所定パターンの金属配線
4が形成されている。なお、図中5はモールド樹
脂である。
基体3に配設床2を穿設する第1の理由は、第
2図に示す如く直接基体3の表面に半導体素子1
を装着した場合に比べて製造される半導体装置の
厚さを小さくして小型化を図るためである。
第2の理由は、第3図に示す如く、金属配線4
と半導体素子1のパツドとのワイヤボンデイング
を良好にするために、金属配線4の表面に施され
た金メツキによつて金属配線4の先端部相互が接
触している場合に、配設床2を形成する際のザグ
リ加工によつてこの接触部を分離して所定形状の
金属配線4を形成することにある。
第3の理由は、第4図に示す如く、基板3に穿
設された配設床2に半導体素子1を収容すること
によつて、金属配線4のパツド面と半導体素子1
のパツド面とをほぼ面一に設定し、第5図に示す
如く基体3の表面に直接半導体素子1を装着した
場合に生じる金属配線4のパツドと半導体素子1
のパツド間の段差をなくしてボンデイングワイヤ
6の弛みによる短落等の電気障害を防止すること
にある。
而して、このような配設床2の加工は、第6図
Aに示す如く、ザグリ加工具7を略渦巻状に移動
して半導体素子1よりも僅に大きい長方形の凹み
部を形成するようにして行つている。或は、同図
Bに示す如く、ザグリ加工具7の先端部の形状分
だけ4隅が突出した形状の略長方形の凹み部を形
成するようにしている。
このためザグリ加工具7による加工時間が長く
極めて作業性が悪い欠点があつた。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので加
工時間の短縮を図つて安格な半導体搭載用基板の
製造方法を提供するものである。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。
第7図は、本発明の方法にて得た半導体搭載用
基板を適用した半導体装置の平面図である。この
半導体搭載用基板10には、長円形の配設床11
が穿設されている。配設床11の周囲の基板表面
には、所定パターンの金属配線12が形成されて
いる。
配設床11には所望の半導体素子13が収容さ
れるようになつている。配設床11の深さ、幅
W、及び長さLは、半導体素子13の形状応じて
適宜設定されている。
而して、このように形成された半導体搭載用基
板10は、先端面が円形のザグリ加工具11a
を、半導体搭載用基板10の所定領域に当接し、
これを一方向に移動させるだけの極めて簡単な操
作によつて、加工によつて形成される凹部が連な
つた状態で所定の長円形の配設床11を形成する
ようにして製造されている。
その結果、加工時間を著しく短縮せしめて価格
の低減を図ることができる。
第8図は、本発明方法で得られた半導体搭載用
基板を適用した半導体装置の他の実施例の平面図
である。この半導体搭載用基板14の所定領域に
は、略亜鈴形の配設床15が穿設されている。配
設床15の深さ、幅W、及び長さLは、配設床1
5に収容される半導体装置16の形状に応じて設
定されている。また、配設床15の周囲の基板1
4表面には所定パターンの金属配線17が形成さ
れている。
而して、このように構成された半導体搭載用基
板14は、先端面が円形のザグリ加工具15aを
用いてザグリ加工形状が略亜鈴形になるように加
工によつて形成される凹部が連なるようにして穿
設操作を2回施すだけの極めて容易な操作で配設
床16を形成している。
以上説明した如く、本発明に係る半導体搭載用
基板の製造方法によれば、長円形または略亜鈴形
の配設床を容易に形成できるので、加工時間を著
しく短縮せしめて格価を低減させることができる
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の配設床を有する半導体搭載用
基板を用いた半導体装置の断面図、第2図は、従
来の平板状の半導体搭載用基板を用いた半導体装
置の断面図、第3図は、第1図に示す半導体装置
の平面図、第4図は、同半導体装置の要部を示す
断面図、第5図は、第2図に示す半導体装置の要
部を示す断面図、第6図Aは第1図に示す半導体
装置の配設床の形成方法を示す説明図、同図B
は、同配設床の形成方法の他の例を示す説明図、
第7図は、本発明方法にて得た半導体搭載用基板
を適用した半導体装置の平面図、第8図は、本発
明方法にて得た半導体搭載用基板を適用した半導
体装置の他の実施例の平面図である。 10,14…半導体搭載用基板、11,15…
配設床、12,17…金属配線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 半導体素子に形成されたパツドに接続される
    所定パターンの金属配線を有する半導体搭載用基
    板の所定領域に、先端面が円形のザグリ加工具の
    該先端面を当接し、かつ、加工によつて形成され
    る凹部が連なつた状態で長円形または略亜鈴形の
    配設床を形成するように該ザグリ加工具を一方向
    に移動させながら加工することを特徴とする半導
    体搭載用基板の製造方法。
JP8169580A 1980-06-17 1980-06-17 Substrate for carrying semiconductor Granted JPS577143A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8169580A JPS577143A (en) 1980-06-17 1980-06-17 Substrate for carrying semiconductor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8169580A JPS577143A (en) 1980-06-17 1980-06-17 Substrate for carrying semiconductor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS577143A JPS577143A (en) 1982-01-14
JPS6237887B2 true JPS6237887B2 (ja) 1987-08-14

Family

ID=13753499

Family Applications (1)

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JP8169580A Granted JPS577143A (en) 1980-06-17 1980-06-17 Substrate for carrying semiconductor

Country Status (1)

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JP (1) JPS577143A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353473A (ja) * 1989-07-20 1991-03-07 Nobuyuki Odagiri 電気製品名表示付電源プラグ
JPH0353472A (ja) * 1989-07-20 1991-03-07 Nobuyuki Odagiri 電気製品名点字表示付電源プラグ

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5384681A (en) * 1976-12-29 1978-07-26 Mitsumi Electric Co Ltd Method of producing leadless package

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353473A (ja) * 1989-07-20 1991-03-07 Nobuyuki Odagiri 電気製品名表示付電源プラグ
JPH0353472A (ja) * 1989-07-20 1991-03-07 Nobuyuki Odagiri 電気製品名点字表示付電源プラグ

Also Published As

Publication number Publication date
JPS577143A (en) 1982-01-14

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