JPS6260877A - 化学メツキ用積層板 - Google Patents
化学メツキ用積層板Info
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- JPS6260877A JPS6260877A JP60199567A JP19956785A JPS6260877A JP S6260877 A JPS6260877 A JP S6260877A JP 60199567 A JP60199567 A JP 60199567A JP 19956785 A JP19956785 A JP 19956785A JP S6260877 A JPS6260877 A JP S6260877A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は、スルーホール信頼性の高い、密着性、半田耐
熱性に優れた化学メッキ用積層板に関する。
熱性に優れた化学メッキ用積層板に関する。
[発明の技術的背慎どその問題点]
電子機器の小形化、軽量化に伴い、それに用いられるプ
リント配線板はますます精密化、高信頼性が要求されて
きた。 そして、必要な部分にのみメッキで回路形成を
行うアディティブ法によるプリント配線板が、ザブトラ
クト法のものに比べて、回路のファインパターン化、製
造工程の簡略化、低コスト化、省資源などの多くの点で
右利であるため注目されるようになってきた。 アディ
ティブ法のための化学メッキ用積層板は、ガラス基材・
エポキシ樹脂や紙基材・フェノール樹脂などを主材とし
、化学メッキの施すことのできる接着剤層を表面に被覆
したものである。
リント配線板はますます精密化、高信頼性が要求されて
きた。 そして、必要な部分にのみメッキで回路形成を
行うアディティブ法によるプリント配線板が、ザブトラ
クト法のものに比べて、回路のファインパターン化、製
造工程の簡略化、低コスト化、省資源などの多くの点で
右利であるため注目されるようになってきた。 アディ
ティブ法のための化学メッキ用積層板は、ガラス基材・
エポキシ樹脂や紙基材・フェノール樹脂などを主材とし
、化学メッキの施すことのできる接着剤層を表面に被覆
したものである。
しかじかながら、ガラス基材・エポキシ樹脂を主材とす
る化学メッキ用積層板は、前記のメリットにもかかわら
ず、いまだ信頼性の十分高いものが得られていない。
この原因としていくつか考えられるが、そのなかで主材
のエポキシ樹脂と接着剤層中の樹脂構成が大幅に異なる
ため両者の間で親和性が不足し、熱時のフクレや剥離を
生ずることが最も大きな要因と考えられ、いまだ満足す
べき解決手段が得られていなかった。
る化学メッキ用積層板は、前記のメリットにもかかわら
ず、いまだ信頼性の十分高いものが得られていない。
この原因としていくつか考えられるが、そのなかで主材
のエポキシ樹脂と接着剤層中の樹脂構成が大幅に異なる
ため両者の間で親和性が不足し、熱時のフクレや剥離を
生ずることが最も大きな要因と考えられ、いまだ満足す
べき解決手段が得られていなかった。
[発明の目的]
本発明の目的は、上記の実情に鑑みてなさたれもので、
スルーホール信頼性が高く、密着性、半田耐熱性に優れ
たガラスペーパー・ガラス布基材エポキシ樹脂の化学メ
ッキ用積層板を提供しようとするものである。
スルーホール信頼性が高く、密着性、半田耐熱性に優れ
たガラスペーパー・ガラス布基材エポキシ樹脂の化学メ
ッキ用積層板を提供しようとするものである。
[発明の概要]
本発明者は、前記の目的を達成しようと鋭意研究を重ね
た結果、ガラス布li4プリプレグ中のエポキシ樹脂と
、接着剤層中のエポキシ樹脂とを同一エポキシ樹脂にす
れば、スルーホール信頼性、密着性、半田耐熱性が向上
することを見いだし、本発明を完成するに至ったもので
ある。
た結果、ガラス布li4プリプレグ中のエポキシ樹脂と
、接着剤層中のエポキシ樹脂とを同一エポキシ樹脂にす
れば、スルーホール信頼性、密着性、半田耐熱性が向上
することを見いだし、本発明を完成するに至ったもので
ある。
即ち、本発明は、ガラスペーパー基材エポキシ樹脂層(
I)の両側にガラス布基材エポキシ樹脂層(II)を有
し、さらに該ガラス布基材エポキシ樹脂層(II)の少
なくとも片面にエポキシ樹脂を含む接着剤層(I[[)
を設けた化学メッキ用積層板であり、前記樹脂層([)
中のエポキシ樹脂と、前記接着剤層(nI)中に含まれ
るエポキシ樹脂とが同一エポキシ樹脂であることを特徴
とする化学メッキ用積層板である。 そして、接着剤層
がブタジエンニトルラバー、キシレン樹脂又はフェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、硫黄、ジシアンジアミドおよび
微粉末酸化ケイ素からなるものである。
I)の両側にガラス布基材エポキシ樹脂層(II)を有
し、さらに該ガラス布基材エポキシ樹脂層(II)の少
なくとも片面にエポキシ樹脂を含む接着剤層(I[[)
を設けた化学メッキ用積層板であり、前記樹脂層([)
中のエポキシ樹脂と、前記接着剤層(nI)中に含まれ
るエポキシ樹脂とが同一エポキシ樹脂であることを特徴
とする化学メッキ用積層板である。 そして、接着剤層
がブタジエンニトルラバー、キシレン樹脂又はフェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、硫黄、ジシアンジアミドおよび
微粉末酸化ケイ素からなるものである。
本発明に用いるエポキシ樹脂は、ガラスペーパー基材エ
ポキシ樹脂層(1)、ガラス布基材エポキシ樹脂層(n
)およびエポキシ樹脂を含む接着剤層(I[[)に用い
られるものであるが、基材を1燃グレードとするため難
燃性エポキシ樹脂であることが望ましい。 具体的には
、臭素化率19〜25%のビスフェノールA型エポキシ
樹脂、が挙げられ、これらは単独もしくは2種以上組み
合わせて使用する。 また耐熱性や電気特性の向上を図
るために、上記難燃性エポキシ樹脂にノボラック型エポ
キシ樹脂を併用することもできる。
ポキシ樹脂層(1)、ガラス布基材エポキシ樹脂層(n
)およびエポキシ樹脂を含む接着剤層(I[[)に用い
られるものであるが、基材を1燃グレードとするため難
燃性エポキシ樹脂であることが望ましい。 具体的には
、臭素化率19〜25%のビスフェノールA型エポキシ
樹脂、が挙げられ、これらは単独もしくは2種以上組み
合わせて使用する。 また耐熱性や電気特性の向上を図
るために、上記難燃性エポキシ樹脂にノボラック型エポ
キシ樹脂を併用することもできる。
ここで最も重要なことは、ガラス布基材エポキシ樹脂層
(I)に用いるエポキシ樹脂と、エポキシ樹脂を含む接
着剤EW(I[)中のエポキシ樹脂とが同一のエポキシ
樹脂であることが必要である。
(I)に用いるエポキシ樹脂と、エポキシ樹脂を含む接
着剤EW(I[)中のエポキシ樹脂とが同一のエポキシ
樹脂であることが必要である。
最も好ましいのは、エポキシ樹脂の種類を同一にすると
共に、その配合割合も同一にすることである。 そして
さらに好ましくは、ガラスペーパー基材エポキシ樹脂層
(I)のエポキシ樹脂も同一エポキシ樹脂にすることで
ある。
共に、その配合割合も同一にすることである。 そして
さらに好ましくは、ガラスペーパー基材エポキシ樹脂層
(I)のエポキシ樹脂も同一エポキシ樹脂にすることで
ある。
エポキシ樹脂に用いられる硬化剤としては、ジシアンジ
アミド、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニ
ルスルホン、トリエチレンテトラミン等が挙げられ、単
独又は2種以上の組合せで使用する。 また必要に応じ
て硬化促進剤も使用することができる。
アミド、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニ
ルスルホン、トリエチレンテトラミン等が挙げられ、単
独又は2種以上の組合せで使用する。 また必要に応じ
て硬化促進剤も使用することができる。
本発明に用いる基材として、ガラスペーパーおよびガラ
スクロスが用いられ、広く市販のものが使用できる。
スクロスが用いられ、広く市販のものが使用できる。
本発明に用いるエポキシ樹脂を含む接着剤層(III)
は、ゴム粒子が均一に分散した熱硬化性樹脂を主成分と
したものである。 ゴム成分としては、例えば天然ゴム
、アクリロニトリルム、ブタジェンゴム、ブタジェンニ
トリルゴム等が挙げられ、これらは単独もしくは2種以
上の組合せとして使用する。 これらのゴム成分の中で
もブタジェンニトリルゴムが好んで使用される。 ブタ
ジェンニトリルゴムはアクリロニトリルとブタジェンと
の共重合、又は両成分に例えばアクリル酸のような第3
成分を加えて共重合させたものである。
は、ゴム粒子が均一に分散した熱硬化性樹脂を主成分と
したものである。 ゴム成分としては、例えば天然ゴム
、アクリロニトリルム、ブタジェンゴム、ブタジェンニ
トリルゴム等が挙げられ、これらは単独もしくは2種以
上の組合せとして使用する。 これらのゴム成分の中で
もブタジェンニトリルゴムが好んで使用される。 ブタ
ジェンニトリルゴムはアクリロニトリルとブタジェンと
の共重合、又は両成分に例えばアクリル酸のような第3
成分を加えて共重合させたものである。
具体的なゴムとしては二ボール1042(日本ゼオン社
製、商品名)、ハイカー1072 (グツドリッチ社製
、商品名)等が挙げられる。 また接着剤でエポキシ樹
脂とともに用いる熱硬化性樹脂としては、キシレン樹脂
又はノボラック型フェノール樹脂等のフェノール樹脂等
が挙げられ、これらはビスフェノール型エポキシ樹脂を
含めた1種又は2種以上の組合せとして使用する。
製、商品名)、ハイカー1072 (グツドリッチ社製
、商品名)等が挙げられる。 また接着剤でエポキシ樹
脂とともに用いる熱硬化性樹脂としては、キシレン樹脂
又はノボラック型フェノール樹脂等のフェノール樹脂等
が挙げられ、これらはビスフェノール型エポキシ樹脂を
含めた1種又は2種以上の組合せとして使用する。
前記したように、接着剤R(III)で使用するエポキ
シ樹脂は、ガラス布基材エポキシ樹脂層(II)に使用
されるエポキシ樹脂と同一エポキシ樹脂にすることであ
る。 同一のエポキシ樹脂にすることによって接着剤層
(1)とガラス布基材エポキシ樹脂層(II)との親和
性が向上し、密着性、スルーホール信頼性等が著しく改
善される。
シ樹脂は、ガラス布基材エポキシ樹脂層(II)に使用
されるエポキシ樹脂と同一エポキシ樹脂にすることであ
る。 同一のエポキシ樹脂にすることによって接着剤層
(1)とガラス布基材エポキシ樹脂層(II)との親和
性が向上し、密着性、スルーホール信頼性等が著しく改
善される。
接着剤層(III)で使用するエポキシ樹脂の硬化剤と
して、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン等
が用いられる。 更にゴム架橋剤として硫黄を配合する
ことによって耐熱性が一層向上される。 本発明に用い
る接着剤として、ゴム成分、熱硬化性樹脂、硬化剤およ
び架橋剤からなる組成物で充分その目的を達成し得るが
、さらにこれに微粉末酸化ケイ素を添加すれば、化学メ
ッキ金属層付印刷回路板の半田耐熱性が著しく向上する
。 このような理由から、本発明のエポキシ樹脂を含む
接着剤としては、ブタジェンニトリルゴム、キシレン樹
脂又はフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ジシアンジアミ
ド、硫黄および微粉末酸化ケイ素を含むものであること
が最も好ましい。
して、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン等
が用いられる。 更にゴム架橋剤として硫黄を配合する
ことによって耐熱性が一層向上される。 本発明に用い
る接着剤として、ゴム成分、熱硬化性樹脂、硬化剤およ
び架橋剤からなる組成物で充分その目的を達成し得るが
、さらにこれに微粉末酸化ケイ素を添加すれば、化学メ
ッキ金属層付印刷回路板の半田耐熱性が著しく向上する
。 このような理由から、本発明のエポキシ樹脂を含む
接着剤としては、ブタジェンニトリルゴム、キシレン樹
脂又はフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ジシアンジアミ
ド、硫黄および微粉末酸化ケイ素を含むものであること
が最も好ましい。
また、本発明の効果を阻害しないかぎり、必要に応じそ
の他の添加剤を加えることもできる。
の他の添加剤を加えることもできる。
本発明の化学メッキ用積層板の一般的な製造方法として
は、ガラスペーパー基材にエポキシ樹脂を含浸乾燥した
プリプレグの両側に、ガラス布基材にエポキシ樹脂を含
浸乾燥したプリプレグを重ね合わせ、次いで重ね合わせ
たガラス布基材プリプレグの少なくとも片面に、ガラス
布基材に含浸したエポキシ樹脂と同一のエポキシ樹脂を
含む接着剤層を形成したフィルム又はシートを、該接着
剤層と該ガラス布基材プリプレグが接するように重ね合
わせ、加熱加圧一体に積層成形し、その後フィルム又は
シートを除去するという転写法によって化学メッキ用積
層板を製造する。 積層板表面に接着剤層を形成する方
法としては特に制限はなく、浸漬法、ローラコート法、
フローコート法、カーテンコート法、ナイフコート法、
積層法等いずれでもよいが均一な精度のよい膜厚を得る
ためには上記の転写法による方法が最も好ましい。
は、ガラスペーパー基材にエポキシ樹脂を含浸乾燥した
プリプレグの両側に、ガラス布基材にエポキシ樹脂を含
浸乾燥したプリプレグを重ね合わせ、次いで重ね合わせ
たガラス布基材プリプレグの少なくとも片面に、ガラス
布基材に含浸したエポキシ樹脂と同一のエポキシ樹脂を
含む接着剤層を形成したフィルム又はシートを、該接着
剤層と該ガラス布基材プリプレグが接するように重ね合
わせ、加熱加圧一体に積層成形し、その後フィルム又は
シートを除去するという転写法によって化学メッキ用積
層板を製造する。 積層板表面に接着剤層を形成する方
法としては特に制限はなく、浸漬法、ローラコート法、
フローコート法、カーテンコート法、ナイフコート法、
積層法等いずれでもよいが均一な精度のよい膜厚を得る
ためには上記の転写法による方法が最も好ましい。
こうして得られた化学メッキ用積層板に孔をあけた後、
クロム硫酸−過マンガン酸−1aMなどで親水化処理し
、次いで塩化第一スズ、塩化パラジウムによって活性化
処理を廠して回路形成する。
クロム硫酸−過マンガン酸−1aMなどで親水化処理し
、次いで塩化第一スズ、塩化パラジウムによって活性化
処理を廠して回路形成する。
回路形成方法としては種々のものが提案されており、本
発明に係る化学メッキ用積層板は特定の回路形成方法に
適用が限定されるものではなく、アディティブ法、セミ
アディティブ法のいずれでも使用することができる。
発明に係る化学メッキ用積層板は特定の回路形成方法に
適用が限定されるものではなく、アディティブ法、セミ
アディティブ法のいずれでも使用することができる。
[発明の実施例コ
次に本発明を実施例によって説明する。 実施例および
比較例において「部」とは「重用部」を意味する。
比較例において「部」とは「重用部」を意味する。
(ガラス布基材エポキシ樹脂層(II)に用いるエポキ
シワニスA、Bの調製) ワニスΔ: 臭素化エポキシ樹脂(臭素化率19〜25
%)50部、クレゾールノボラックエポキシ樹脂5部、
ジシアンジアミド1 部、ジメチルホルムアミド15部およびアセトン10部
を加えて溶解しエポキシワニスAを調製した。
シワニスA、Bの調製) ワニスΔ: 臭素化エポキシ樹脂(臭素化率19〜25
%)50部、クレゾールノボラックエポキシ樹脂5部、
ジシアンジアミド1 部、ジメチルホルムアミド15部およびアセトン10部
を加えて溶解しエポキシワニスAを調製した。
ワニスB: ワニスAのクレゾールノボラックエポキシ
樹脂の代わりにフェノールノボ ラックエポキシ樹脂を用いた以外はす べてワニスAと同一にしてエポキシワ ニスBを調製した。
樹脂の代わりにフェノールノボ ラックエポキシ樹脂を用いた以外はす べてワニスAと同一にしてエポキシワ ニスBを調製した。
(ガラスペーパー基材エポキシ樹脂W(I)に用いるエ
ポキシワニスC,Dの調製) ワニスC: ワニスAのアセトン10部の代わりにアセ
トン15部を、また水和アルミナ粉末15部を用いた以
外はすべてワニスAと同一にしてエポキシワニスCを調
製 した。
ポキシワニスC,Dの調製) ワニスC: ワニスAのアセトン10部の代わりにアセ
トン15部を、また水和アルミナ粉末15部を用いた以
外はすべてワニスAと同一にしてエポキシワニスCを調
製 した。
ワニスD: ワニスBのアセトン10部の代わりにアセ
トン15部を、また水和アルミナ粉末15部を用いた以
外はすべてワニスBと同一にしてエポキシワニスDを調
製 した。
トン15部を、また水和アルミナ粉末15部を用いた以
外はすべてワニスBと同一にしてエポキシワニスDを調
製 した。
(接着剤層(I[[)を形成する接着剤X−7の調!F
J)接着剤X: ブタジェンニトリルゴム、キシレン樹
脂、臭素化エポキシ樹脂(臭素化率 19〜25%)、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、
硫黄、ジシアンジアミド および微粉末酸化ケイ素をメチルエチ ルケトン−トルエン−ブチルセロソル ブ混合溶媒に溶解して接着剤Aを調製 した。
J)接着剤X: ブタジェンニトリルゴム、キシレン樹
脂、臭素化エポキシ樹脂(臭素化率 19〜25%)、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、
硫黄、ジシアンジアミド および微粉末酸化ケイ素をメチルエチ ルケトン−トルエン−ブチルセロソル ブ混合溶媒に溶解して接着剤Aを調製 した。
接着剤Y: 接着剤Xのクレゾールノボラックエポキシ
樹脂の代わりにフェノールノボ ラックエポキシ樹脂を用いた以外はす べて接着剤Xと同一にして接着剤Yを 調製した。
樹脂の代わりにフェノールノボ ラックエポキシ樹脂を用いた以外はす べて接着剤Xと同一にして接着剤Yを 調製した。
接着剤Z: 接着剤Xの臭素化エポキシ樹脂(臭素化率
19〜25%)の代わりにビスフェノール型エポキシ樹
脂であるエピコー ト1001を用いた以外はすべて接着 剤Xと同一にして接着剤Zを調製した。
19〜25%)の代わりにビスフェノール型エポキシ樹
脂であるエピコー ト1001を用いた以外はすべて接着 剤Xと同一にして接着剤Zを調製した。
(プリプレグおよび接着剤付きフィルムの製造)プリプ
レグA’、B’: wA製したエポキシワニスAおよ
びBをそれぞれ用いて、 7628型のガラスクロスに塗布乾燥 し、樹脂分40%、ゲル化時間100秒のプリプレグA
′およびB′を得た。
レグA’、B’: wA製したエポキシワニスAおよ
びBをそれぞれ用いて、 7628型のガラスクロスに塗布乾燥 し、樹脂分40%、ゲル化時間100秒のプリプレグA
′およびB′を得た。
プリプレグC’ 、D’ : 調製したエポキシワ
ニスC,Dをそれぞれ用いてガラスペー パー(50a/m 2)に塗布乾燥し、樹脂分70%、
ゲル化時間150秒のプリプレグC′およびD′を得た
。
ニスC,Dをそれぞれ用いてガラスペー パー(50a/m 2)に塗布乾燥し、樹脂分70%、
ゲル化時間150秒のプリプレグC′およびD′を得た
。
フィルムX′〜z′ : 同様に調製した接着剤X〜Z
を用いて接着剤付きフィルムX′ 〜Z′を得た。
を用いて接着剤付きフィルムX′ 〜Z′を得た。
実施例 1.2
第1表に示したように、ガラスペーパー基材エポキシ樹
脂層としてプリプレグC′又はD′を6枚重ね、その両
側にガラス重塁材エポキシワニスとしてプリプレグA′
又はB′を1枚ずつ重ね合わせ、更にその上下面に接着
剤付きフィルムX′又はY′を各1枚ずつ重ね、170
℃、 40ka/cm2で90分間加熱加圧一体に積層
成形し、その侵フィルムを剥離して厚さ1.6InIl
lの実施例1又は実施例2の化学メッキ用積層板をそれ
ぞれ製造した。
脂層としてプリプレグC′又はD′を6枚重ね、その両
側にガラス重塁材エポキシワニスとしてプリプレグA′
又はB′を1枚ずつ重ね合わせ、更にその上下面に接着
剤付きフィルムX′又はY′を各1枚ずつ重ね、170
℃、 40ka/cm2で90分間加熱加圧一体に積層
成形し、その侵フィルムを剥離して厚さ1.6InIl
lの実施例1又は実施例2の化学メッキ用積層板をそれ
ぞれ製造した。
比較例 1〜3
第1表に示した構成によって、実施例1〜2と同様にプ
リプレグA′〜D′および接着剤付きフィルムZ′を用
いて比較例1〜3の化学メッキ用積層板をそれぞれ製造
した。
リプレグA′〜D′および接着剤付きフィルムZ′を用
いて比較例1〜3の化学メッキ用積層板をそれぞれ製造
した。
実施例1,2および比較例1〜3で得られた化学メッキ
用積層板に所定の孔明けを行った後、クロム硫酸溶液に
浸漬して親水化後、活性化処理および化学メッキ処理を
順次施して、厚さ約0.5μmのニッケルメッキ層を形
成した。 次いでメツキレシストを印刷し、回路および
スルーホール部分に電気メッキを行った後、メツキレシ
ストの除去、回路およびスルーホール部分以外の化学メ
ッキ層のエツチングを行い、スルーホール信頼性試験回
路板を作成した。 化学メッキ用積層板の耐燃性、引き
剥がし強さおよび半田耐熱性の試験と、回路板における
冷熱サイクル、半田デイツプサイクルおよびプレッシャ
ークツカーテストの信頼性試験を行ったところ、本発明
に係る化学メッキ用積層板は、スルーホール信頼性が高
く、密着性および半田耐熱性に優れており、本発明の顕
著な効果が確認された。 それらの結果を第1表に示し
た。
用積層板に所定の孔明けを行った後、クロム硫酸溶液に
浸漬して親水化後、活性化処理および化学メッキ処理を
順次施して、厚さ約0.5μmのニッケルメッキ層を形
成した。 次いでメツキレシストを印刷し、回路および
スルーホール部分に電気メッキを行った後、メツキレシ
ストの除去、回路およびスルーホール部分以外の化学メ
ッキ層のエツチングを行い、スルーホール信頼性試験回
路板を作成した。 化学メッキ用積層板の耐燃性、引き
剥がし強さおよび半田耐熱性の試験と、回路板における
冷熱サイクル、半田デイツプサイクルおよびプレッシャ
ークツカーテストの信頼性試験を行ったところ、本発明
に係る化学メッキ用積層板は、スルーホール信頼性が高
く、密着性および半田耐熱性に優れており、本発明の顕
著な効果が確認された。 それらの結果を第1表に示し
た。
[発明の効果コ
以上の説明および第1表から明らかなように、本発明の
化学メッキ用161M板は、ガラス布基材エポキシ樹脂
層中のエポキシ樹脂と、接着剤層に含まれるエポキシ樹
脂とを同一エポキシ樹脂にしたことによって、この両者
間で親和性が増大し、密着性、半田耐熱性に優れ、熱時
のフクレや、剥離が生ずることもなくスルーホール信頼
性が高いという顕著な効果を奏し、工業上有益なものと
認められた。
化学メッキ用161M板は、ガラス布基材エポキシ樹脂
層中のエポキシ樹脂と、接着剤層に含まれるエポキシ樹
脂とを同一エポキシ樹脂にしたことによって、この両者
間で親和性が増大し、密着性、半田耐熱性に優れ、熱時
のフクレや、剥離が生ずることもなくスルーホール信頼
性が高いという顕著な効果を奏し、工業上有益なものと
認められた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ガラスペーパー基材エポキシ樹脂層(I)の両側に
ガラス布基材エポキシ樹脂層(II)を有し、さらに該
ガラス布基材エポキシ樹脂層(II)の少なくとも片面
にエポキシ樹脂を含む接着剤層(III)を設けた化学
メッキ用積層板であり、前記樹脂層(II)中のエポキ
シ樹脂と、前記接着剤層(III)中に含まれるエポキ
シ樹脂とが同一エポキシ樹脂であることを特徴とする化
学メッキ用積層板。 2 接着剤層が、ブタジエンニトリルゴム、キシレン樹
脂又はフェノール樹脂、エポキシ樹脂、硫黄、ジシアン
ジアミドおよび微粉末酸化ケイ素からなる特許請求の範
囲第1項記載の化学メッキ用積層板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199567A JPS6260877A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 化学メツキ用積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199567A JPS6260877A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 化学メツキ用積層板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6260877A true JPS6260877A (ja) | 1987-03-17 |
Family
ID=16409974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60199567A Pending JPS6260877A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 化学メツキ用積層板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6260877A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4951137A (en) * | 1988-03-31 | 1990-08-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Image track display apparatus |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57181856A (en) * | 1981-05-01 | 1982-11-09 | Toshiba Chem Prod | Manufacture of laminated plate for chemical plating |
| JPS57181855A (en) * | 1981-05-01 | 1982-11-09 | Toshiba Chem Prod | Manufacture of laminated plate for chemical plating |
| JPS607796A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | 住友ベークライト株式会社 | 印刷回路用銅張積層板及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-09-11 JP JP60199567A patent/JPS6260877A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57181856A (en) * | 1981-05-01 | 1982-11-09 | Toshiba Chem Prod | Manufacture of laminated plate for chemical plating |
| JPS57181855A (en) * | 1981-05-01 | 1982-11-09 | Toshiba Chem Prod | Manufacture of laminated plate for chemical plating |
| JPS607796A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | 住友ベークライト株式会社 | 印刷回路用銅張積層板及びその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4951137A (en) * | 1988-03-31 | 1990-08-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Image track display apparatus |
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