JPS63144348A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPS63144348A JPS63144348A JP29296286A JP29296286A JPS63144348A JP S63144348 A JPS63144348 A JP S63144348A JP 29296286 A JP29296286 A JP 29296286A JP 29296286 A JP29296286 A JP 29296286A JP S63144348 A JPS63144348 A JP S63144348A
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- JP
- Japan
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- coating
- liquid
- surface tension
- slot
- edges
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は塗布にあたり、塗布縁部に出来る厚膜対策を施
した塗布方法に関するものである。
した塗布方法に関するものである。
（従来の技術）
プラスチックフィルム、紙等の支持体に各種塗布液を塗
布し、これを乾燥して所望の製品を得ることは写真感光
材料、感圧記録紙、感熱記録紙の製造等に広く行われて
いる。
布し、これを乾燥して所望の製品を得ることは写真感光
材料、感圧記録紙、感熱記録紙の製造等に広く行われて
いる。
しかしながら、ビード塗布法、エクストルーツシン塗布
法、カーテン塗布法その他これと類似の塗布法を用いて
、流動性を有する塗布液をプラスチックフィルム、紙等
の支持体に塗布する場合には、塗布層の両縁部に他の部
分の塗布層よりかなり厚塗゛りの部分が形成されること
が認められる。この縁部の厚塗り部分は、塗布後に続く
乾燥工程において、他の正常に塗布された箇所に比較し
て乾燥するために多大の時間とエネルギーを要す。
法、カーテン塗布法その他これと類似の塗布法を用いて
、流動性を有する塗布液をプラスチックフィルム、紙等
の支持体に塗布する場合には、塗布層の両縁部に他の部
分の塗布層よりかなり厚塗゛りの部分が形成されること
が認められる。この縁部の厚塗り部分は、塗布後に続く
乾燥工程において、他の正常に塗布された箇所に比較し
て乾燥するために多大の時間とエネルギーを要す。
このため過大な乾燥能力を乾燥工程に付与しなければな
らないが、この両縁部の厚塗り部分はたかだか数Ｉ１１
の幅であり、このような狭い部分のために多大の乾燥経
費を費やすこととなり、極めて不経済である。
らないが、この両縁部の厚塗り部分はたかだか数Ｉ１１
の幅であり、このような狭い部分のために多大の乾燥経
費を費やすこととなり、極めて不経済である。
又、乾燥工程がこの厚塗り部分を充分乾燥する能力が無
い場合には、この厚塗り部分が未乾となり、この部分が
ローラ等に転写されて工程を汚したり、更に巻取り工程
でロールに巻取る時に両縁部が接着して、裁断工程にお
いて巻きほぐす際支持体を切断する等の問題が発生する
。
い場合には、この厚塗り部分が未乾となり、この部分が
ローラ等に転写されて工程を汚したり、更に巻取り工程
でロールに巻取る時に両縁部が接着して、裁断工程にお
いて巻きほぐす際支持体を切断する等の問題が発生する
。
特に薄紙を支持体とする感圧記録紙、感熱記録紙等の製
造においては、この厚塗り部分を乾燥せしめたとしても
ロール状で巻取られれる巻取り工程において、両縁部に
相当する部分が凸状となり、この凸部から切断して、長
尺巻取９が困難になるなどの故障が発生し易い。
造においては、この厚塗り部分を乾燥せしめたとしても
ロール状で巻取られれる巻取り工程において、両縁部に
相当する部分が凸状となり、この凸部から切断して、長
尺巻取９が困難になるなどの故障が発生し易い。
したがって、塗布層の両縁部の厚塗り防止処理に関して
は、従来より幾つかの方法が提案されている。その一つ
は、英国特許＠ １０５２６１２号に開示されているも
のである。この方法は、あらかじめ塗布する前に塗布層
両縁部に相当する支持体の表面部分に蒸気を吹き付け、
濡らすことにより、塗布液を拡げて塗布する方法である
。しかし、この方法は、連続走行する支持体への蒸気の
付着効率が悪く、しかも塗布速度が増大すればする程大
量の蒸気吹き付けを必要とすること、さらに支持体が水
を吸収しにくい場合は、支持体に付着せしめられた蒸気
のため、その面をローラ等で接触支持出来ないこと、或
はその蒸気が乾燥してしまえば効果がなくなってしまう
ことなどから、全布部付近の支持体径路のレイアウトが
制約されることなど多くの欠点を有しでいる。
は、従来より幾つかの方法が提案されている。その一つ
は、英国特許＠ １０５２６１２号に開示されているも
のである。この方法は、あらかじめ塗布する前に塗布層
両縁部に相当する支持体の表面部分に蒸気を吹き付け、
濡らすことにより、塗布液を拡げて塗布する方法である
。しかし、この方法は、連続走行する支持体への蒸気の
付着効率が悪く、しかも塗布速度が増大すればする程大
量の蒸気吹き付けを必要とすること、さらに支持体が水
を吸収しにくい場合は、支持体に付着せしめられた蒸気
のため、その面をローラ等で接触支持出来ないこと、或
はその蒸気が乾燥してしまえば効果がなくなってしまう
ことなどから、全布部付近の支持体径路のレイアウトが
制約されることなど多くの欠点を有しでいる。
又特公昭５２−３８４０７号には示されている厚塗り部
分を吸引パイプで吸い取る方法がある。
分を吸引パイプで吸い取る方法がある。
しかし、この方法は吸引した液によりパイプに目′づま
りを起こしたり、あるいは吸引した液が減圧装置に直接
吸引されないように液を分離するセパレーター等の複雑
な装置を必要とすること等の問題がある。
りを起こしたり、あるいは吸引した液が減圧装置に直接
吸引されないように液を分離するセパレーター等の複雑
な装置を必要とすること等の問題がある。
さらに特公昭６１−２７１１４号にはこの厚塗り部分に
噴射気流を衝突せしめて、厚塗り部分を拡延する方法が
示されている。この方法は気流中の異物を吹き付けたり
、又塗布層を部分的に吹き飛ばし正常部分に付着させる
危険がある。
噴射気流を衝突せしめて、厚塗り部分を拡延する方法が
示されている。この方法は気流中の異物を吹き付けたり
、又塗布層を部分的に吹き飛ばし正常部分に付着させる
危険がある。
以上説明したごとく塗布層側ｋｋｆｆＩＳの厚塗り防止
については未だ充分な対策が無いのが現状である。
については未だ充分な対策が無いのが現状である。
（発明が解決しようとする問題点）
上記の問題点に討して本発明の第１の目的は、塗布層両
縁部に発生する厚塗り部分を解消するための有効で簡便
な方法を提供することである。
縁部に発生する厚塗り部分を解消するための有効で簡便
な方法を提供することである。
第２の目的としては、乾燥負荷を軽減し、経済的な乾燥
工程の設計を可能にすることである。
工程の設計を可能にすることである。
更に第３の目的は、工程汚染或は巻取り工程での切断或
は裁断工程での巻はぐし時の接着による切断故障などの
生じない方法を提供することである。
は裁断工程での巻はぐし時の接着による切断故障などの
生じない方法を提供することである。
（問題点を解決するための手段）
本発明の上記目的は、スライドビード塗布法において、
スライド面の両縁部に塗布液より低い表面張力を有する
液を、塗布液の液量と同量以下の流量で流しながら塗布
することを特徴とする塗布方法によって達成し得ること
を見いだした。また上記低い表面張力を有する液に、含
弗素系界面活性剤を含ませる事が有効であることを見い
だした。
スライド面の両縁部に塗布液より低い表面張力を有する
液を、塗布液の液量と同量以下の流量で流しながら塗布
することを特徴とする塗布方法によって達成し得ること
を見いだした。また上記低い表面張力を有する液に、含
弗素系界面活性剤を含ませる事が有効であることを見い
だした。
以下、添付図面に従って、本発明を具体的に説明する。
第１図（ａ）は本発明の１実施態様を示すスライドと一
ド塗布機における、スライド面の上面図であり、同図（
ｂ）は同斜視図である。第２図は通常使われているスラ
イドビード塗布機の側断面図である。第２図は２層塗布
の例であるが、下層塗布液３は第１のスロット６を通っ
てスライド面に送られ、上層塗布液４は第２のスロット
７を通ってスライド面におくられるが、この場合該両液
は第１図に示す第２の塗布規制板１２の内側を流れ、か
つス゛ロット６より下は両層は重なって流下する。本発
明の表面張力の低い液体５は第３のスロット８を通り、
第１図の＃Ｓ１の塗布規制板１１と第２の塗布規制板１
２の開を流下させる。したがってスロット８は第２の塗
布規制板１２の内側スロット部分をなくすか又はふさい
でおくことが必要である。かくして流下した表面張力の
低い液体５は塗布機＋７ツプに至る直前で第２の塗布規
制板１２を無くすことにより、塗布液３及び４と塗布縁
で合流し、縁部の厚膜形成を防止する。ついで塗布液は
塗布機リップ９と塗布ロール１に抱かれて走行する支持
体２の開に形成されたリボン状液溜まりであるビードを
介して支持体２上に塗布される。
ド塗布機における、スライド面の上面図であり、同図（
ｂ）は同斜視図である。第２図は通常使われているスラ
イドビード塗布機の側断面図である。第２図は２層塗布
の例であるが、下層塗布液３は第１のスロット６を通っ
てスライド面に送られ、上層塗布液４は第２のスロット
７を通ってスライド面におくられるが、この場合該両液
は第１図に示す第２の塗布規制板１２の内側を流れ、か
つス゛ロット６より下は両層は重なって流下する。本発
明の表面張力の低い液体５は第３のスロット８を通り、
第１図の＃Ｓ１の塗布規制板１１と第２の塗布規制板１
２の開を流下させる。したがってスロット８は第２の塗
布規制板１２の内側スロット部分をなくすか又はふさい
でおくことが必要である。かくして流下した表面張力の
低い液体５は塗布機＋７ツプに至る直前で第２の塗布規
制板１２を無くすことにより、塗布液３及び４と塗布縁
で合流し、縁部の厚膜形成を防止する。ついで塗布液は
塗布機リップ９と塗布ロール１に抱かれて走行する支持
体２の開に形成されたリボン状液溜まりであるビードを
介して支持体２上に塗布される。
また上記表面張力の低い液を流す方法は上記の方法に限
定されるものではなく、例えば特開昭５５−８４５７７
号に開示されている方法を使用することも出来る。
定されるものではなく、例えば特開昭５５−８４５７７
号に開示されている方法を使用することも出来る。
本発明におけるこのような表面張力の低い液は塗布液よ
りさらに低い表面張力を与えるために、例えば下記明細
書記載の各界面活性剤を使用することが出来る。
りさらに低い表面張力を与えるために、例えば下記明細
書記載の各界面活性剤を使用することが出来る。
特開昭５４−１４２２４号、同５０−９９５２９号、同
５１−４３１３１号、ＤＰ−２１２４２８２号、υ５Ｐ
−３７５４９２４号、ＤＰ−１９８１６３８号、特開昭
５１−１５１１２４号、同５１−１５１１２５号、同５
１−１５１１２６号、同５１−５１１２７号、ＵＳＰ−
３４９２２７４号、同３５８９９０６号、ＢＰ−１２５
８６４７号、特開昭４７−３０２４号、同４７−９３０
３号、同５５−５６１９５号、同４８−１０１１１８号
、同４９−１２５０１５号、ｔｌｓＰ−３７７５１２６
号、同３８５０８４０号、同３７７９７６８号等である
。さらに具体的には次ぎのごとき界面活性剤を例示する
ことが出来るが、勿論これらに限定されるものではなり
１ 。
５１−４３１３１号、ＤＰ−２１２４２８２号、υ５Ｐ
−３７５４９２４号、ＤＰ−１９８１６３８号、特開昭
５１−１５１１２４号、同５１−１５１１２５号、同５
１−１５１１２６号、同５１−５１１２７号、ＵＳＰ−
３４９２２７４号、同３５８９９０６号、ＢＰ−１２５
８６４７号、特開昭４７−３０２４号、同４７−９３０
３号、同５５−５６１９５号、同４８−１０１１１８号
、同４９−１２５０１５号、ｔｌｓＰ−３７７５１２６
号、同３８５０８４０号、同３７７９７６８号等である
。さらに具体的には次ぎのごとき界面活性剤を例示する
ことが出来るが、勿論これらに限定されるものではなり
１ 。
尚、本界面活性剤を塗布液全体に適用することは、性能
面で支障をきたす場合がある。
面で支障をきたす場合がある。
Ｃｔ Ｆ ＋ ｓ ＣＯＯＨ、Ｃｓ Ｆ ＋ ７ＣＯＯ
Ｎ ＨイＣ＝ Ｆ ＋ ｔ ＣＯＯＮ Ｈ３’ ＣＨ２
Ｃ）（２、Ｃ＝ Ｆ ＋ ｓＣＯＯＮ Ｈ４、 Ｃ，Ｆ、、Ｃ００ＮＨ３ＣＨ２ＣＨ，ＯＨ。
Ｎ ＨイＣ＝ Ｆ ＋ ｔ ＣＯＯＮ Ｈ３’ ＣＨ２
Ｃ）（２、Ｃ＝ Ｆ ＋ ｓＣＯＯＮ Ｈ４、 Ｃ，Ｆ、、Ｃ００ＮＨ３ＣＨ２ＣＨ，ＯＨ。
Ｃ＋ ｏ Ｆ ２１ ＣＯＯＮ Ｈ３ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ
。
。
ＣｌｏＦ ２１ ＣＯＯＮ Ｈ（ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ）
３、ＣｓＦ 、ｓＣＨＯＨＣＨｚＯ（Ｅ Ｏ）２ ｏ
ＣＨ３、（実施例） 以下本発明の効果を明確にする為に実施例をあげるが、
勿論本発明はこれに限定されるものではない。
３、ＣｓＦ 、ｓＣＨＯＨＣＨｚＯ（Ｅ Ｏ）２ ｏ
ＣＨ３、（実施例） 以下本発明の効果を明確にする為に実施例をあげるが、
勿論本発明はこれに限定されるものではない。
下引層を施したポリエチレンテレフタレートフィルム上
に第１図、ｔＪＳ２図にしめす塗布機を用い、すでに説
明した方法により下記塗布液を用い重層塗布を行った。
に第１図、ｔＪＳ２図にしめす塗布機を用い、すでに説
明した方法により下記塗布液を用い重層塗布を行った。
下ｐｓ：ハロゲン化鈑化石含有ゼラチン水溶液Ｎ：界面
活性剤含有ゼラチン水溶液。
活性剤含有ゼラチン水溶液。
サイド液
本発明の弗素系化合物 Ｃｔ Ｆ ＋ ｓ ＣＯＯＨ含
有の４％ゼラチン水溶液６ 塗布条件 流量（ｗｅｔ厚みμｚＬ粘度（ｃｐ）１表面張力（ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ）は次の如くした。
有の４％ゼラチン水溶液６ 塗布条件 流量（ｗｅｔ厚みμｚＬ粘度（ｃｐ）１表面張力（ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ）は次の如くした。
下層：４８μａｔ ９，４ｃｐ＋ ４５．０ｄｙｎ／ｃ
ｍ上Ｎ：１８μｘｖ １５．Ｏｃｐ、 ３０，３ｄｙｎ
／ｅｚサイド層：６５μｗ、１５，４ｃｐ、 １８，０
ｄｙｎ／ａｘ塗布速度： ４０ｘ／＋＋＋ｉｎ、塗布温
度：３５℃ビード間隙：２５０μｌ、減圧度： ２５ｚ
ｚＡｑ尚比較例としては、本発明の上記サイド液体を流
さないこと以外は下層、上層条件は上記実施例と同条件
で行った。
ｍ上Ｎ：１８μｘｖ １５．Ｏｃｐ、 ３０，３ｄｙｎ
／ｅｚサイド層：６５μｗ、１５，４ｃｐ、 １８，０
ｄｙｎ／ａｘ塗布速度： ４０ｘ／＋＋＋ｉｎ、塗布温
度：３５℃ビード間隙：２５０μｌ、減圧度： ２５ｚ
ｚＡｑ尚比較例としては、本発明の上記サイド液体を流
さないこと以外は下層、上層条件は上記実施例と同条件
で行った。
この結果、比較例の縁部は第３図（ｂ）に示すごとく厚
く塗布されていたが、本発明による上記実施例の場合は
第３図（ａ）に示すごとく厚膜となることなく塗布する
ことが出来な。
く塗布されていたが、本発明による上記実施例の場合は
第３図（ａ）に示すごとく厚膜となることなく塗布する
ことが出来な。
（発明の効果）
本発明により、スライドビード塗布法において、塗布綾
部を厚塗りする事なく、安定に塗布する事が出来、した
がって厚膜に伴う種々の問題、αの無い塗布方法を提供
することが出来だ。
部を厚塗りする事なく、安定に塗布する事が出来、した
がって厚膜に伴う種々の問題、αの無い塗布方法を提供
することが出来だ。
ｆｆ１１図（、）は本発明におけるスライドビード塗布
機スライド面の上面図であり、同図（ｂ）は同じく斜視
図である。第２図は同スライドビード塗布機の側断面図
である。第３図（ａ）は本発明の方法による塗布縁部の
塗布状態で、同図（ｂ）は従来の方法の場合である。 １：塗布ロール、 ２：支持体、３：塗布液
（下層）、 ４：塗布液（上層）、５：低表面張力
液、 ６：第１の塗布スロット、 ７：第２の塗布スロット、 ８：第３の塗布スロット、 ９：塗布機リップ、 １０：減圧装置、１１：
第１の塗布規制板、 １２：第２の塗布規制板、 出願人 小西六写真工業株式会社 第１図 （ａ） １１゛才１／＋ｆｔｐ逆副級 １２ ° 才２の ・ｌ 第２図 １ （′
機スライド面の上面図であり、同図（ｂ）は同じく斜視
図である。第２図は同スライドビード塗布機の側断面図
である。第３図（ａ）は本発明の方法による塗布縁部の
塗布状態で、同図（ｂ）は従来の方法の場合である。 １：塗布ロール、 ２：支持体、３：塗布液
（下層）、 ４：塗布液（上層）、５：低表面張力
液、 ６：第１の塗布スロット、 ７：第２の塗布スロット、 ８：第３の塗布スロット、 ９：塗布機リップ、 １０：減圧装置、１１：
第１の塗布規制板、 １２：第２の塗布規制板、 出願人 小西六写真工業株式会社 第１図 （ａ） １１゛才１／＋ｆｔｐ逆副級 １２ ° 才２の ・ｌ 第２図 １ （′
Claims (2)
- （１）スライドビード塗布法において、スライド面の両
縁部に塗布液より低い表面張力を有する液を、塗布液の
液量と同量以下の流量で流しながら塗布することを特徴
とする塗布方法。 - （２）上記低い表面張力を有する液に、含弗素系界面活
性剤を含ませる事を特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29296286A JPS63144348A (ja) | 1986-12-08 | 1986-12-08 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29296286A JPS63144348A (ja) | 1986-12-08 | 1986-12-08 | 塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63144348A true JPS63144348A (ja) | 1988-06-16 |
Family
ID=17788677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29296286A Pending JPS63144348A (ja) | 1986-12-08 | 1986-12-08 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63144348A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000262948A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-09-26 | Konica Corp | スライドビード塗布方法及びスライドビード塗布装置 |
-
1986
- 1986-12-08 JP JP29296286A patent/JPS63144348A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000262948A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-09-26 | Konica Corp | スライドビード塗布方法及びスライドビード塗布装置 |
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