JPS6316392B2 - - Google Patents

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JPS6316392B2
JPS6316392B2 JP55129576A JP12957680A JPS6316392B2 JP S6316392 B2 JPS6316392 B2 JP S6316392B2 JP 55129576 A JP55129576 A JP 55129576A JP 12957680 A JP12957680 A JP 12957680A JP S6316392 B2 JPS6316392 B2 JP S6316392B2
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JP
Japan
Prior art keywords
acetone
antibiotic
culture
solvent
hexane
Prior art date
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Expired
Application number
JP55129576A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5754191A (en
Inventor
Taku Mizutani
Michio Yamagishi
Kazutoshi Mizogami
Akira Kawashima
Sadafumi Oomura
Nozomi Ootake
Haruo Seto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Taisho Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP55129576A priority Critical patent/JPS5754191A/ja
Priority to US06/302,017 priority patent/US4359583A/en
Priority to EP81304209A priority patent/EP0048585A1/en
Publication of JPS5754191A publication Critical patent/JPS5754191A/ja
Publication of JPS6316392B2 publication Critical patent/JPS6316392B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規な抗生物質に関し、更に詳しくは
ストレプトミセス属に属するTM−531株を好気
的条件下で培養することにより得られる抗生物質
TM−531Cに関する。 本発明者らは前記TM−531株の好気培養物中
に主としてグラム陽性菌に対して強い増殖抑制作
用を示す抗生物質が生産、蓄積されることを見出
し、培養物中より活性物質を抽出、精製して抗生
物質TM−531Cを得、本発明を完成した。 本発明において、抗生物質TM−531C生産菌と
してストレプトミセス属に属するストレプトミセ
ス・ハイグロスコピカスTM−531を用いた。こ
の菌株は埼玉県大宮市の土壤から新たに分離した
ものであり、微生物の名称「放線菌TM−531」、
微生物寄託番号「微工研菌寄第4737号(FERM
−PNo.4737)」として工業技術院微生物工業技術
研究所に寄託されている。その菌学的性状および
在来の類似種との異同については特開昭55−
92387号明細書に詳しく記述されている。 本発明におけるTM−531Cの生産は、大略、抗
生物質を生産する場合に準じて行ない、各種栄養
物質を含む培地でTM−531C生産菌を好気的条件
下で培養することにより行なう。 培地は液体培地が好ましく、主として炭素源、
窒素源、無機塩よりなり、その他必要に応じて消
泡剤、ビタミン類、前駆物質を加えることがで
き、PHは7前後に調整する。炭素源としては、例
えば、グルコース、マルトース、澱粉、デキスト
リン、グリセリン、落花生油などを、単独かまた
は混合して用いる。窒素源としては、例えば、ペ
プトン、肉エキス大豆粉、オートミール、コー
ン・ステイープ・リカー、尿素、アンモニウム塩
などを、単独かまたは混合して用いる。無機塩と
しては、例えば、炭酸カルシウム、塩化ナトリウ
ム、硫酸第二鉄、塩化マンガンなどを、単独かま
たは混合して用いる。消泡剤としてはシリコーン
化合物などを用いることができる。 培養方法としては振盪培養、通気深部培養など
の好気的培養が適しており、PH7前後で25〜40
℃、望ましくは28〜30℃で培養する。 培養により生成した抗生物質TM−531Cは、例
えば次の方法により単離することができる。 すなわち、培養終了後の培養物を遠心分離して
上澄液と菌体に分離する。 上澄液中の活性物質は、酢酸エチル、ベンゼ
ン、クロロホルムなどの非水溶性有機溶媒で抽出
するか、吸着樹脂などに及着させてアルコール、
アセトンなどの有機溶媒で溶出する。必要に応じ
て濃縮後適当な有機溶媒で更に抽出することもで
きる。 菌体中の活性物質は、アルコール、アセトンな
どの有機溶媒で抽出し、これを濃縮後、上澄液の
抽出溶媒と同じ溶媒に転溶する。 上澄液抽出液と菌体抽出液を合せ、減圧濃縮す
る。この濃縮物をベンゼンに溶解し、シリカゲ
ル・カラムに活性物質を吸着させ、ベンゼン、酢
酸エチルなどの有機溶媒で活性物質中のTM−
531およびデアネマイシンを溶出、除去する。 残りの活性物質をアセトンなどの有機溶媒で溶
出し、溶媒溜去後、ヘキサン−アセトン(4:
1)混合溶媒に再溶解し、シリカゲル・カラムに
吸着させる。 このカラムをヘキサン−アセトン(4:1)混
合溶媒で洗浄後、活性物質をヘキサン−アセトン
(6:4)混合溶媒で溶出し、カラム容積の2〜
5ベツト量の区分(薄層クロマトグラフイーによ
り確認)を集めた。 これを常法により精製することにより、抗生物
質TM−531Cの結晶を得ることができる。精製上
または使用上、必要があれば、ナトリウム塩、カ
リウム塩、カルシウム塩、鉄塩、アンモニウム塩
などに変換することもできる。 本発明の目的物質である抗生物質TM−531Cは
その元素分析値、分子量、紫外線吸収スペクト
ル、赤外線吸収スペクトル、 1H−NMRスペク
トル、 13C−NMRスペクトルの解析よりその構
造式が次の如く決定された。また、その理化学的
性質および抗菌作用は次の通りである。 () 構造式 () 理化学的性質(ナトリウム塩として測定) 元素分析値 C47H77O15Naとして 理論値(%):C62.39 H8.52 Na2.54 実測値(%):C62.18 H8.60 Na2.44 分子量 904 融点 190.4〜191.6℃ 比旋光度〔α〕26 D=+27.4゜(C=0.5、メタ
ノール) 紫外線吸収スペクトル(メタノール) E1%1cn(232nm)=146.6 赤外線吸収スペクトル KBr錠で測定した結果を第1図に示す。 溶媒に対する溶解性:水に不容。 メタノール、エタノール、アセトン、酢酸
エチル、ヘキサン、クロロホルム、ベンゼン
に可溶。 呈色反応:ヨード反応、過マンガン酸カリ
ウム反応およびバニリン−硫酸反応陽性 物質の色:無色 1H−NMRスペクトルおよび 13C−NMR
スペクトル:重メタノール添加の重クロロホ
ルム中、前者を100MHzで、後者を
25.05MHzで側定した結果をそれぞれ第2図
および第3図に示す。 塩基性、酸性、中性の区別:酸性 () 抗菌作用 抗生物質TM−531Cはグラム陽性菌に対して
すぐれた増殖抑制作用を有するが、グラム陰性
菌、酵母に対しては増殖抑制作用を有しない。 以上のように、抗生物質TM−531Cは新規な抗
生物質であつて、医薬、動物薬、消毒殺菌剤とし
て有用である。 次に抗生物質TM−531Cの抗菌作用を明らかに
する試験例と製造例を示す実施例を挙げて本発明
を具体的に説明する。 試験例 培地としてハートインフエージヨン・アガーを
用い、イノキユラム・サイズ106CFUで抗生物質
TM−531Cの各種細菌に対するMIC(最小発育阻
止濃度)を測定し、その抗菌作用を調べた。 その結果を次表に示す。
【表】 実施例 グルコース2%、グリセリン2%、オートミー
ル2%、落花生油0.5%、肉エキス0.3%、炭酸カ
ルシウム0.5%、食塩0.3%、硫酸第二鉄0.04%、
塩化マンガン0.04%からなる無菌液体培地(PH
7.0)にストレプトミセス・ハイグロスコピカス
TM−531を接種し、30℃で72時間振盪培養した。 この培養液3を種菌として、250容発酵槽
内の前記と同一組成の培地200に植菌し、30℃
で120時間通気撹拌培養した。この際、状態に応
じて必要があれば消泡剤としてKS−66(信越化学
製、シリコーン系消泡剤)などを添加することが
できる。 こうして得た培養液200を遠心分離し、菌体
と上澄液に分離した。 菌体をアセトン20で2回抽出し、上澄液はア
ンバーライトXAD−8(商品名、ローム・アン
ド・ハース社製)に吸着させ、洗浄後アセトンで
溶出した。 このアセトン抽出液とアセトン溶出液を合せ、
減圧濃縮した。得られた残渣より酢酸エチル2
で2回抽出し、この抽出液を合せ、硫酸ナトリウ
ムで脱水後、減圧溜去し、油状物約123gを得た。 この油状物をベンゼン0.5に溶解し、ベンゼ
ンで調製したシリカゲルカラム〔ワコーゲルC−
200(商品名、和光純薬製);2〕に吸着させた。
ベンゼン5で洗浄し、酢酸エチル5で溶出さ
れた区分を除き、アセトン5で溶出した。 このアセトン区分を集め、溶媒を除去し、得ら
れた残渣をヘキサン−アセトン(4:1)の混合
溶媒0.1に溶解し、これと同じ溶媒で調製した
シリカゲルカラム(ワコーゲルC−200;0.5)
に吸着させた。 続いて、これと同じ溶媒1.5を流した後、ヘ
キサン−アセトン(6:4)の混合溶媒で溶出
し、1から2.5の間の溶出区分〔薄層クロマ
トグラフイー(ヘキサン:アセトン=1:1)に
より確認〕を集め、濃縮乾涸して白色粉末を得
た。 この粉末を酢酸エチル50mlに溶解し、これを同
量の希塩酸、水、飽和炭酸ナトリウム水、水で順
次各2回ずつ洗浄後、酢酸エチル層を硫酸ナトリ
ウムで脱水し、濃縮乾涸した。得られた粉末を少
量のアセトンに溶解し、セフアデツクスLH−20
カラム(商品名、フアルマシア社製)を用い、ア
セトンでゲル過を行なつた。得られた活性区分
を集め、濃縮乾涸して白色粉末を得、これをヘキ
サン−アセトン(4:1)の混合溶媒から結晶化
し、無色の針状結晶としてTM−531Cナトリウム
塩222mgを得た。 融点 190.4〜191.6℃
【図面の簡単な説明】
第1図はTM−531Cナトリウム塩のKBr錠によ
る赤外線吸収スペクトルを示し、第2図はTM−
531Cナトリウム塩の重メタノール添加重クロロ
ホルム溶液による 1H−NMRスペクトルを示し、
第3図は 13C−NMRスペクトルを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 構造式 で表わされる抗生物質TM−531Cおよびその塩。
JP55129576A 1980-09-16 1980-09-18 Antibiotic tm-531c Granted JPS5754191A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55129576A JPS5754191A (en) 1980-09-18 1980-09-18 Antibiotic tm-531c
US06/302,017 US4359583A (en) 1980-09-16 1981-09-15 Antibiotics TM-531 B and TM-531 C
EP81304209A EP0048585A1 (en) 1980-09-16 1981-09-15 Antibiotics TM-531 B and TM-531 C

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55129576A JPS5754191A (en) 1980-09-18 1980-09-18 Antibiotic tm-531c

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Publication Number Publication Date
JPS5754191A JPS5754191A (en) 1982-03-31
JPS6316392B2 true JPS6316392B2 (ja) 1988-04-08

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ID=15012874

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JP55129576A Granted JPS5754191A (en) 1980-09-16 1980-09-18 Antibiotic tm-531c

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JPS5754191A (en) 1982-03-31

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