JPS63244657A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS63244657A JPS63244657A JP62077071A JP7707187A JPS63244657A JP S63244657 A JPS63244657 A JP S63244657A JP 62077071 A JP62077071 A JP 62077071A JP 7707187 A JP7707187 A JP 7707187A JP S63244657 A JPS63244657 A JP S63244657A
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- JP
- Japan
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- bed
- leads
- metal layers
- semiconductor device
- layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、特に樹脂封止型の半導体素子容器(プラスチ
ックパッケージ)を使用した半導体装置であって、集積
度が高く、しかも集積度が容易に損なわれてしまうこと
がない高性能、高信頼性を実現した半導体装置に関する
。
ックパッケージ)を使用した半導体装置であって、集積
度が高く、しかも集積度が容易に損なわれてしまうこと
がない高性能、高信頼性を実現した半導体装置に関する
。
(従来の技術)
半導体装置における半導体チップを収納するパッケージ
には、大別してセラミックとプラスチックに21EJ類
の材料が使用されている。このセラミックは一般に信頼
性の面でプラスチックより優れているが、かなり高価で
ある。これに対して、プラスチックは安価で、しかも自
動化に適し、例えばメモリー等のように大量生産で価格
競争力が求められる半導体チップのパッケージとしては
最適である。
には、大別してセラミックとプラスチックに21EJ類
の材料が使用されている。このセラミックは一般に信頼
性の面でプラスチックより優れているが、かなり高価で
ある。これに対して、プラスチックは安価で、しかも自
動化に適し、例えばメモリー等のように大量生産で価格
競争力が求められる半導体チップのパッケージとしては
最適である。
従来の上記プラスチックパッケージを使用した半導体装
置は、第6図に示すように、一枚の金属板1に加工を施
して複数のリード2、ベッド3及び吊りピン4を成形し
、このベッド2の上面に半導体チップをマウントし、こ
の半導体チップのパッドと上記各リード2とをワイヤボ
ンディングした後、パッケージ樹脂5で樹脂封止し、し
かる後にリード2やベッド3を金属板(フレーム)1か
ら切離し、更にリード2を所望の形状に折曲げて、半導
体装置を構成していた。
置は、第6図に示すように、一枚の金属板1に加工を施
して複数のリード2、ベッド3及び吊りピン4を成形し
、このベッド2の上面に半導体チップをマウントし、こ
の半導体チップのパッドと上記各リード2とをワイヤボ
ンディングした後、パッケージ樹脂5で樹脂封止し、し
かる後にリード2やベッド3を金属板(フレーム)1か
ら切離し、更にリード2を所望の形状に折曲げて、半導
体装置を構成していた。
この半導体装置のメモリーのパッケージの形態の一つと
して、第7図に示すようなZIP (ジグザグ・インラ
イン・パッケージ)がある。これは、リード2のパッケ
ージ樹脂5からの出口を一側面に集中させ、この側面か
ら突出したり−ド2を互い違いに上下に屈曲させたもの
である。
して、第7図に示すようなZIP (ジグザグ・インラ
イン・パッケージ)がある。これは、リード2のパッケ
ージ樹脂5からの出口を一側面に集中させ、この側面か
ら突出したり−ド2を互い違いに上下に屈曲させたもの
である。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、上記従来例の場合、金属層が一層であっ
たため、例えばリードとベッドとを重合させることがで
きず、このためリードのレイアウトが制限されたり、所
望の面積と形状を確保したベッドを得ようとすると、リ
ードのレイアウトの関係でパッケージのサイズが大きく
なったりする不都合があった。
たため、例えばリードとベッドとを重合させることがで
きず、このためリードのレイアウトが制限されたり、所
望の面積と形状を確保したベッドを得ようとすると、リ
ードのレイアウトの関係でパッケージのサイズが大きく
なったりする不都合があった。
また、逆に一定のパッケージサイズを得ようとすると、
ベッドが小さくなり、従ってここにマウントする半導体
素子のチップ面積も小さくせねばならず、このため極端
に微細な寸法を用いて設計しなければならないといった
不都合があった。
ベッドが小さくなり、従ってここにマウントする半導体
素子のチップ面積も小さくせねばならず、このため極端
に微細な寸法を用いて設計しなければならないといった
不都合があった。
特に、上記ZIPの場合、リードの出口が一辺に集中し
ているため、この引き廻しが激しく、リードのキャパシ
タンスやインダクタンスは増し、またベッドサイズは小
さくなってしまうといった不都合があった。
ているため、この引き廻しが激しく、リードのキャパシ
タンスやインダクタンスは増し、またベッドサイズは小
さくなってしまうといった不都合があった。
本発明は上記に鑑み、大きなベッドサイズと小さなパッ
ケージサイズを両立することができるばかりでなく、耐
ノイズ性や、例えば耐湿性等の信頼性の高い半導体装置
を提供することを目的としてなされたものである。
ケージサイズを両立することができるばかりでなく、耐
ノイズ性や、例えば耐湿性等の信頼性の高い半導体装置
を提供することを目的としてなされたものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は上記目的を達成するため、リードまたはベッド
を別々の層で形成したり単一の金属板を折曲げて形成し
た金属層を、封止用樹脂やその他の誘電体等の絶縁層を
介在させて多層に積層し、このベッド上に搭載した半導
体チップを樹脂封止したものである。
を別々の層で形成したり単一の金属板を折曲げて形成し
た金属層を、封止用樹脂やその他の誘電体等の絶縁層を
介在させて多層に積層し、このベッド上に搭載した半導
体チップを樹脂封止したものである。
(作 用)
而して、2層以上の金属層を利用し、例えばリードを形
成した金属層とベッドを形成した金属層等とを絶縁層を
介在させつつオーバーラツプさせることにより、リード
及びベッドのレイアウトに、より大きな自由度を与えた
ものである。
成した金属層とベッドを形成した金属層等とを絶縁層を
介在させつつオーバーラツプさせることにより、リード
及びベッドのレイアウトに、より大きな自由度を与えた
ものである。
(実施例)
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示し、上記ZI
Pに適応させたものである。
Pに適応させたものである。
即ち、一枚の金属板1に加工を施して、折曲げ線6を境
として、上層の金属膜となる上層部1aと下層の金属膜
となる下層部1bとに分割するとともに、この上層部1
aにはリード2、ベース3及び吊りビン4を、下層部1
bにこのベース3との重合部7と交差するり−ド2を夫
々レイアウトして形成し、組立ての際に、ベース3の上
面に半導体チップ8をマウントした後、折曲げ線6に沿
って折曲げるとともに、折曲げた2層の金属膜1a、l
bの間に、ベース3とリード2の重合面のどちらか一方
に絶縁物質を付着させることにより絶縁層を介在させて
、両金属膜1a、lbとの間を絶縁させる。
として、上層の金属膜となる上層部1aと下層の金属膜
となる下層部1bとに分割するとともに、この上層部1
aにはリード2、ベース3及び吊りビン4を、下層部1
bにこのベース3との重合部7と交差するり−ド2を夫
々レイアウトして形成し、組立ての際に、ベース3の上
面に半導体チップ8をマウントした後、折曲げ線6に沿
って折曲げるとともに、折曲げた2層の金属膜1a、l
bの間に、ベース3とリード2の重合面のどちらか一方
に絶縁物質を付着させることにより絶縁層を介在させて
、両金属膜1a、lbとの間を絶縁させる。
そして、このように折曲げた後、この半導体チップ8の
パッド8aとリード2の先端との間をボンディングワイ
ヤ9でワイヤボンディングした後にパッケージ樹脂5で
樹脂封止し、しかる後に金属板(フレーム)1からリー
ド2及びベッド3を切離して半導体装置を構成したもの
である。
パッド8aとリード2の先端との間をボンディングワイ
ヤ9でワイヤボンディングした後にパッケージ樹脂5で
樹脂封止し、しかる後に金属板(フレーム)1からリー
ド2及びベッド3を切離して半導体装置を構成したもの
である。
この場合、折曲げられた2層間の絶縁層の膜厚は厚く、
誘電率は低い方が、ベッド3とオーバーラツプするり−
ド2の寄生容量を小さくする上で好ましい。
誘電率は低い方が、ベッド3とオーバーラツプするり−
ド2の寄生容量を小さくする上で好ましい。
なお、上記絶縁膜は折曲げる時に金属膜1 a +1b
の間に空間を作っておき、封止時の樹脂をこの空間に充
填して絶縁するようにしても良く、また半導体チップ8
のベッド3へのマウントは金属板1を折曲げた後に行う
ようにしても良い。
の間に空間を作っておき、封止時の樹脂をこの空間に充
填して絶縁するようにしても良く、また半導体チップ8
のベッド3へのマウントは金属板1を折曲げた後に行う
ようにしても良い。
第3図は他の実施例で、いわゆるDIP (デュアル・
インライン・パッケージ)に適用した例を示し、一枚の
金属板1を折曲げ線6を境として、を層の金属膜となる
上層部1aと下層の金属膜となる下層部1bとに二分し
て、その上方の下層部1bに四方に広がるリード2を、
その下方の上層部1aにベッド3及び上下の吊りビン4
を夫々形成し、組立ての際にこれを折曲げ線6に沿って
折曲げるとともに、両者の重合部に絶縁層を介在させ、
上記と同様に半導体装置を構成するようにしたものであ
る。
インライン・パッケージ)に適用した例を示し、一枚の
金属板1を折曲げ線6を境として、を層の金属膜となる
上層部1aと下層の金属膜となる下層部1bとに二分し
て、その上方の下層部1bに四方に広がるリード2を、
その下方の上層部1aにベッド3及び上下の吊りビン4
を夫々形成し、組立ての際にこれを折曲げ線6に沿って
折曲げるとともに、両者の重合部に絶縁層を介在させ、
上記と同様に半導体装置を構成するようにしたものであ
る。
第4図は更に他の実施例を示し、一枚の金属板1を折曲
げ線6を境として、上層の金属膜となる上層部1aと下
層の金属膜となる下層部1bとに二分し、その上方の上
層部1aにベッド3と吊りビン4を形成するとともに、
その下方の下層部1bに上記ベッド3との重合板10を
形成し、この重合板10に吊りビン4を連接し、この重
合板10に先端を近接させてリード2を配設するととも
に、更にこの吊りビン4に接地端子11又は電源端子を
連接したものである。
げ線6を境として、上層の金属膜となる上層部1aと下
層の金属膜となる下層部1bとに二分し、その上方の上
層部1aにベッド3と吊りビン4を形成するとともに、
その下方の下層部1bに上記ベッド3との重合板10を
形成し、この重合板10に吊りビン4を連接し、この重
合板10に先端を近接させてリード2を配設するととも
に、更にこの吊りビン4に接地端子11又は電源端子を
連接したものである。
このようにすることによって、半導体チップ上で基板電
位を発生させる半導体素子、例えばダイナミックRAM
では、基板電位のノイズ対策が重要な課題となるが、ベ
ッドにlX1M端子又は接地端子と大きな静電容量を持
たせることができ、基板電位の安定化を図るようにする
ことができる。
位を発生させる半導体素子、例えばダイナミックRAM
では、基板電位のノイズ対策が重要な課題となるが、ベ
ッドにlX1M端子又は接地端子と大きな静電容量を持
たせることができ、基板電位の安定化を図るようにする
ことができる。
更に、第5図に示すように、2つに分離した重合板10
a、10bで上記第4図に示す重合板10を構成し、一
方の重合板10aの吊りビン4を接地端子11に、他方
の重合板10bの吊りビン4を電源端子12に夫々連続
させることにより、ベッド3に接地端子及び電源端子の
両方との静電容量を持たせるようにすることができる。
a、10bで上記第4図に示す重合板10を構成し、一
方の重合板10aの吊りビン4を接地端子11に、他方
の重合板10bの吊りビン4を電源端子12に夫々連続
させることにより、ベッド3に接地端子及び電源端子の
両方との静電容量を持たせるようにすることができる。
なお、基板電位のみならず、電源端子と接地端、子の間
にこの容量を形成して、電源ノイズの低減を図るように
することもできる。
にこの容量を形成して、電源ノイズの低減を図るように
することもできる。
このような場合、2層間の絶縁膜は耐圧が持つ範囲で極
力薄い方が良く、また誘電率が高い方が好ましい。
力薄い方が良く、また誘電率が高い方が好ましい。
なお、上記実施例は、いずれも2層の金属層を備えたも
のを示しているが、3層又はこれ以上の多層にして、よ
り効果を高めるようにすることもできる。更に、例えば
第3図に示すものに、第5図に示すものを加えて、双方
の効果を同時に存するようにすることもできる。
のを示しているが、3層又はこれ以上の多層にして、よ
り効果を高めるようにすることもできる。更に、例えば
第3図に示すものに、第5図に示すものを加えて、双方
の効果を同時に存するようにすることもできる。
更に、上記実施例では、組立て工程中に折曲げ工程を含
むことにより、単層の金属板を多層(2層)にするもの
を示しているが、例えば最初から2層以上の金属層を用
い、これらを貼り合せるようにして、ベッドやリードを
形成するようにしても良い。
むことにより、単層の金属板を多層(2層)にするもの
を示しているが、例えば最初から2層以上の金属層を用
い、これらを貼り合せるようにして、ベッドやリードを
形成するようにしても良い。
この場合は、リードやベッドのパターンをテープ状に何
チップを連ねたリードテープの製造工程を変えることに
より、従来の組立て工程で対処することができる。また
、単一の金属層の場合は、リードテープの製造工程は従
来のままで対処することができ、しかも金型も一種類で
済み安価であるが、組立て工程の中に新たに折曲げ工程
を追加する必要が生じる。
チップを連ねたリードテープの製造工程を変えることに
より、従来の組立て工程で対処することができる。また
、単一の金属層の場合は、リードテープの製造工程は従
来のままで対処することができ、しかも金型も一種類で
済み安価であるが、組立て工程の中に新たに折曲げ工程
を追加する必要が生じる。
本発明は上記のような構成であるので、大きなベッドを
有し、これに合った半導体チップを搭載したものを、小
さなパッケージで、しかもリードに阻害されることなく
実現することができる。
有し、これに合った半導体チップを搭載したものを、小
さなパッケージで、しかもリードに阻害されることなく
実現することができる。
しかも、耐ノイズ性や、例えば耐湿性等の信頼性の向上
を図ることができるばかりでなく、引抜き等の外力に対
するリードの強度を強化するようにすることができると
いった効果がある。
を図ることができるばかりでなく、引抜き等の外力に対
するリードの強度を強化するようにすることができると
いった効果がある。
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示し、第1図は
半導体チップをボンディングした状態を示す平面図、第
2図は屈曲前の金属板のレイアウトを示す平面図、第3
図乃至第5図は夫々異なる他の実施例を示す第2図相当
図、第6図は従来の金属板のレイアウトを示す平面図、
第7図は従来のZIPを示し、同図(イ)は平面図、同
図(ロ)は側面図、同図(ハ)は正面図である。 1・・・金属板、1a・・・同上層部(金属層)、1b
・・・同下層部(金属層)、2・・・リード、3・・・
ベッド、4・・・吊りピン、5・・・パッケージ樹脂、
8・・・半導体チップ、10・・・重合板、11・・・
接地端子、12・・・電源端子。 出願人代理人 佐 藤 −雄 芋 1 図 蔓 2 図 呼 第 3 図 第 4 図 牟 5 図 第6 図 2
半導体チップをボンディングした状態を示す平面図、第
2図は屈曲前の金属板のレイアウトを示す平面図、第3
図乃至第5図は夫々異なる他の実施例を示す第2図相当
図、第6図は従来の金属板のレイアウトを示す平面図、
第7図は従来のZIPを示し、同図(イ)は平面図、同
図(ロ)は側面図、同図(ハ)は正面図である。 1・・・金属板、1a・・・同上層部(金属層)、1b
・・・同下層部(金属層)、2・・・リード、3・・・
ベッド、4・・・吊りピン、5・・・パッケージ樹脂、
8・・・半導体チップ、10・・・重合板、11・・・
接地端子、12・・・電源端子。 出願人代理人 佐 藤 −雄 芋 1 図 蔓 2 図 呼 第 3 図 第 4 図 牟 5 図 第6 図 2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、リードまたはベッドを形成した金属層を絶縁層を介
在させて多層に積層し、このベッド上に搭載した半導体
チップを樹脂封止したことを特徴とする半導体装置。 2、上記絶縁層に封止用樹脂を用いたことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、上記絶縁層に封止用樹脂とは異なる誘電体を用いた
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装
置。 4、リードとベッドとを夫々別々の金属層で形成し、両
者を重合させて構成したことを特徴とする特許請求の範
囲第1項乃至第3項のいずれかに記載の半導体装置。 5、単一の金属板を折曲げて多層の金属層を形成したこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のいず
れかに記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62077071A JP2618883B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62077071A JP2618883B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 半導体装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8316114A Division JPH09167823A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63244657A true JPS63244657A (ja) | 1988-10-12 |
| JP2618883B2 JP2618883B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=13623560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62077071A Expired - Fee Related JP2618883B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2618883B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02246257A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-02 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | 半導体装置 |
| JPH038363A (ja) * | 1989-06-05 | 1991-01-16 | Hitachi Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
| JPH0669409A (ja) * | 1992-04-18 | 1994-03-11 | Temic Telefunken Microelectron Gmbh | 半導体構成部材群 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS574239U (ja) * | 1980-06-06 | 1982-01-09 | ||
| JPS57120361A (en) * | 1981-01-17 | 1982-07-27 | Sanyo Electric Co Ltd | Structure of film substrate |
| JPS5927549A (ja) * | 1982-08-03 | 1984-02-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS5927549U (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-21 | キヤノン株式会社 | 電子写真複写装置 |
| JPS6043849A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-08 | Fuji Electric Co Ltd | リ−ドフレ−ム |
-
1987
- 1987-03-30 JP JP62077071A patent/JP2618883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS574239U (ja) * | 1980-06-06 | 1982-01-09 | ||
| JPS57120361A (en) * | 1981-01-17 | 1982-07-27 | Sanyo Electric Co Ltd | Structure of film substrate |
| JPS5927549A (ja) * | 1982-08-03 | 1984-02-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS5927549U (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-21 | キヤノン株式会社 | 電子写真複写装置 |
| JPS6043849A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-08 | Fuji Electric Co Ltd | リ−ドフレ−ム |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02246257A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-02 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | 半導体装置 |
| JPH038363A (ja) * | 1989-06-05 | 1991-01-16 | Hitachi Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
| JPH0669409A (ja) * | 1992-04-18 | 1994-03-11 | Temic Telefunken Microelectron Gmbh | 半導体構成部材群 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2618883B2 (ja) | 1997-06-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |