JPS6351063B2 - - Google Patents
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- JPS6351063B2 JPS6351063B2 JP58236546A JP23654683A JPS6351063B2 JP S6351063 B2 JPS6351063 B2 JP S6351063B2 JP 58236546 A JP58236546 A JP 58236546A JP 23654683 A JP23654683 A JP 23654683A JP S6351063 B2 JPS6351063 B2 JP S6351063B2
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- JP
- Japan
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- plasma
- injection
- support
- storage chamber
- injection tube
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Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
- B29C59/142—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment of profiled articles, e.g. hollow or tubular articles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/30—Vehicles, e.g. ships or aircraft, or body parts thereof
- B29L2031/3044—Bumpers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は合成樹脂製のバンパー等の被塗装品
の被処理表面にプラズマ処理を施すためのプラズ
マ処理装置に関するものである。
の被処理表面にプラズマ処理を施すためのプラズ
マ処理装置に関するものである。
従来技術
従来、この種のプラズマ処理装置としては、密
閉された収容室内にポリプロピレン等からなる自
動車部品の合成樹脂製バンパーを層状に並列配置
するとともに、プラズマ噴射管を収容し、バンパ
ーの被処理表面に塗料を付着し易くするために、
その噴射管から酸素等のプラズマガスをバンパー
の被処理表面に噴射してバンパーの被処理表面を
活性化していた。
閉された収容室内にポリプロピレン等からなる自
動車部品の合成樹脂製バンパーを層状に並列配置
するとともに、プラズマ噴射管を収容し、バンパ
ーの被処理表面に塗料を付着し易くするために、
その噴射管から酸素等のプラズマガスをバンパー
の被処理表面に噴射してバンパーの被処理表面を
活性化していた。
ところが、この従来の装置においては、収容室
内にバンパーが静置されるとともに、一個の噴射
口を有する一対のプラズマ噴射管が対角線上に対
向配置されているため、各噴射管に接続されるプ
ラズマ供給装置等の制御及び保守点検が面倒であ
るばかりでなく、設備費の高騰を招くという問題
があつた。
内にバンパーが静置されるとともに、一個の噴射
口を有する一対のプラズマ噴射管が対角線上に対
向配置されているため、各噴射管に接続されるプ
ラズマ供給装置等の制御及び保守点検が面倒であ
るばかりでなく、設備費の高騰を招くという問題
があつた。
発明の目的
この発明は上記の欠陥を解消するためになされ
たものであつて、その目的は、噴射管に接続され
るプラズマ供給装置等の制御及び保守点検を簡単
に行うことができるとともに、装置全体を安価に
製造することができ、さらには、バンパーにプラ
ズマガスを均一に噴射することができる新規なプ
ラズマ処理装置を提供することにある。
たものであつて、その目的は、噴射管に接続され
るプラズマ供給装置等の制御及び保守点検を簡単
に行うことができるとともに、装置全体を安価に
製造することができ、さらには、バンパーにプラ
ズマガスを均一に噴射することができる新規なプ
ラズマ処理装置を提供することにある。
発明の構成
上記の目的を達成するためにこの発明において
は、合成樹脂製の被塗装品を収容する収容室と、
その収容室内にプラズマを導入する導入管と、収
容室内における前記導入管に接続される導入口
と、前記導入管から導入されたプラズマを前記被
塗装品の被処理表面に噴射するための噴射口を有
するプラズマ噴射管と、前記収容室内のプラズマ
を排出するために同収容室に設けた排出口とを備
えたプラズマ処理装置において、前記収容室内に
は軸線の回りで回転する一対の支持部材を設け、
両支持部材間には、同支持部材に支持され被塗装
品を載置するための複数の支持台を支持部材と相
対回動可能に配置させ、さらに、前記プラズマ噴
射管の外周面に前記噴射口を被塗装品の被処理表
面に向けて多数個設けるとともに、このプラズマ
噴射管を前記軸線とほぼ平行に配置させた。
は、合成樹脂製の被塗装品を収容する収容室と、
その収容室内にプラズマを導入する導入管と、収
容室内における前記導入管に接続される導入口
と、前記導入管から導入されたプラズマを前記被
塗装品の被処理表面に噴射するための噴射口を有
するプラズマ噴射管と、前記収容室内のプラズマ
を排出するために同収容室に設けた排出口とを備
えたプラズマ処理装置において、前記収容室内に
は軸線の回りで回転する一対の支持部材を設け、
両支持部材間には、同支持部材に支持され被塗装
品を載置するための複数の支持台を支持部材と相
対回動可能に配置させ、さらに、前記プラズマ噴
射管の外周面に前記噴射口を被塗装品の被処理表
面に向けて多数個設けるとともに、このプラズマ
噴射管を前記軸線とほぼ平行に配置させた。
実施例
以下、この発明を具体化した一実施例を第１図
〜第６図に従つて説明する。プラズマ処理装置の
気密状の収容室を構成する本体１は中空円筒状に
形成され、その左側壁には収容室を開閉し得る扉
（図示しない）が設けられるとともに、右側壁上
部にはプラズマ排出口２が形成されている。本体
１内には四角枠状のフレーム３が収容され、その
左右両辺部には互いに対向する支柱４が立設され
ている。
〜第６図に従つて説明する。プラズマ処理装置の
気密状の収容室を構成する本体１は中空円筒状に
形成され、その左側壁には収容室を開閉し得る扉
（図示しない）が設けられるとともに、右側壁上
部にはプラズマ排出口２が形成されている。本体
１内には四角枠状のフレーム３が収容され、その
左右両辺部には互いに対向する支柱４が立設され
ている。
両支柱４の上端部間には回転軸５が回転可能に
支持され、その回転軸５の両端には一対の支持円
盤６ａ，６ｂが一体回転可能に装着されている。
前記両支持円盤６ａ，６ｂの内面間には被塗装
品、例えば、ポリプロピレン等の合成樹脂からな
るバンパーＢを載置するための６個の支持台７が
所定の角度間隔をおいて配設されている。
支持され、その回転軸５の両端には一対の支持円
盤６ａ，６ｂが一体回転可能に装着されている。
前記両支持円盤６ａ，６ｂの内面間には被塗装
品、例えば、ポリプロピレン等の合成樹脂からな
るバンパーＢを載置するための６個の支持台７が
所定の角度間隔をおいて配設されている。
第２図に示すように、各支持台７は金属板にて
折曲形成された一対の支持片８と、両支持片８間
に架設された架設棒９ａと、各架設棒９ａの各端
部間を連結するように各支持片８の下面に配設さ
れた連結棒９ｂとから構成され、各支持片８はそ
の上端部において金具１０等により各支持円盤６
ａ，６ｂに相対回転可能に支持されている。従つ
て、前記回転軸５及び支持円盤６ａ，６ｂの回転
時及び静止時において各支持台７は水平位置に保
持される。また、各支持片８の中央切欠部にはプ
ラズマガスの通過を許容するためのネツト１１が
張設されている。
折曲形成された一対の支持片８と、両支持片８間
に架設された架設棒９ａと、各架設棒９ａの各端
部間を連結するように各支持片８の下面に配設さ
れた連結棒９ｂとから構成され、各支持片８はそ
の上端部において金具１０等により各支持円盤６
ａ，６ｂに相対回転可能に支持されている。従つ
て、前記回転軸５及び支持円盤６ａ，６ｂの回転
時及び静止時において各支持台７は水平位置に保
持される。また、各支持片８の中央切欠部にはプ
ラズマガスの通過を許容するためのネツト１１が
張設されている。
第３図に示すように、前記回転軸５の左端部に
は鎖車１２が挿嵌されるとともに、前記フレーム
３上には一軸線の回りで回転する鎖車１３及び伝
達ギア１４が設けられ、両鎖車１２，１３間には
チエーン１５が掛装されるとともに、前記伝達ギ
ア１４には図示しない駆動モータにて回転駆動さ
れる駆動ギア１６が噛合されている。
は鎖車１２が挿嵌されるとともに、前記フレーム
３上には一軸線の回りで回転する鎖車１３及び伝
達ギア１４が設けられ、両鎖車１２，１３間には
チエーン１５が掛装されるとともに、前記伝達ギ
ア１４には図示しない駆動モータにて回転駆動さ
れる駆動ギア１６が噛合されている。
そして、駆動ギア１６の回転に伴い、伝達ギア
１４、鎖車１３、チエーン１５及び鎖車１２を介
して回転軸５とともに支持円盤６ａ，６ｂが回転
される。
１４、鎖車１３、チエーン１５及び鎖車１２を介
して回転軸５とともに支持円盤６ａ，６ｂが回転
される。
第１図に示すように、前記フレーム３の下方に
おいて本体１内には酸素等のプラズマガスを噴射
するための１個のステンレス製噴射管１７が前記
回転軸５とほぼ並行に収容されている。第４図に
示すように、噴射管１７のほぼ中央に形成された
プラズマ導入口（図示しない）には導入管１８が
接続され、その端部が本体１外のプラズマ供給装
置（図示しない）に接続される。導入口の両側に
て噴射管１７の外周面には噴射管１７の端部側に
向かつて配置間隔が漸減し、かつ内径が漸増する
多数の噴射口１９がバンパーＢの被処理表面に向
けて設けられている。そして、各噴射口１９は垂
直面Ｓに対して前側へ所定角度θ１（この実施例
では30度）傾斜する方向に開口するもの１９ａ
と、後側へ所定角度θ２（この実施例では30度）
傾斜する方向へ開口するもの１９ｂとから構成さ
れている。そして、前側へ傾斜する噴射口１９ａ
と後側へ傾斜する噴射口１９ｂとが交互に配設さ
れている。また、導入管１８より排出口２側、す
なわち右側の噴射口１９の数は排出口２より左側
の噴射口１９の数より15％だけ少なく設定されて
いる。
おいて本体１内には酸素等のプラズマガスを噴射
するための１個のステンレス製噴射管１７が前記
回転軸５とほぼ並行に収容されている。第４図に
示すように、噴射管１７のほぼ中央に形成された
プラズマ導入口（図示しない）には導入管１８が
接続され、その端部が本体１外のプラズマ供給装
置（図示しない）に接続される。導入口の両側に
て噴射管１７の外周面には噴射管１７の端部側に
向かつて配置間隔が漸減し、かつ内径が漸増する
多数の噴射口１９がバンパーＢの被処理表面に向
けて設けられている。そして、各噴射口１９は垂
直面Ｓに対して前側へ所定角度θ１（この実施例
では30度）傾斜する方向に開口するもの１９ａ
と、後側へ所定角度θ２（この実施例では30度）
傾斜する方向へ開口するもの１９ｂとから構成さ
れている。そして、前側へ傾斜する噴射口１９ａ
と後側へ傾斜する噴射口１９ｂとが交互に配設さ
れている。また、導入管１８より排出口２側、す
なわち右側の噴射口１９の数は排出口２より左側
の噴射口１９の数より15％だけ少なく設定されて
いる。
従つて、本体１内において各支持台７にバンパ
ーＢを載置した状態で、駆動モータを作動すれ
ば、駆動ギア１６、伝達ギア１４、鎖車１３、チ
エーン１５及び鎖車１２を介して回転軸５及び支
持円盤６ａ，６ｂが回転され、かつバンパーＢと
ともに各支持台７がその上端部を中心として各支
持円盤６ａ，６ｂに対して相対回動され、各支持
円盤６ａ，６ｂの回転中においても各バンパーＢ
が水平状態に保持される。
ーＢを載置した状態で、駆動モータを作動すれ
ば、駆動ギア１６、伝達ギア１４、鎖車１３、チ
エーン１５及び鎖車１２を介して回転軸５及び支
持円盤６ａ，６ｂが回転され、かつバンパーＢと
ともに各支持台７がその上端部を中心として各支
持円盤６ａ，６ｂに対して相対回動され、各支持
円盤６ａ，６ｂの回転中においても各バンパーＢ
が水平状態に保持される。
そして、導入管１８を介して噴射管１７に酵素
等のプラズマガスを導入すれば、各噴射口１９か
らプラズマガスが前記バンパーＢの被処理表面に
対して均一噴射される。そのため、バンパー表面
が活性化され、塗装をし易くすることができる。
等のプラズマガスを導入すれば、各噴射口１９か
らプラズマガスが前記バンパーＢの被処理表面に
対して均一噴射される。そのため、バンパー表面
が活性化され、塗装をし易くすることができる。
そして、この実施例においては、多数個の噴射
口１９を有するプラズマ噴射管１７が前記回転軸
５とほぼ平行に設けられるとともに、前記支持円
盤６ａ，６ｂ間に相対回動可能に支持された支持
台７が各支持円盤６ａ，６ｂとともに回動するた
め、このプラズマ噴射管１７からバンパーＢの被
処理表面に向かつて噴射されるプラズマガスは積
極的に撹拌される。従つて、前記プラズマ噴射管
１７が１個であるにもかかわらず前記本体１内に
プラズマガスを均一に充満させることができ、ひ
いては、バンパーＢの被処理表面を均一にプラズ
マ処理できるばかりでなく、複雑な形状の被塗装
品でも、その被処理表面をくまなく活性化するこ
とができる。また、各支持片８の中央切欠部にプ
ラズマガスの通過を許容するネツト１１を設けた
ため、バンパーＢの端部までプラズマ処理を確実
に行うことができるとともに、前述したプラズマ
ガスの撹拌作用を助ける役目をもはたす。また、
噴射管１７が１箇のみ設けられているため、その
噴射管１７に接続されるプラズマ供給装置等の制
御及び保守点検を容易に行うことができるととも
に、装置全体を安価に製造することができる。
口１９を有するプラズマ噴射管１７が前記回転軸
５とほぼ平行に設けられるとともに、前記支持円
盤６ａ，６ｂ間に相対回動可能に支持された支持
台７が各支持円盤６ａ，６ｂとともに回動するた
め、このプラズマ噴射管１７からバンパーＢの被
処理表面に向かつて噴射されるプラズマガスは積
極的に撹拌される。従つて、前記プラズマ噴射管
１７が１個であるにもかかわらず前記本体１内に
プラズマガスを均一に充満させることができ、ひ
いては、バンパーＢの被処理表面を均一にプラズ
マ処理できるばかりでなく、複雑な形状の被塗装
品でも、その被処理表面をくまなく活性化するこ
とができる。また、各支持片８の中央切欠部にプ
ラズマガスの通過を許容するネツト１１を設けた
ため、バンパーＢの端部までプラズマ処理を確実
に行うことができるとともに、前述したプラズマ
ガスの撹拌作用を助ける役目をもはたす。また、
噴射管１７が１箇のみ設けられているため、その
噴射管１７に接続されるプラズマ供給装置等の制
御及び保守点検を容易に行うことができるととも
に、装置全体を安価に製造することができる。
発明の効果
以上、詳述したようにこの発明は、合成樹脂製
の被塗装品を収容する収容室と、その収容室内に
プラズマを導入する導入管と、収容室内における
前記導入管に接続される導入口と、前記導入管か
ら導入されたプラズマを前記被塗装品の被処理表
面に噴射するための噴射口を有するプラズマ噴射
管と、前記収容室内のプラズマを排出するために
同収容室に設けた排出口とを備えたプラズマ処理
装置において、前記収容室内には軸線の回りで回
転する一対の支持部材を設け、両支持部材間に
は、同支持部材に支持され被塗装品を載置するた
めの複数の支持台を支持部材と相対回動可能に配
置させ、さらに、前記プラズマ噴射管の外周面に
前記噴射口を被塗装品の被処理表面に向けて多数
個設けるとともに、このプラズマ噴射管を前記軸
線とほぼ平行に配置させたことにより、プラズマ
噴射管から前記被処理表面に向かつてプラズマを
均一に噴射できるばかりでなく、噴射されるプラ
ズマを積極的に撹拌して同被処理表面をくまなく
活性化することもでき、さらには、この噴射管に
接続されるプラズマ供給装置等の制御及び保守点
検を簡単にできるとともに、装置全体を安価に製
造することができるという優れた効果を奏する。
の被塗装品を収容する収容室と、その収容室内に
プラズマを導入する導入管と、収容室内における
前記導入管に接続される導入口と、前記導入管か
ら導入されたプラズマを前記被塗装品の被処理表
面に噴射するための噴射口を有するプラズマ噴射
管と、前記収容室内のプラズマを排出するために
同収容室に設けた排出口とを備えたプラズマ処理
装置において、前記収容室内には軸線の回りで回
転する一対の支持部材を設け、両支持部材間に
は、同支持部材に支持され被塗装品を載置するた
めの複数の支持台を支持部材と相対回動可能に配
置させ、さらに、前記プラズマ噴射管の外周面に
前記噴射口を被塗装品の被処理表面に向けて多数
個設けるとともに、このプラズマ噴射管を前記軸
線とほぼ平行に配置させたことにより、プラズマ
噴射管から前記被処理表面に向かつてプラズマを
均一に噴射できるばかりでなく、噴射されるプラ
ズマを積極的に撹拌して同被処理表面をくまなく
活性化することもでき、さらには、この噴射管に
接続されるプラズマ供給装置等の制御及び保守点
検を簡単にできるとともに、装置全体を安価に製
造することができるという優れた効果を奏する。
第１図はこの発明を具体化したプラズマ処理装
置の斜視図、第２図は支持台の一部を示す拡大斜
視図、第３図は部分左側面図、第４図は噴射管の
正面図、第５図は第４図におけるＡ−Ａ線断面
図、第６図は第４図におけるＢ−Ｂ線断面図であ
る。 支持円盤……６ａ，６ｂ、支持台……７、噴射
管……１７、バンパー……Ｂ、噴射口……１９。
置の斜視図、第２図は支持台の一部を示す拡大斜
視図、第３図は部分左側面図、第４図は噴射管の
正面図、第５図は第４図におけるＡ−Ａ線断面
図、第６図は第４図におけるＢ−Ｂ線断面図であ
る。 支持円盤……６ａ，６ｂ、支持台……７、噴射
管……１７、バンパー……Ｂ、噴射口……１９。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂製の被塗装品を収容する収容室と、
その収容室内にプラズマを導入する導入管と、収
容室内における前記導入管に接続される導入口
と、前記導入管から導入されたプラズマを前記被
塗装品の被処理表面に噴射するための噴射口を有
するプラズマ噴射管と、前記収容室内のプラズマ
を排出するために同収容室に設けた排出口とを備
えたプラズマ処理装置において、 前記収容室内には軸線の回りで回転する一対の
支持部材６ａ，６ｂを設け、両支持部材６ａ，６
ｂ間には、同支持部材６ａ，６ｂに支持され被塗
装品を載置するための複数の支持台７を支持部材
６ａ，６ｂと相対回動可能に配置させ、さらに、
前記プラズマ噴射管１７の外周面に前記噴射口１
９を被塗装品の被処理表面に向けて多数個設ける
とともに、このプラズマ噴射管１７を前記軸線と
ほぼ平行に配置させたことを特徴とするプラズマ
処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58236546A JPS60129158A (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | プラズマ処理装置 |
| US06/680,511 US4584965A (en) | 1983-12-15 | 1984-12-11 | Plasma treating apparatus |
| AU36536/84A AU551058B2 (en) | 1983-12-15 | 1984-12-12 | Surface treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58236546A JPS60129158A (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60129158A JPS60129158A (ja) | 1985-07-10 |
| JPS6351063B2 true JPS6351063B2 (ja) | 1988-10-12 |
Family
ID=17002261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58236546A Granted JPS60129158A (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | プラズマ処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4584965A (ja) |
| JP (1) | JPS60129158A (ja) |
| AU (1) | AU551058B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1249926A (en) * | 1984-06-12 | 1989-02-14 | Katsuhide Manabe | Plasma processing apparatus |
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Family Cites Families (2)
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-
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