JPS637532B2 - - Google Patents

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JPS637532B2
JPS637532B2 JP58060581A JP6058183A JPS637532B2 JP S637532 B2 JPS637532 B2 JP S637532B2 JP 58060581 A JP58060581 A JP 58060581A JP 6058183 A JP6058183 A JP 6058183A JP S637532 B2 JPS637532 B2 JP S637532B2
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JP
Japan
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ether
reaction
carbonate
group
compounds
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JP58060581A
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English (en)
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JPS59186938A (ja
Inventor
Jiro Tsuji
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP58060581A priority Critical patent/JPS59186938A/ja
Publication of JPS59186938A publication Critical patent/JPS59186938A/ja
Publication of JPS637532B2 publication Critical patent/JPS637532B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はα、β−不飽和カルボニル化合物の新
規な製造法に関し、さらに詳しくは、アルケニル
シリルエーテルとアリル型炭酸エステルを出発原
料とする新規な反応によつてα、β−不飽和カル
ボニル化合物を製造する方法に関する。 シクロペンテノン誘導体、シクロヘキセノン誘
導体、シクロドデセノン誘導体などのごとき不飽
和カルボニル化合物は香料、医薬、化学薬品など
の分野で有用な化学物質である。 而して、かかる不飽和カルボニル化合物の合成
法として、従来からアルキリデンシクロペンタノ
ンのごとき環外に二重結合を有する化合物の異性
化による方法が知られているが(例えば特開昭51
−23240号)、この場合には側鎖の種類により反応
性が一様でなく、アルケニルシクロペンテノンの
ような側鎖に不飽和結合を有する化合物の合成に
は事実上不適当であつた。 そこで本発明者らは側鎖の種類に拘りなく目的
とする不飽和カルボニル化合物の合成を可能なら
しめる方法を開発すべく鋭意検討を進めた結果、
アルケニルシリルエーテルとアリル型炭酸エステ
ルを出発原料とする新規な反応を見い出し、本発
明を完成するに到つた。 かくして本発明によれば、下記一般式〔〕で
表わされるアルケニルシリルエーテルとアリル型
炭酸エステルを白金族金属化合物とα、ω−アル
キレンジ(ジ置換)ホスフイン(以下、ADPと
略称する)とから本質的に成る触媒の存在下に接
触せしめることを特徴とする下記一般式〔〕で
表わされるα、β−不飽和カルボニル化合物の製
造法が提供される。 (前記式中、R1,R2,R3及びR4は水素または
炭化水素残基、Xはトリハイドロカルビルシリル
基を表わし、R1,R2,R3,R4は鎖状であつても
またそれぞれが任意の組合せで環を形成していて
もよい。 本発明においては、第一の出発原料として前記
一般式〔〕で表わされるアルケニルシリルエー
テルが使用される。式中、R1は水素原子のほか
メチル基、エチル基、プロピル基、ペンチル基な
どのごときアルキル基、R2,R3またはR4と結合
してシクロペンタン環、シクロヘキサン環、シク
ロドデカン環などのごとき環を形成しているアル
キレン基またはフエニル基、トリチル基などのご
ときアリール基をさし、またR2,R3及びR4は水
素原子またはR1と同様のアルキル基、アルキレ
ン基、アリール基を意味し、さらにXはトリハイ
ドロカルビルシリル基を意味する。上記各置換基
のうちR1,R2,R3及びR4はそれぞれが任意の組
合せで環を形成していてもよい。 かかる化合物の具体的な例として、例えば1−
シクロヘキセニルトリメチルシリルエーテル、1
−シクロペンテニルトリメチルシリルエーテル、
2−メチル−1−シクロヘキセニルトリメチルシ
リルエーテル、6−メチル−1−シクロヘキセニ
ルトリメチルシリルエーテル、1−シクロドデセ
ニルトリメチルシリルエーテル、1−シクロヘキ
セニルトリエチルシリルエーテル、1−シクロヘ
キセニルトリプロピルシリルエーテル、2−ペン
テニル−1−シクロヘキセニルトリメチルシリル
エーテル、2−プロピル−1−シクロヘキセニル
トリメチルシリルエーテル、2−ペンチル−1−
シクロヘキセニルトリメチルシリルエーテル、2
−ペンチル−1−シクロペンテニルトリメチルシ
リルエーテル、2−ペンテニル−1−シクロペン
テニルトリメチルシリルエーテル、2−ペンチニ
ル−1−シクロペンテニルトリメチルシリルエー
テル、1−フエニル−1−プテニルトリシリルエ
ーテル、1−プロペニルトリメチルシリルエーテ
ル、1−ヘキセニルトリメチルシリルエーテル、
2−メチル−1−ブテニルトリメチルシリルエー
テル、3−メチル−1−ブテニルトリメチルシリ
ルエーテル、3−フエニル−1−プロペニルトリ
メチルシリルエーテルなどが例示される。 これらの化合物の合成は常法に従つて行えばよ
く、例えば1−シクロヘキセニルトリメチルシリ
ルエーテルを例にとると、シクロヘキサノンとト
リメチルシリルクロライドを塩基の存在下に反応
せしめる方法によつて容易に合成することができ
る。 第二の出発原料として用いられるアリル型炭酸
エステルは、少なくとも一つのアリル型残基を有
する炭酸エステルであり、通常下記一般式〔〕
で示される化合物である。 (式中、R5は炭化水素残基を表わし、R6,R7
R8及びR9は水素または炭化水素残基を表わす。) かかる化合物の具体例として、例えば、炭酸ジ
アリル、炭酸ジクロチル、炭酸ジメタアリル、炭
酸メチルアリル、炭酸エチルアリル、炭酸プロピ
ルアリル、炭酸プチルアリル、炭酸ペンチルアリ
ル、炭酸メチルクロチル、炭酸エチルメタアリル
などが例示される。なかでもR5が炭素数4以下
の低級アルキル基または低級アルケニル基である
アリルエステル、クロチルエステルまたはメタリ
ルエステルが賞用される。 本発明においては、反応に際して白金族金属化
合物とADPとから本質的に成る触媒が用いられ
る。白金族金属化合物はパラジウム、白金、ロジ
ウム、イリジウム、ルテニウムの塩または錯体で
あり、ADPと錯体を形成しうるものであればい
ずれでも使用できる。かかる化合物の具体例とし
て、例えばトリス(トリベンジリデンアセチルア
セトン)二パラジウム(0)、トリス(トリベン
ジリデンアセチルアセトン)三パラジウム(0)、
酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナー
ト、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、塩化パラ
ジウムなどが挙げられる。これらの化合物中、無
機強酸塩を用いる場合には酢酸カリウム、ナトリ
ウムアルコラート、第三級アミンなどの塩基を共
存させることが望ましい。また白金族金属のなか
ではパラジウムが反応性の面でとくに好ましく、
なかでも0価化合物または二価の有機化合物を用
いるのが好適である。 一方、ADPの具体的な例としては、例えばα、
β−エチレンジ(ジフエニル)ホスフイン、α、
β−エチレンジ(ジエチル)ホスフイン、α、β
−エチレンジ(ジブチル)ホスフイン、α、β−
エチレンジ(ブチルフエニル)ホスフイン、α、
γ−プロピレンジ(ジフエニル)ホスフイン、
α、δ−プチレンジ(ジフエニル)ホスフインな
どが例示され、なかでもα、β−エチレンジホス
フイン、とくにα、β−エチレンジ(ジフエニ
ル)ホスフインが賞用される。因みにα、β−エ
チレンジ(ジフエニル)ホスフインは下記のごと
き構造式で示される。 (式中、Phはフエニル基を表わす。) これら両成分の使用割合は適宜選択されるが、
通常は白金族金属化合物1モル当りADP0.5モル
以上、好ましくは0.7〜1.5モルであり、かかる両
成分からなる触媒は原料100モル当り白金族金属
化合物が通常0.01〜10モルとなるような割合で使
用される。これらの両成分は予め反応させておい
てもよいが、通常は反応系中で両成分を接触せし
めることにより触媒が調製される。 本発明の反応は二種の出発原料を触媒と接触せ
しめることにより容易に進行する。例えば、出発
原料として1−シクロヘキシルトリメチルシリル
エーテルと炭酸ジアリルを用いた場合の反応式を
示すと以下のとうりである。 原料の使用割合はアルケニルシリルエーテル1
モル当り、通常アリル型炭酸エステル0.8〜5モ
ル、好ましくは1〜2モルであり、反応温度は通
常50℃以上、好ましくは60〜150℃、反応時間は
通常10分〜10時間である。 また反応に際して、希釈剤を存在せしめること
が選択性向上の見地から好ましく、その具体例と
して、例えばアセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ベンゾニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
オキサンなどが例示される。これらの希釈剤は通
常出発原料の濃度が1〜50重量%となるような割
合で使用される。 反応終了後、反応液から常法に従つて目的物を
分離することによつて高純度のα、β−不飽和カ
ルボニル化合物、すなわちα、β−不飽和ケトン
またはα、β−不飽和アルデヒドが得られる。か
かる不飽和カルボニル化合物は種々の有用な化合
物の合成中間体、とくに香料、医薬などの中間体
として用いられる。 かくして本発明によれば、新規な反応を利用す
ることによつて、効率よくα、β−不飽和カルボ
ニル化合物を製造することができる。 以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。 実施例 1 容器中に1−シクロヘキセニルトリメチルシリ
ルエーテル
【式】1モルに対して炭 酸ジアリル2モル、アセトニトリル8モル、酢酸
パラジウム0.05モル及びα、β−エチレンジ(ジ
フエニル)ホスフイン0.05モルの割合で仕込み、
室温で速やかに撹拌したのち溶媒の沸点まで昇温
してアルゴン雰囲気下で還流下に1時間反応を行
つた。反応終了後、常法に従つて生成物を減圧蒸
留した結果、2−シクロヘキセン−1−オンが87
%の収率で得られる。なお、これらの化合物の同
定はIR,NMR及びマススペクトルを用いること
によつて行われた。 実施例 2〜6 出発原料として第1表に示すごとき化合物を用
いること以外は実施例1と同様にして反応を行つ
た。結果を第1表に示す。
【表】
【表】 実施例 9 触媒の使用量を1/5に減少させ、かつ反応時間
を5時間に延長すること以外は実施例1と同様に
して反応を行つたところ、2−シクロヘキセン−
1−オンの収率は60%であつた。 実施例 10 酢酸パラジウムに代えてパラジウムアセチルア
セトナートを用いること以外は実施例1に準じて
反応を行つたところ、実施例1とほぼ同等の結果
が得られた。 実施例 11 酢酸パラジウムに代えてトリス(ジベンジリデ
ンアセトン)二パラジウム(0)を用いること以
外は実施例2に準じて反応を行つたところ、実施
例2とほぼ同等の結果が得られた。 実施例 12 原料として1−シクロペンテニルトリメチルシ
リルエーテルを用いること及び溶剤をアセトニト
リルからベンゾニトリルに変えること以外は実施
例1に準じて反応を行つたところ、2−シクロペ
ンテン−1−オンが70%の収率で得られた。 実施例 13 α、β−エチレンジ(ジフエニル)ホスフイン
に代えてα、γ−プロピレンジ(ジフエニル)ホ
スフインを用いること以外は実施例1に準じて反
応を行つたところ、2−シクロヘキセン−1−オ
ンが70%の収率で得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕 (式中、R1,R2,R3及びR4は水素または炭化
    水素残基、Xはトリハイドロカルビルシリル基を
    表わし、R1,R2,R3及びR4は鎖状であつてもま
    たはそれぞれが任意の組合せで環を形成していて
    もよい)で表わされるアルケニルシリルエーテル
    とアリル型炭酸エステルを白金族金属化合物と
    α、ω−アルキレンジ(ジ置換)ホスフインとか
    ら本質的に成る触媒の存在下に接触せしめること
    を特徴とする一般式〔〕 (式中、R1,R2,R3及びR4は前記と同じ)で
    表わされるα、β−不飽和カルボニル化合物の製
    造方法。
JP58060581A 1983-04-06 1983-04-06 α、β−不飽和カルボニル化合物の製造方法 Granted JPS59186938A (ja)

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JP58060581A JPS59186938A (ja) 1983-04-06 1983-04-06 α、β−不飽和カルボニル化合物の製造方法

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JPS59186938A JPS59186938A (ja) 1984-10-23
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JP58060581A Granted JPS59186938A (ja) 1983-04-06 1983-04-06 α、β−不飽和カルボニル化合物の製造方法

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JPH0725716B2 (ja) * 1989-06-22 1995-03-22 日本ゼオン株式会社 α,β―不飽和カルボニル化合物の製造方法

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