JPS647055B2

JPS647055B2 -

Info

Publication number: JPS647055B2
Application number: JP62065483A
Authority: JP
Inventors: Tosha Uekado
Original assignee: Takeda Chemical Industries Ltd
Current assignee: Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1987-03-18
Filing date: 1987-03-18
Publication date: 1989-02-07
Also published as: JPS6366138A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は10−メチルドデシルアセテートの有用
な新規合成中間体に関する。10−メチルドデシル
アセテートは鱗翅目の害虫であるチヤノコカクモ
ンハマキの性フエロモンの一成分として知られて
おり、害虫防除のために有用な化合物である。10
−メチルドデシルアセテートの製造法については
すでに文献記載がある〔アグリカルチユラルア
ンドバイオロジカルケミストリ
（Agricultural and Biological Chemistry）43，
869（1979）．〕が、しかしこの方法は工程数が極め
て長く、手間がかかること及び収率低下等工業的
な製造法としては有利でない。

本発明者は、工程数が少なく、より簡単な操作
で収率よく製造する工業的に有利な方法を開発す
ることを目的として鋭意研究した結果、式〔〕〔（C₆H₅）₃P⁺−CH₂−（CH₂）₇−CH₂OR〕X^-
〔〕（式中、Ｒは水素原子または水酸基の保護基
を、Ｘはハロゲン原子を表わす）で示されるホス
ホニウム塩とメチルエチルケトンとを塩基の存在
下に反応させると、式〔〕（式中、Ｒは前記規定と同一）で示される新規
化合物が製造し得ること、そして得られた化合物
〔〕をアセチル化及び還元すると10−メチルド
デシルアセテートが得られることを見出し、これ
に基づいて本発明を完成した。

本発明について詳細に説明すると、出発物質の
式〔〕で示されるホスホニウム塩は公知化合物
であり、Ｒで表わされる水酸基の保護基として
は、たとえばテトラヒドロピラニル基、テトラヒ
ドロフラニル基などの飽和５，６員複数環基、１
−エトキシエチル基、１−メトキシエチル基など
の低級アルコキシ置換低級アルキル基、アセチル
基などが用いられる。Ｘで表わされるハロゲン原
子としては塩素原子、臭素原子、沃素原子が用い
られる。上記式〔〕で示されるホスホニウム塩
とメチルエチルケトンとを塩基の存在下に反応さ
せて式〔〕の化合物を製造する。使用される塩
基としては、たとえばメチルリチウム、ｎ−ブチ
ルリチウムなどのアルキルリチウム類、たとえば
カリウムターシヤリーブトキシド、ナトリウムイ
ソプロポキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド
類、たとえばナトリウムジイソプロピルアミド、
ナトリウムビストリメチルシリルアミド、ナトリ
ウムアミドなどのアルカリ金属アミド類などのよ
うな強塩基類が通常使用される。反応を実施する
に際しては適当な非プロトン性溶媒中で行なうの
がよく、これら溶媒としてはたとえば、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、グライム、ジグライ
ム、ジオキサンなどのエーテル類、たとえばｎ−
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
炭化水素類、たとえばジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミドなどのアミド類、たとえばピ
リジン、キノリン、トリエチルアミンなどのアミ
ン類、ジメチルスルホキシド、スルホランまたは
これらの混合溶媒などが用いられる。式〔〕の
化合物に対する塩基およびメチルエチルケトンの
使用割合は任意に選択出来るが、通常、塩基は１
〜３倍モル、メチルエチルケトンは１〜２倍モル
程度使用するのがよい。反応は式〔〕の化合物
の溶液または懸濁液に対して塩基およびメチルエ
チルケトンを加えることにより行なわれるが、塩
基とメチルエチルケトンの加える順序はどちらが
先でもよく、また同時でもかまわない。また、反
応は所望により加温下あるいは冷却下に行なつて
よいが、−10〜50℃程度で行なうのが便利である。
なお、出発物質〔〕においてＲがアセチル基で
あるものは、塩基の存在下脱アセチル化されるの
で、メチルエチルケトンと塩基の存在下に反応さ
せると得られる化合物〔〕の中にＲが水素原子
であるものが混在する。

このようにして製造される式〔〕の化合物
は、Ｒが水素原子であるかまたはアセチル基以外
の水酸基の保護基であるところの単一物か、ある
いはＲが水素原子であるものとＲがアセチル基で
あるものとの混合物であつて、アセチル化及び還
元すると10−メチルドデシルアセテートが得られ
る。アセチル化と還元とはどちらが先に行なわれ
てもよい。化合物〔〕が上記のごとき混合物の
場合、このアセチル化によりＲが水素原子である
ものがアセチル化されて単一の化合物となる。具
体的には、化合物〔〕をアセチル化して得られ
る10−メチル−９−ドデセニルアセテートを還元
する、あるいは化合物〔〕を還元して得られる
式（式中、Ｒは前記規定と同一）で示される化合
物をアセチル化すると単一の目的物である10−メ
チルドデシルアセテートを得る。アセチル化剤と
しては、通常アルコールのアセチル化に用いられ
る試薬ならばどれでもよいが、たとえば無水酢
酸、アセチルクロリド、酢酸と他カルボン酸との
混酸無水物などが用いられる。アセチル化反応に
際しては無溶媒で実施することも出来るが、適当
な有機溶媒中で行なう方が反応を制御しやすく好
ましい。溶媒としてはたとえば、ジエチルエーテ
ル、ジクロルメタン、クロロホルム、ｎ−ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、酢酸、ピリジン、トリ
エチルアミン、ジメチルホルムアミド、アセト
ン、メチルエチルケトンまたはこれらの混合溶媒
が用いられる。また、反応に際して適当な脱酸剤
としてたとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機
塩基、たとえばジメチルアニリン、キノリン、ピ
コリン、コリジンなどの有機塩基を共存させても
よい。反応は通常式〔〕または〔〕の化合物
に対し、アセチル化剤を過剰に用い、必要に応じ
て冷却または加温下に行なつてよいが、−10〜40
℃の温度で行なうのが好ましい。通常0.5〜12時
間程度でアセチル化は完了する。還元反応は、目
的が達成される限りどのような還元手段で行なつ
てもよく、たとえばパラジウム炭素、ラネーニツ
ケル、酸化白金などを触媒として使用して接触還
元を行なうのが最も便利である。これらの触媒を
用いれば常温、常圧で還元反応は充分進行し、化
合物〔〕または10−メチル−９−ドデセニルア
セテート１モル当り、１モルの水素が吸収されて
反応は終る。また、反応は適当な溶媒中で行なわ
れ、具体的にはたとえば、石油エーテル、ｎ−ヘ
キサン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、たと
えばメタノール、エタノール、イソプロピルアル
コールなどのアルコール類が用いられる。

以上述べたいずれの反応においても反応終了
後、たとえば冷却、濾過、濃縮、溶媒抽出、クロ
マトグラフイー、蒸留など適宜それ自体公知の手
段により精製されてよい。

なお、上記の式〔〕で式される化合物および
10−メチル−９−ドデセニルアセテートはいずれ
も文献未記載の新規化合物である。

実施例１テトラヒドロフラン80mlとジメチルスルホキシ
ド20mlの混合溶媒にω−ヒドロキシノニルトリフ
エニルホスホニウムブロマイド25ｇを加え、−２
℃に冷却し、かきまぜつつカリウムターシヤリー
ブトキシド11.2ｇを少しづつ加えた。さらに混合
物を５分間かきまぜた後、これに−５〜０℃でメ
チルエチルケトン3.6ｇを滴下した。

反応液を10℃で15分間、20℃で1.5時間かきま
ぜて後、氷水中にあけ、ジクロルメタンで抽出し
た。ジクロルメタン層をとり、水洗、乾燥の後濃
縮した。残留物にｎ−ヘキサンを加え、よくかき
まぜて抽出、濾過し濾液を濃縮すると油状物が得
られた。この油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフイーで精製（ジクロルメタン−エーテル、
４：１で溶出）した後、減圧蒸留すると10−メチ
ル−９−ドデセン−１−オール6.05ｇが沸点148
〜152℃／18mmＨｇの無色液体として得られた。

IR（ニート）cm^-1：3330（OH）、1660（Ｃ＝Ｃ）。

実施例２実施例１で得られた10−メチル−９−ドデセン
−１−オール3.8ｇに無水酢酸３mlとピリジン３
mlを加え、一夜室温に放置した。反応液を濃縮し
て後、残留物に水を加えてしばらくかきまぜ、つ
いでｎ−ヘキサンで抽出した。ｎ−ヘキサン層を
重曹水、希塩酸、水で順次洗浄した後乾燥し、濃
縮して得られる油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーで精製（ジクロルメタンで溶出）し
た後減圧蒸留すると10−メチル−９−ドデセニル
アセテート4.15ｇが沸点164〜165℃／18mmＨｇの
無色液体として得られた。

IR（ニート）cm^-1：1745（Ｃ＝Ｏ、エステル）。

参考例１ 10−メチル−９−ドデセニルアセテート2.4ｇ
をｎ−ヘキサン50mlに溶解し、これに10％パラジ
ウム炭素0.8ｇを加え、水素ガス雰囲気下に振り
まぜて水素添加した。水素ガスの吸収が停止した
ところで反応物を濾過し、濾液を濃縮し、無色油
状物が得られた。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーで精製（ジクロルメタンで溶出）し
て後減圧蒸留すると10−メチル−ドデシルアセテ
ート2.35ｇが沸点157.5〜159℃／16mmＨｇの無色
液体として得られた。

IR（ニート）cm^-1：1743（Ｃ＝Ｏ、エステル）。

NMR（CCl₄中）δ：0.6〜1.0（6H，ｍ），1.0〜
1.8（19H，ｍ），1.95（3H，Ｓ），3.97（2H，ｔ）。

実施例３ジクロルメタン200mlにω−ヒドロキシノニル
トリフエニルホスホニウムブロマイド84ｇ，３，
４−ジヒドロピラン33mlおよびパラトルエンスル
ホン酸0.1ｇを加えて２時間加熱還流させた。反
応液にトルエン30mlを加えて濃縮し、溶媒を充分
に除去して水酸基がテトラヒドロピラニル基で保
護されたホスホニウム塩を粘稠な油状物として得
た。ついでこれをジメチルスルホキシド300mlに
溶解した後、かきまぜつつ14〜20℃でカリウムタ
ーシヤリーブトキシドを加えた。つづいて15〜16
℃で５分間かきまぜた後、15〜25℃でメチルエチ
ルケトンを滴下した。さらに24℃で25分間かきま
ぜた後反応物を氷水中にあけ、ジクロルメタンで
抽出した。ジクロルメタン層を水洗、乾燥、濃縮
し、得られた残渣にｎ−ヘキサンを加えてよくか
きまぜ抽出した。濾過してｎ−ヘキサン抽出液を
得、濃縮すると淡黄色油状物が得られた。これを
シリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製（ジ
クロルメタンで溶出）した後減圧蒸留すると１−
（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−10−メチル
−９−ドデセン32.1ｇが沸点132〜135℃／0.09mm
Ｈｇの無色液体として得られた。

IR（ニート）cm^-1：1120，1135（Ｃ−Ｏ−Ｃ）。

参考例２氷酢酸15mlにアセチルクロライド1.5mlを加え、
ついでこれに実施例３で得られた１−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシ）−10−メチル−９−ド
デセン2.8ｇを加えて室温で４時間かきまぜた。
ついで反応物を氷水中にあけ、ｎ−ヘキサンで抽
出した。抽出液を水、重曹水、食塩水で順次洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して油
状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー（ジクロルメタンで溶出）で精製した後
減圧蒸留すると10−メチル−９−ドデセニルアセ
テート1.8ｇが沸点164〜165℃／17mmＨｇの無色
液体として得られた。

参考例２ 10−メチル−９−ドデセニルアセテート0.5ｇ
をｎ−ヘキサン中10％パラジウム炭素を用いて参
考例１と同様にして水素添加し、処理して10−メ
チルドデシルアセテート0.5ｇを得た。

参考例３ (a) 10−メチル−９−ドデセン−１−オール３ｇ
をｎ−ヘキサン50mlに溶解し、これに10％パラ
ジウム炭素１ｇを加え、水素ガス雰囲気下に振
りまぜて水素添加した。水素ガスの吸収が停止
したところで反応物を濾過し、濾液を濃縮する
と、10−メチルドデシルアルコール３ｇが無色
油状物として得られた。

IR（ニート）cm^-1：3310（OH），2950，2910，
2850，1460，1375，1050。

(b) 10−メチルドデシルアルコール３ｇに無水酢
酸2.5mlとピリジン2.5mlを加え、35〜40℃で１
時間かきまぜた。反応物を濃縮後、残留物をｎ
−ヘキサンに溶解し、重曹水、希塩酸、水で順
次洗浄した。ｎ−ヘキサン層を乾燥、濃縮して
得られる油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー（ジクロルメタンで溶出）で精製した
後減圧蒸留すると10−メチルドデシルアセテー
ト3.2ｇが沸点158〜159℃／16mmＨｇの無色液
体として得られた。

Claims

【特許請求の範囲】１式（式中、Ｒは水素原子または還元反応より水酸
基を保護するための保護基を表わす）で示される
化合物。２式〔（C₆H₅）₃P⁺−CH₂−（CH₂）₇−CH₂OR〕X^- （式中、Ｒは水素原子または水酸基の保護基
を、Ｘはハロゲン原子を表わす）で示されるホス
ホニウム塩とメチルエチルケトンとを塩基の存在
下に反応させることを特徴とする、式（式中、Ｒは前記規定と同一）で示される化合
物の製造法。