JPS647069B2 - - Google Patents
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- JPS647069B2 JPS647069B2 JP11275881A JP11275881A JPS647069B2 JP S647069 B2 JPS647069 B2 JP S647069B2 JP 11275881 A JP11275881 A JP 11275881A JP 11275881 A JP11275881 A JP 11275881A JP S647069 B2 JPS647069 B2 JP S647069B2
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は電子工業における素材としてその有用
な用途が期待される4′−シアノフエニル4−(4
−置換ベンゾイロキシ)ベンゾエートの製法に関
する。 上記化合物の製造法に関して、従来殆んど報告
がなされておらず、本発明者は4−シアノフエノ
ール、4−ヒドロキシ安息香酸及び4−アルキル
(又はアルコキシ)安息香酸を出発原料として該
化合物の製造法について研究を行つた結果、 (1) 4−シアノフエノールと4−アセトキシベン
ゾイルクロリドを反応させて4′−シアノフエニ
ル4−アセトキシベンゾエートを得、 (2) 次に4′−シアノフエニル4−アセトキシベン
ゾエートを加アルコール分解して4′−シアノフ
エニル4−ヒドロキシベンゾエートを得、 (3) 更に4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベン
ゾエートと4−アルキル(又はアリール)ベン
ゾイルクロリド又は4−アルコキシ(又はアリ
ールオキシ)ベンゾイルクロリドを反応させる
場合一般式
な用途が期待される4′−シアノフエニル4−(4
−置換ベンゾイロキシ)ベンゾエートの製法に関
する。 上記化合物の製造法に関して、従来殆んど報告
がなされておらず、本発明者は4−シアノフエノ
ール、4−ヒドロキシ安息香酸及び4−アルキル
(又はアルコキシ)安息香酸を出発原料として該
化合物の製造法について研究を行つた結果、 (1) 4−シアノフエノールと4−アセトキシベン
ゾイルクロリドを反応させて4′−シアノフエニ
ル4−アセトキシベンゾエートを得、 (2) 次に4′−シアノフエニル4−アセトキシベン
ゾエートを加アルコール分解して4′−シアノフ
エニル4−ヒドロキシベンゾエートを得、 (3) 更に4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベン
ゾエートと4−アルキル(又はアリール)ベン
ゾイルクロリド又は4−アルコキシ(又はアリ
ールオキシ)ベンゾイルクロリドを反応させる
場合一般式
【式】〔ここ
でRは炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキ
シ基又はアリール基又はアリールオキシ基〕で
示される4′−シアノフエニル4−(4−置換ベ
ンゾイロキシ)ベンゾエートが収率良く製造出
来ることを見出し本発明を完成するに至つた。 本発明においては出発原料を上記の如く特定化
すると共に、その反応工程の組合せに特徴があ
る。即ち、まず4−アルキル(又はアルコキシ又
はアリール又はアリールオキシ)安息香酸と4−
ヒドロキシ安息香酸を反応させ、次いで4−シア
ノフエノールを反応させても、目的物が得られる
が、未反応原料と生成物との分離、精製が困難で
実用的な収率は得難く、本発明の原料及び工程の
組合せが必要である。 以下、各工程について具体的に説明する。 (1) 4−シアノフエノールと4−アセトキシベン
ゾイルクロリドを反応させて、4′−シアノフエ
ニル4−アセトキシベンゾエートを製造する。 4−アセトキシベンゾイルクロリドは4−ヒ
ドロキシ安息香酸
シ基又はアリール基又はアリールオキシ基〕で
示される4′−シアノフエニル4−(4−置換ベ
ンゾイロキシ)ベンゾエートが収率良く製造出
来ることを見出し本発明を完成するに至つた。 本発明においては出発原料を上記の如く特定化
すると共に、その反応工程の組合せに特徴があ
る。即ち、まず4−アルキル(又はアルコキシ又
はアリール又はアリールオキシ)安息香酸と4−
ヒドロキシ安息香酸を反応させ、次いで4−シア
ノフエノールを反応させても、目的物が得られる
が、未反応原料と生成物との分離、精製が困難で
実用的な収率は得難く、本発明の原料及び工程の
組合せが必要である。 以下、各工程について具体的に説明する。 (1) 4−シアノフエノールと4−アセトキシベン
ゾイルクロリドを反応させて、4′−シアノフエ
ニル4−アセトキシベンゾエートを製造する。 4−アセトキシベンゾイルクロリドは4−ヒ
ドロキシ安息香酸
【式】
の水酸基をアセチル化し、しかもカルボン酸ク
ロリドの形に転換したものであるが、本工程に
おいてはかかる処理が重要な意味を有する。4
−アセトキシ置換により予め水酸基を保護して
おかないと酸クロリド化の際に樹脂化がおこり
目的物の収率低下の原因となる。しかも4−ア
セトキシ置換の場合は(2)工程の加アルコール分
解時に、4′−シアノフエニル4−アセトキシベ
ンゾエート の安息香酸エステル結合を分解することなく選
択的にアセトキシ基のみを水酸基に変化させる
ことが出来るという特異な挙動も示すのであ
る。 更にカルボン酸クロリドの形で反応させるこ
とも必要であり、遊離酸の場合では反応性が低
い。 4−シアノフエノールと4−アセトキシベン
ゾイルクロリドの反応に際して、溶媒としては
ピリジン、エーテル、ベンゼン、トルエン等が
用いられる。 反応温度は室温で充分であり、必要があれば
勿論加熱しても良い。反応時間は数時間程度必
要である。 4−シアノフエノール/4−アセトキシベン
ゾイルクロリドはモル比にて0.7〜1.3/1の範
囲から選ばれる。 反応終了後は得られる4′−シアノフエニル4
−アセトキシベンゾエートを酢酸エチル、エー
テル等の適当な溶媒で抽出し、更にこれをアル
カリ水溶液で洗浄することにより未反応の原料
を水層部へ抽出して除去する。 有機層より溶媒を留去して4′−シアノフエニ
ル4−アセトキシベンゾエートの結晶を得る。 (2) 4′−シアノフエニル4−アセトキシベンゾエ
ートを加アルコール分解して4′−シアノフエニ
ル4−ヒドロキシアセトキシベンゾエートを製
造する。 本工程は(3)工程を実施するために4位のアセ
トキシ基を加アルコール分解して水酸基に代え
る操作である。前記した様にアセトキシ基で保
護された水酸基はベンゾエートのエステル結合
を分解することなく容易に水酸基に転換され得
る。 加アルコール分解は原料をメタノール、エタ
ノール等のアルコールに溶解し酸触媒を用いて
行われる。酸としては塩酸、硫酸、P−トルエ
ンスルホン酸、強酸型イオン交換樹脂例えばナ
フイオン等が好適である。 酸は原料に対して0.01〜0.5モル好ましくは
0.05〜0.1モルの割合で用いられる。分解温度
は還流下が有利である。 加アルコール分解終了後、アルコールを留去
して4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾ
エートの結晶が得られる。必要であれば酸を除
くために適当な溶媒に溶解し水洗、更には再結
晶等の精製が行われる。 (3) 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエ
ートと4−アルキル(又はアルコキシ又はアリ
ール又はアリールオキシ)ベンゾイルクロリド
と反応させて4′−シアノフエニル4−(4−置
換ベンゾイロキシ)ベンゾエートを製造する。 4−アルキル(又はアルコキシ又はアリール
又はアリールオキシ)ベンゾイルクロリドは4
−アルキル(又はアルコキシ又はアリール又は
アリールオキシ)安息香酸
ロリドの形に転換したものであるが、本工程に
おいてはかかる処理が重要な意味を有する。4
−アセトキシ置換により予め水酸基を保護して
おかないと酸クロリド化の際に樹脂化がおこり
目的物の収率低下の原因となる。しかも4−ア
セトキシ置換の場合は(2)工程の加アルコール分
解時に、4′−シアノフエニル4−アセトキシベ
ンゾエート の安息香酸エステル結合を分解することなく選
択的にアセトキシ基のみを水酸基に変化させる
ことが出来るという特異な挙動も示すのであ
る。 更にカルボン酸クロリドの形で反応させるこ
とも必要であり、遊離酸の場合では反応性が低
い。 4−シアノフエノールと4−アセトキシベン
ゾイルクロリドの反応に際して、溶媒としては
ピリジン、エーテル、ベンゼン、トルエン等が
用いられる。 反応温度は室温で充分であり、必要があれば
勿論加熱しても良い。反応時間は数時間程度必
要である。 4−シアノフエノール/4−アセトキシベン
ゾイルクロリドはモル比にて0.7〜1.3/1の範
囲から選ばれる。 反応終了後は得られる4′−シアノフエニル4
−アセトキシベンゾエートを酢酸エチル、エー
テル等の適当な溶媒で抽出し、更にこれをアル
カリ水溶液で洗浄することにより未反応の原料
を水層部へ抽出して除去する。 有機層より溶媒を留去して4′−シアノフエニ
ル4−アセトキシベンゾエートの結晶を得る。 (2) 4′−シアノフエニル4−アセトキシベンゾエ
ートを加アルコール分解して4′−シアノフエニ
ル4−ヒドロキシアセトキシベンゾエートを製
造する。 本工程は(3)工程を実施するために4位のアセ
トキシ基を加アルコール分解して水酸基に代え
る操作である。前記した様にアセトキシ基で保
護された水酸基はベンゾエートのエステル結合
を分解することなく容易に水酸基に転換され得
る。 加アルコール分解は原料をメタノール、エタ
ノール等のアルコールに溶解し酸触媒を用いて
行われる。酸としては塩酸、硫酸、P−トルエ
ンスルホン酸、強酸型イオン交換樹脂例えばナ
フイオン等が好適である。 酸は原料に対して0.01〜0.5モル好ましくは
0.05〜0.1モルの割合で用いられる。分解温度
は還流下が有利である。 加アルコール分解終了後、アルコールを留去
して4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾ
エートの結晶が得られる。必要であれば酸を除
くために適当な溶媒に溶解し水洗、更には再結
晶等の精製が行われる。 (3) 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエ
ートと4−アルキル(又はアルコキシ又はアリ
ール又はアリールオキシ)ベンゾイルクロリド
と反応させて4′−シアノフエニル4−(4−置
換ベンゾイロキシ)ベンゾエートを製造する。 4−アルキル(又はアルコキシ又はアリール
又はアリールオキシ)ベンゾイルクロリドは4
−アルキル(又はアルコキシ又はアリール又は
アリールオキシ)安息香酸
【式】を酸クロリド形に転
換させたものであり、かかる操作によつて4′−
シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエートと
の反応が容易に進行する。 アルキル基又はアルコキシ基又はアリール基
又はアリールオキシ基の炭素数は1〜10が適当
であり、特にn−ブチル基やn−ヘキシロキシ
基、フエニル基、フエニルオキシ基が有用であ
る。 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエ
ートと4−アルキル(又はアルコキシ又はアリ
ール又はアリールオキシ)ベンゾイルクロリド
の反応に際して、溶媒としてはピリジン、エー
テル、ベンゼン、トルエン等が用いられる。 反応温度は室温で充分であるが、必要があれ
ば加熱しても良い。反応時間は数時間程度必要
である。 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエ
ート/4−アルキル(又はアルコキシ又はアリ
ール又はアリールオキシ)ベンゾルクロリドは
モル比にて0.7〜1.3/1の範囲から選ばれる。 反応終了後は得られる4′−シアノフエニル4
−(4−置換ベンゾイロキシ)ベンゾエートを
酢酸エチル、エーテル等の適当な溶媒で抽出
し、更にこれをアルカリ水溶液で洗浄すること
により未反応の原料を水層部へ抽出して除去す
る。 有機層より溶媒を留去して4′−シアノフエニ
ル4−(4−置換ベンゾイロキシ)ベンゾエー
トの結晶を得る。 次に実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく説
明する。 実施例 1 4−シアノフエノール10gをピリジン15mgに溶
かしこれにエーテル50mlを加えた。これに4−ア
セトキシベンゾイルクロリド20gとエーテル50ml
との混合物を室温下に滴下し、2.5時間反応を行
つた。反応終了後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エ
チル1000mlに溶解した。酢酸エチル層を6%塩酸
水250ml、5%水酸化ナトリウム水溶液250mlづつ
で3回、更に水で洗つたのち、酢酸エチルを留去
すると、4′−シアノフエニル4−アセトキシベン
ゾエートの結晶21.6gが得られた。 次に、該4′−シアノフエニル4−アセトキシベ
ンゾエート20g、メタノール300ml、濃塩酸0.5ml
を混合し、4.5時間、還流下に加アルコール分解
を行つた。反応終了後、メタノールを留去すると
4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエート
の結晶が得られた。該結晶を酢酸エチルに溶解し
水洗後、酢酸エチルを留去して16.4gの精4′−シ
アノフエニル4−ヒドロキシベンゾエートの結晶
が得られた。 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエー
ト10.8gをピリジン75mlに溶解し、これに4−n
−ヘキシロキシベンゾイルクロリド13.0gとエー
テル70mlとの混合物を室温下に滴下し、5時間反
応を行つた。反応終了後、溶媒を留去し残渣を酢
酸エチル1300mlに溶解し、これを6%塩酸水溶液
500ml、5%水酸化ナトリウム水溶液300mlづつで
3回、更に水で洗浄した後、酢酸エチルを留去す
ると4′−シアノフエニル4−(4−n−ヘキシロ
キシベンゾイロキシ)ベンゾエート19.0gが得ら
れた。 該結晶の融点は133℃であつた。 実施例 2 実施例1において4−n−ヘキシロキシベンゾ
イルクロリドの代わりに4−n−ブチルベンゾイ
ルクロリド10gを用いて同様の実験を行つた。 4′−シアノフエニル4−(4−n−ブチルベン
ゾイロキシ)ベンゾエート17.0gを得た。 該結晶の融点は126℃であつた。
シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエートと
の反応が容易に進行する。 アルキル基又はアルコキシ基又はアリール基
又はアリールオキシ基の炭素数は1〜10が適当
であり、特にn−ブチル基やn−ヘキシロキシ
基、フエニル基、フエニルオキシ基が有用であ
る。 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエ
ートと4−アルキル(又はアルコキシ又はアリ
ール又はアリールオキシ)ベンゾイルクロリド
の反応に際して、溶媒としてはピリジン、エー
テル、ベンゼン、トルエン等が用いられる。 反応温度は室温で充分であるが、必要があれ
ば加熱しても良い。反応時間は数時間程度必要
である。 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエ
ート/4−アルキル(又はアルコキシ又はアリ
ール又はアリールオキシ)ベンゾルクロリドは
モル比にて0.7〜1.3/1の範囲から選ばれる。 反応終了後は得られる4′−シアノフエニル4
−(4−置換ベンゾイロキシ)ベンゾエートを
酢酸エチル、エーテル等の適当な溶媒で抽出
し、更にこれをアルカリ水溶液で洗浄すること
により未反応の原料を水層部へ抽出して除去す
る。 有機層より溶媒を留去して4′−シアノフエニ
ル4−(4−置換ベンゾイロキシ)ベンゾエー
トの結晶を得る。 次に実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく説
明する。 実施例 1 4−シアノフエノール10gをピリジン15mgに溶
かしこれにエーテル50mlを加えた。これに4−ア
セトキシベンゾイルクロリド20gとエーテル50ml
との混合物を室温下に滴下し、2.5時間反応を行
つた。反応終了後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エ
チル1000mlに溶解した。酢酸エチル層を6%塩酸
水250ml、5%水酸化ナトリウム水溶液250mlづつ
で3回、更に水で洗つたのち、酢酸エチルを留去
すると、4′−シアノフエニル4−アセトキシベン
ゾエートの結晶21.6gが得られた。 次に、該4′−シアノフエニル4−アセトキシベ
ンゾエート20g、メタノール300ml、濃塩酸0.5ml
を混合し、4.5時間、還流下に加アルコール分解
を行つた。反応終了後、メタノールを留去すると
4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエート
の結晶が得られた。該結晶を酢酸エチルに溶解し
水洗後、酢酸エチルを留去して16.4gの精4′−シ
アノフエニル4−ヒドロキシベンゾエートの結晶
が得られた。 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエー
ト10.8gをピリジン75mlに溶解し、これに4−n
−ヘキシロキシベンゾイルクロリド13.0gとエー
テル70mlとの混合物を室温下に滴下し、5時間反
応を行つた。反応終了後、溶媒を留去し残渣を酢
酸エチル1300mlに溶解し、これを6%塩酸水溶液
500ml、5%水酸化ナトリウム水溶液300mlづつで
3回、更に水で洗浄した後、酢酸エチルを留去す
ると4′−シアノフエニル4−(4−n−ヘキシロ
キシベンゾイロキシ)ベンゾエート19.0gが得ら
れた。 該結晶の融点は133℃であつた。 実施例 2 実施例1において4−n−ヘキシロキシベンゾ
イルクロリドの代わりに4−n−ブチルベンゾイ
ルクロリド10gを用いて同様の実験を行つた。 4′−シアノフエニル4−(4−n−ブチルベン
ゾイロキシ)ベンゾエート17.0gを得た。 該結晶の融点は126℃であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (1) 4−シアノフエノールと4−アセトキシ
ベンゾイルクロリドを反応させて4′−シアノフ
エニル4−アセトキシベンゾエートを得る工
程、 (2) 4′−シアノフエニル4−アセトキシベンゾエ
ートを加アルコール分解して4′−シアノフエニ
ル4−ヒドロキシベンゾエートを得る工程、 (3) 4′−シアノフエニル4−ヒドロキシベンゾエ
ートと4−アルキル(又はアリール)ベンゾイ
ルクロリド又は4−アルコキシ(又はアリール
オキシ)ベンゾイルクロリドを反応させて一般
式【式】〔こ こでRは炭素数1〜10のアルキル基又はアルコ
キシ基又はアリール基又はアリールオキシ基〕
で示される4′−シアノフエニル4−(4−置換
ベンゾイロキシ)ベンゾエートを得る工程、 を順次結合してなるベンゾエートの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11275881A JPS5813560A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | ベンゾエ−トの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11275881A JPS5813560A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | ベンゾエ−トの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5813560A JPS5813560A (ja) | 1983-01-26 |
| JPS647069B2 true JPS647069B2 (ja) | 1989-02-07 |
Family
ID=14594796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11275881A Granted JPS5813560A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | ベンゾエ−トの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5813560A (ja) |
-
1981
- 1981-07-17 JP JP11275881A patent/JPS5813560A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5813560A (ja) | 1983-01-26 |
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