JPH01123856U - - Google Patents

Info

Publication number
JPH01123856U
JPH01123856U JP1672588U JP1672588U JPH01123856U JP H01123856 U JPH01123856 U JP H01123856U JP 1672588 U JP1672588 U JP 1672588U JP 1672588 U JP1672588 U JP 1672588U JP H01123856 U JPH01123856 U JP H01123856U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
recess
chamber
filling
airtight chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1672588U
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1672588U priority Critical patent/JPH01123856U/ja
Publication of JPH01123856U publication Critical patent/JPH01123856U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例の構成を示す構成図
、第2図は本考案の他の実施例の構成を示す構成
図、第3図は従来例の構成を示す構成図である。 主要部分の符号の説明、10……チエンバ、1
1,20……位置合せステージ、13a〜13c
……Oリング、14,21……開閉扉、15,2
3……排気口、16,22……充填口、17……
ガス供給系、18……ガス処理系、19……フオ
トマスク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. チエンバ内に載置されたフオトマスク上にレー
    ザ光を照射して前記フオトマスクの欠陥を修正す
    るフオトマスク修正装置であつて、前記フオトマ
    スクを載置するための凹部を有し、前記フオトマ
    スクの欠陥位置を前記レーザ光の照射位置に合わ
    せる位置合せ機構と、前記チエンバと前記位置合
    せ機構の凹部とにより形成される気密室の内部の
    排気を行う排気手段と、前記排気手段により排気
    された前記気密室の内部に不活性ガスを充填する
    充填手段とを設け、前記充填手段により不活性ガ
    スが充填された前記気密室において前記位置合せ
    機構の凹部への前記フオトマスクの装脱着を行う
    ようにしたことを特徴とするフオトマスク修正装
    置。
JP1672588U 1988-02-10 1988-02-10 Pending JPH01123856U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1672588U JPH01123856U (ja) 1988-02-10 1988-02-10

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1672588U JPH01123856U (ja) 1988-02-10 1988-02-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01123856U true JPH01123856U (ja) 1989-08-23

Family

ID=31229901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1672588U Pending JPH01123856U (ja) 1988-02-10 1988-02-10

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01123856U (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0548358Y2 (ja)
JPS6376880A (ja) 薄膜形成装置
JPS57156888A (en) Shielding device for laser welding
JPS5676152A (en) Scanning electron microscope
JPH01204448A (ja) 配線形成方法
JP2629454B2 (ja) 気密製品の製造方法
JPS5676151A (en) Scanning electron microscope
JPS6244742A (ja) 修正方法および装置
JPS6360473U (ja)
JPH01156538U (ja)
JPS627691B2 (ja)
JPS59188123A (ja) X線露光装置
JPS63180923U (ja)
JPH022999A (ja) X線露光装置
JPH0426206B2 (ja)
JPH01297827A (ja) 半導体基板の酸化方法及びその装置
JPH0214872Y2 (ja)
JPH0211159U (ja)
JPS59145563U (ja) 成膜装置
JPS6281100U (ja)
JPH0314165U (ja)
JPS6296840U (ja)
JPS6049896B2 (ja) フォトマスクパタ−ンの修正装置
JPH01137060U (ja)
JPS6367237U (ja)