JPH01136147A - レジスト現像剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はプリント基板や半導体の製造時にレジストを現
像するために用いるレジスト現像剤に関するものである
。

［従来の技術］ プリント基板や半導体回路を作成する場合レジスト塗布
、露光に続いてレジストを現像し。

次いで、エツチングする工程があるが、このレジストを
現像するために、従来１，１，１，−トリクロロエタン
等の塩素系レジスト現像剤が使われている。

［発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていた塩素系レジスト現像剤は地
下水汚染の点から好ましくないため、その使用量を抑え
るべく塩素系レジスト現像剤にかわる新規のレジスト現
像剤を提供することを目的とするものである。

Ｅ問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
Ｉ、　Ｉ、　２−　トリクロロ−２，２−ジフルオロエ
タン（以下Ｒ１２２という）又はテトラクロロ−１，２
−ジフルオロエタン（以下Ｒ１１２という）の１種と１
，２−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｒ１４１と
いう）との共沸組成物を有効成分とじて含有するレジス
ト現像剤を提供するものである。

本発明のレジスト現像剤の有効成分であるＲ１２２／Ｒ
１４１−約６６／３４の共沸組成物又はＲ１１２／Ｒ１
４１・約１７７８３の共沸組成物（共沸割合は重量％）
は、良好な現像ができる優れた溶剤である。これら２種
の共沸組成物はそれぞれ単独で又はこれらの混合物とし
て用いることができる。

本発明のレジスト現像剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、さら
に良好に現像するために、炭化水素類、アルコール類、
ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有機溶
剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることができ
る。これらの有機溶剤のレジスト現像剤中の含有割合は
、０〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、さら
に好ましくは２０〜３０重量％である。

本発明の共沸組成物と有機溶剤との混合物に共沸組成が
存在する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンタン、３−メチル−３−エヂルベンタン、２
、３．３−　トリメチルペンタン、　２．３．４−）ジ
メチルペンタン、２．２．３−　トリメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、２．２．５−１−ジメチルヘキ
サン、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテ
ン、！−ヘキセン、ｌ−オクテン、１−ノネン、ｌ−デ
セン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン。

エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、シクロヘキ
セン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、テトラリン
、アミジノ、アミルナフタレン等から選ばれるものであ
る。より好ましくは、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ
−へブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−１−ブタノール、！−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール、２
−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、ｌ−
ノナノール、３．５．５−トリメチル−１−ヘキサノー
ル、１−デカノール、ｌ−ウンデカノール、１−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチル
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、ａ−テルピネオール、アビニチノール、２．
６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。

ケトン類としては、Ｒ−ＧＯ−Ｒ’　、　Ｒ−ＣＯ，Ｒ
−ＣＯ−Ｒ’　−ｒ−Ｓｌ：１ｌａ１ ＣＯ−Ｒ”、Ｒ−ＣＯ−Ｒ’、　Ｒ−ＣＯ−Ｒ’　（こ
こで、Ｒ，Ｒ’　、　Ｒ“は炭素数１〜９の飽和又は不
飽和炭化水素基）のいずれかの一般式で示されるものが
好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタ
ノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−〇−
ブチルケトン、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、
４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセ
トン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−ｎ−アミル
ケトン、エヂルブチルケトン、メチルへキシルケトン、
シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロ
ン、２．４−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、
アセトフェノン、フェンチョン等から選ばれるものであ
る。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等で
ある。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、Ｉ、　１，１　トリクロルエタン、１，１，２
−１−ジクロルエタン、ｌ、　ｌ、　１，２−テトラク
ロルエタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペ
ンタクロルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１，２
−ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロ
ルエチレン等から選ばれるものである。より好ましくは
塩化メチレン、１、１，ｌ−トリクロルエタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。

エステル類としては、次の一般式で示される■ ものが好ましく、Ｒ＋−ＣＯＯ−Ｒａ、　Ｒ＋−Ｃ−Ｒ
ｓ−ＣＯＯ−Ｒ４゜置 ＯＲ。

００口Ｒ４ （ここでり、　Ｒａ、　Ｒａ、　Ｒ４，Ｒ６，Ｒｅは１
１又は旧１又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和結
合を有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安Ω、香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキ
シル、γ−プチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。

本発明により現像し得るレジストとしては、何ら限定さ
れず、ポジ形またはネガ形の光露光用レジスト、遠紫外
露光用レジスト、Ｘ線又は電子線用レジストを挙げるこ
とができる。光露光用レジストの材質にはフェノール及
びタレゾールノボラック樹脂をベースにしたキノンジア
ジド系、シス−１，４−ポリイソプレンを主成分とする
環化ゴム系、ポリけい皮酸系等があり、遠紫外用レジス
トにはポリメチルメタアクリレート、ポリメチルイソプ
ロペニルケトン等があり、電子線、Ｘ線レジストにはポ
リメタフルル酸メチル１、メタクリル酸グリシジル−ア
クリル酸エチル共重合体、メタアクリル酸メチル−メタ
クリル酸共重合体等が知られているが、本発明のレジス
ト現像剤はいずれにも有効である。

レジスト現像方法も何ら限定されず、通常のスプレー法
、浸漬して攪拌したり、揺動したり、超音波を作用させ
たりする方法等を採用することができる。

［実施例］ 実施例１〜７ 下記第１表に示すレジスト現像剤を用いてレジスト現像
試験を行なった。フォトレジストフィルム（Ｌａｍ１ｎ
ｅｒ、ダイナケム社製）がラミネートされたプリント基
板（銅張積層板）を一定の回路パターンに露光後、レジ
スト現像剤で現像し回路パターンが正常にできているか
顕微鏡で観察した。結果を第１表に示す。

第１表 （）内は混合比［重■％］ ０：良好に現像できる　△：やや不良 ×：不　良 ［発明の効果］ 本発明のレジスト現像剤は実施例から明らかなようにレ
ジスト現像効果の優れたものである。

又、従来の塩素系現像剤に比べ、プリント配線板に使わ
れるプラスチック等に対し悪影響が少ない点も有利であ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエ
   タン又はテトラクロロ−１，２−ジフルオロエタンの１
   種と１，２−ジクロロ−１−フルオロエタンとの共沸組
   成物を有効成分として含有するレジスト現像剤。
2. （２）レジスト現像剤中には、炭化水素類、アルコール
   類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
   ばれる少なくとも１種が含まれている特許請求の範囲第
   １項記載のレジスト現像剤。