JPH01134356A - レジスト現像剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はプリント基板や半導体の製造時にレジストを現
像するために用いるレジスト現像剤に関するものである
。

［従来の技術］ プリント基板や半導体回路を作成する場合レジスト塗布
、露光に続いてレジストを現像し、次いで、エツチング
する工程があるが、このレジストを現像するために、従
来！、１，１．−１−リクロ口エタン等の塩素系レジス
ト現像剤が使われている。

［発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていた塩素系レジスト現像剤は地
下水汚染の点から好ましくないため、その使用量を抑え
るべく塩素系レジスト現像剤にかわる新規のレジスト現
像剤を提供することを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
ジクロロジフルオロエタンを有効成分として含有するレ
ジスト現像剤を提供するものである。

本発明のレジスト現像剤の有効成分であるジクロロジフ
ルオロエタンは、不燃性で良好な現像ができる優れた溶
剤である。ジクロロジフルオロエタンには１．２−ジク
ロロ−１，２−ジフルオロエタン（以下Ｒ１３２という
）　、　１．１−ジクロロ−２，２−ジフルオロエタン
（以下Ｒ１３２ａという）。

１．２−ジクロロ−１，１−ジフルオロエタン（以下Ｒ
１３２ｂという）、１．１−ジクロロ−１，２−ジフル
オロエタン（以下Ｒ１３２ｃという）の４種類の異性体
が知られているが、これらを単独であるいはこれら２種
以上の混合物として用いることができる。

本発明のレジスト現像剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、さら
に良好に現像するために、炭化水素類、アルコール類、
ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有機溶
剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることができ
る。これらの有機溶剤のレジスト現像剤中の含有割合は
、０〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、さら
に好ましくは２０〜３０重量％である。

ジクロロジフルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸
組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好ま
しい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２
．３．３−トリメチルペンタン、２．３．４−トリメチ
ルペンタン、２，２．３−トリメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、２．２．５−トリメチルヘキサン。

デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン、１
−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、
シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ＝プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、　ｔｅｒｔ−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、　５ｅｃ−アミルア
ルコール、ｌ−エチル−１−プロパツール、２−メチル
−１−ブタノール、イソペンデルアルコール、ｔｅｒＬ
−ペンデルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、
ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチ
ル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール
、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２
−ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール
、２−才クタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、
Ｉ−ノナノール、３．５．５−　トリメチル−１−ヘキ
サノール、１−デカノール、！−ウンデカノール、ｌ−
ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−
メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノ
ール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシク
ロヘキサノール、ａ−テルピネオール、アビニチノール
、２．５−ジメチル−４−ヘプタツール、トリメチルノ
ニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシ
ルアルコール等から選ばれるものである。より好ましく
はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等
である。

ケトン類としては、Ｒ−Ｃｏ−Ｒ’　、　Ｒ−ＣＯ，Ｒ
−ＣＯ−Ｒ’　−ｒコｒ−ＣＩＩａｌ ＣローＲ”、Ｒ−ＣＯ−Ｒ″、　Ｒ−ＣＯ−Ｒ″（ここ
で、　Ｒ，Ｒ’、Ｒ”は炭素数１〜９の飽和又は不飽和
炭化水素基）のいずれかの一般式で示されるものが好ま
しく、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン
、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−〇−ブチ
ルケトン、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−
ヘプタノン、ジイソブチルケトン５アセトニルアセトン
、メシチルオキシド、ホロン、メチル−ｎ−アミルケト
ン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シク
ロヘキサノン、ブチルシクロヘキサノン、イソホロン、
２．４−ベンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセ
トフェノン、フェンチョン等から選ばれるものである。

より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等である
。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、　１．１．Ｉ−トリクロルエタン、１，１．２
−トリクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロルエ
タン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタク
ロルエタン、１．１−ジクロルエチレン、１．２−ジク
ロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メ
チレン、１、　Ｉ、　ｌ−トリクロルエタン、トリクロ
ルエチレン、テトラクロルエチレン等である。

エステル類としては、次の一般式で示される■ ものが好ましく　、　Ｒ，−ＣＯＤ−Ｒ，、Ｒ，−Ｃ−
Ｒ，−ＣＯＯ−Ｒ，。

■ ＯＲ。

Ｃ旧■４ （ここでＲ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，は１１又
は旧１又は炭素数１−１９の飽和ないし、不飽和結合を
有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブ石ビル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸ブチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢Ｍ　５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルア
セテート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロ
ヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソ
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息６酸メチル、安息香酸エチ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息６酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジェヂル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジェヂル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブヂル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。

本発明により現像し得るレジストとしては、何ら限定さ
れず、ポジ形またはネガ形の光露光用レジスト、遠紫外
露光用レジスト、Ｘ線又は電子線用レジストを挙げるこ
とができる。光露光用レジストの材質にはフェノール及
びクレゾールノボラック樹脂をベースにしたキノンジア
ジド系、シス−１，４−ポリイソプレンを主成分とする
環化ゴム系、ポリけい皮酸系等があり、遠紫外用レジス
トにはポリメチルメタアクリレート、ポリメチルイソプ
ロペニルケトン等があり、電子線、Ｘ線レジストにはポ
リメタフルル酸メチル１、メタクリル酸グリシジル−ア
クリル攬エチル共重合体、メタアクリル酸メチル−メタ
クリル酸共重合体等が知られているが、本発明のレジス
ト現像剤はいずれにも有効である。

レジスト現像方法も何ら限定されず、通常のスプレー法
、浸ｈ′Ｉシて攪拌したり、揺動したリ、超音波を作用
させたりする方法等を採用することができる。

［実施例］ 実施例１〜９ 下記第１表に示すレジスト現像剤を用いてレジスト現像
試験を行なった。フォトレジストフィルム（Ｌａｍ１ｎ
ｅｒ、ダイナケム社製）がラミネートされたプリント基
板（銅張積層板）を一定の回路パターンに露光後、レジ
スト現像剤で現像し回路パターンが正常にできているか
顕微鏡で観察した。結果を第１表に示す。

第１表 （）内は混合比［巾計％］ Ｏ：良好に現像できる　Δ：やや不良 ×：不　良 ［発明の効果］ 本発明のレジスト現像剤は実施例から明らがなようにレ
ジスト現像効果の優れたものである。

又、従来の塩素系現像剤に比べ、プリント配線板に使わ
れるプラスデック等に対し悪影響が少ない点も有利であ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ジクロロジフルオロエタンを有効成分として含有
   するレジスト現像剤。
2. （２）レジスト現像剤中には、炭化水素類、アルコール
   類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
   ばれる少なくとも１種が含まれている特許請求の範囲第
   １項記載のレジスト現像剤。