JPH01133046A - レジスト現像剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はプリント基板や半導体の製造時にレジストを現
像するために用いるレジスト現像剤に関するものである
。

［従来の技術］ プリント基板や半導体回路を作成する場合レジスト塗布
、露光に続いてレジストを現像し。

次いで、エツチングする工程があるが、このレジストを
現像するために、従来１．１．　ｌ、−トリクロロエタ
ン等の塩素系レジスト現像剤が使われている。

［発明のｆｒＳ決しようとする問題点］本発明は従来使
用されていた塩素系レジスト現像剤は地下水汚染の点か
ら好ましくないため、その使用量を抑えるべく塩素系レ
ジスト現像剤にかわる新規のレジスト現像剤を提供する
ことを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
ジクロロトリフルオロエタンを有効成分として含有する
レジスト現像剤を提供するものである。

本発明のレジスト現像剤の有効成分であるジクロロトリ
フルオロエタンは、不燃性で良好な現像ができる優れた
溶剤である。ジクロロトリフルオロエタンには１．１−
ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタン（以下Ｒ１
２３という）　、　１．２−ジクロロー１．２．２−　
トリフルオロエタン（以下Ｒ１２３ａという）、１．１
−ジクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以下Ｒ
Ｉ２３ｂという）の３種類の異性体が知られているが、
これらを単独であるいはこれら２種以上の混合物として
用いることができる。

本発明のレジスト現像剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる０例えば、さら
に良好に現像するために、炭化水素類、アルコール類、
ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有機溶
剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることができ
る。これらの有機溶剤のレジスト現像剤中の含有割合は
、０〜５０重母％、好ましくはＩＯ〜４０ｆｆ！ｍ％、
さらに好ましくは２０〜３０重量％である。

ジクロロトリフルオロエタンと有機溶剤との混合物に共
沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好
ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２．４−ジメチルベンタン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２
、３．３−　トリメチルペンタン、２．３．４−１−リ
メチルベンタン、２．２．３−トリメチルペンタン、イ
ソオクタン、ノナン、２．２．５−１−ジメチルヘキサ
ン、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン
、１−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、！−デセ
ン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン
、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、ａ−ピネン、ジ
ペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミルナ
フタレン等から選ばれるものである。より好ましくは、
ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒＬ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔａｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−Ｉ−ブタノール、Ｉ−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール、２
−才クタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ドデ
カノール、３．５．５−　トリメチル−１−ヘキサノー
ル、１−デカノール、ｌ−ウンデカノール、１−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチル
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、ａ−テルピネオール、アビニチノール、２．
６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。

ケトン類としては、Ｒ−Ｃｏ−１ｔ’　、　Ｒ−Ｃｏ、
　Ｒ−ＣＯ−Ｒ’　−一＝ｒ−Ｃ１１２］ Ｃ０−Ｒ”、Ｒ−Ｃｏ−Ｒ’、　Ｒ−Ｃｏ−Ｒ’　（こ
こで、Ｒ，Ｒ’　、　Ｒ″は炭素数１〜９の飽和又は不
飽和炭化水素基）のいずれかの一般式で示されるものが
好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタ
ノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−ｎ−
ブチルケトン、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、
４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセ・トニルア
セトン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−ｎ−アミ
ルケトン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン
、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホ
ロン、２．４−ベンタンジオン、ジアセトンアルコール
、アセトフェノン、フエンチョン等から選ばれるもので
ある。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等
である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、１，１．１−トリクロルエタン、Ｉ、　１．２
−１−ジクロルエタン、Ｉ、（，１，２−テトラクロル
エタン、１．１，２゜２−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、１．１−ジクロルエチレン、！、２−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、１、　Ｉ、　ｉ　トリクロルエタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。

エステル類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく、Ｒ，−ＣＯローＲ２，Ｒ，−Ｃ−Ｒ，−ＣＯＤ−
Ｒ４゜Ｒｓ ＤＯＲ４ （ここでＲ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ８，Ｒ，は１１又
は０１１又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和結合
を有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル°、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅａ−ブチル、酢
酸ペンチル、酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルア
セテート、酢酸５ＱＣ−ヘキシル、２−エチルブチルア
セテート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロ
ヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソ
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキ
シル、γ−プチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブデル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セパシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。

本発明により現像し得るレジストとしては、何ら限定さ
れず、ポジ形またはネガ形の光露光用レジスト、遠紫外
露光用レジスト、Ｘ線又は電子線用レジストを挙げるこ
とができる。光露光用レジストの材質にはフェノール及
びタレゾールノボラック樹脂をベースにしたキノンジア
ジド系、シス−１，４−ポリイソプレンを主成分とする
環化ゴム系、ポリけい皮酸系等があり、遠紫外用レジス
トにはポリメチルメタアクリレート、ポリメチルイソプ
ロペニルケトン等があり、電子線、Ｘ線レジストにはポ
リメタフルル酸メチル１、メタクリル酸グリシジル−ア
クリル酸エチル共徂合体、メタアクリル酸メチル−メタ
クリル酸共重合体等が知ら、れているが、本発明のレジ
スト現像剤はいずれにも有効である。

レジスト現像方法も何ら限定されず、通常のスプレー法
、浸？ｉ’ｌ　Ｌ／て攪拌したり、揺動したり、超音波
を作用させたりする方法等を採用することかできる。

［実施例］ 実施例１〜８ 下記第１表に示すレジスト現像剤を用いてレジスト現像
試験を行なった。フォトレジストフィルム（Ｌａｍ１ｎ
ｅｒ、ダイナケム社製）がラミネートされたプリント基
板（８張積層板）を一定の回路パターンに露光後、レジ
スト現像剤で現像し回路パターンが正常にできているか
顕微鏡で観察した。結果を第１表に示す。

第１表 （）内は混合比［重量％〕 ○：良好に現像できる　△：やや不良 ×：不　良 ［発明の効果］ 本発明のレジスト現像剤は実施例から明らかなようにレ
ジスト現像効果の優れたものである。

又、従来の塩素系現像剤に比べ、プリント配線板に使わ
れるプラスチック笠に対し悪影響が少なし１点も有利で
ある。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ジクロロトリフルオロエタンを有効成分として含
   有するレジスト現像剤。
2. （２）レジスト現像剤中には、炭化水素類、アルコール
   類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
   ばれる少なくとも１種が含まれている特許請求の範囲第
   １項記載のレジスト現像剤。