JPH01141994A - フツ素化炭化水素系共沸様混合物 - Google Patents
フツ素化炭化水素系共沸様混合物Info
- Publication number
- JPH01141994A JPH01141994A JP30008387A JP30008387A JPH01141994A JP H01141994 A JPH01141994 A JP H01141994A JP 30008387 A JP30008387 A JP 30008387A JP 30008387 A JP30008387 A JP 30008387A JP H01141994 A JPH01141994 A JP H01141994A
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- JP
- Japan
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- weight
- methylhexane
- fluorinated hydrocarbon
- mixture
- azeotropic mixture
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- Pending
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系共
沸様混合物に関するものであ る。
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系共
沸様混合物に関するものであ る。
［従来の技術］
フッ素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている。例えば、溶
剤として１，１．２− トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロ
ロモノフルオロメタン（Ｒ１１１が、プロペラントや冷
媒としてジクロロジフルオロメタン（ＲＩ２１が使われ
ている。
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている。例えば、溶
剤として１，１．２− トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロ
ロモノフルオロメタン（Ｒ１１１が、プロペラントや冷
媒としてジクロロジフルオロメタン（ＲＩ２１が使われ
ている。
［発明の解決しようとする問題点］
化学的に特に安定な旧１．Ｒ１２，ＲＩ＋３は対流圏内
での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光
線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖
反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、これ
ら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このため
、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊しに
くい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光
線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖
反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、これ
ら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このため
、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊しに
くい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
本発明は、従来のフロンが有している優れた特性を満足
しながら代替フロンとして使用できる新規なフロン混合
物を提供することを目的とするものである。
しながら代替フロンとして使用できる新規なフロン混合
物を提供することを目的とするものである。
［問題意表解決するための手段］
本発明は炭化水素類の１種とテトラクロロ刊、２−ジフ
ルオロエタン（Ｒ１１２）とからなるフッ素化炭化水素
系共沸様混合物に関するものである。本発明の混合物は
不燃又は難燃性であるとともに共沸組成が存在し、特に
洗浄溶剤として従来のＲ１１３よりも洗浄力が高いため
、Ｒ１１３の代替として極めて有用なものである。
ルオロエタン（Ｒ１１２）とからなるフッ素化炭化水素
系共沸様混合物に関するものである。本発明の混合物は
不燃又は難燃性であるとともに共沸組成が存在し、特に
洗浄溶剤として従来のＲ１１３よりも洗浄力が高いため
、Ｒ１１３の代替として極めて有用なものである。
本発明における炭化水素類は可燃性であるが、不燃性の
Ｒ１１２を混合することにより不一または離燃性とする
ことができる。
Ｒ１１２を混合することにより不一または離燃性とする
ことができる。
更に、リサイクルしても組成の変動が少なく、従来の単
一フロンと同じ使い方ができるため、従来技術の大幅な
変更を要しないこと等の利点があげられる。
一フロンと同じ使い方ができるため、従来技術の大幅な
変更を要しないこと等の利点があげられる。
本発明の各炭化水素類のＲ１１２に対する混合比は２−
メチルヘキサンは３４〜５４重量％、３−メチルヘキサ
ンは２６〜４６重量％、３−エチルペンタンは６〜２６
重量％、４−メチルヘプタンは０．５〜２０重量％、シ
クロヘキサンは７５〜９５重量％、１．１−ジメチルシ
クロペンタンは１〜２０重量％、ベンゼンは５４〜７４
重量％であり、好ましくは２−メチルヘキサンが３９〜
４９重量％、３−メチルヘキサンが３１〜４１重量％、
３−エチルベンクンが１１〜２１重量％、４−メチルヘ
プタンが１〜１１重量％、シクロヘキサンが８０〜９０
重量％、１．１−ジメチルシクロペンタンが゛２〜１２
重量％、ベンセンが５９〜６９重量％であり、さらに好
ましくは２−メチルヘキサンが４４重Ｍ％、３−メチル
ヘキサンが３６重量％、３−エチルペンタンが１６重量
％、４−メチルヘプタンが２重量％、シクロヘキサンが
８５．５重量％、１．１−ジメチルシクロペンタンが３
．５重量％、ベンゼンが６４．５重量％である。
メチルヘキサンは３４〜５４重量％、３−メチルヘキサ
ンは２６〜４６重量％、３−エチルペンタンは６〜２６
重量％、４−メチルヘプタンは０．５〜２０重量％、シ
クロヘキサンは７５〜９５重量％、１．１−ジメチルシ
クロペンタンは１〜２０重量％、ベンゼンは５４〜７４
重量％であり、好ましくは２−メチルヘキサンが３９〜
４９重量％、３−メチルヘキサンが３１〜４１重量％、
３−エチルベンクンが１１〜２１重量％、４−メチルヘ
プタンが１〜１１重量％、シクロヘキサンが８０〜９０
重量％、１．１−ジメチルシクロペンタンが゛２〜１２
重量％、ベンセンが５９〜６９重量％であり、さらに好
ましくは２−メチルヘキサンが４４重Ｍ％、３−メチル
ヘキサンが３６重量％、３−エチルペンタンが１６重量
％、４−メチルヘプタンが２重量％、シクロヘキサンが
８５．５重量％、１．１−ジメチルシクロペンタンが３
．５重量％、ベンゼンが６４．５重量％である。
本発明の混合物には、用途に応じてその他の成分をさら
に添加混合することができる。例λば、溶剤としての用
途においては、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、イ
ソヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ニトロメタン、
ニトロエタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン順、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミ
ン、ブチルアミン、イソブチルアミン、等のアミン類、
メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ
−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノー
ル、等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒド
ロフラン、１．４−ジオキサン等のエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケト
ン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエス
テル類等から選ばれる１種又は２種以上を添加混合する
ことができる。
に添加混合することができる。例λば、溶剤としての用
途においては、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、イ
ソヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ニトロメタン、
ニトロエタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン順、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミ
ン、ブチルアミン、イソブチルアミン、等のアミン類、
メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ
−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノー
ル、等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒド
ロフラン、１．４−ジオキサン等のエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケト
ン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエス
テル類等から選ばれる１種又は２種以上を添加混合する
ことができる。
Ｒ１１２及び炭化水素類からなる本発明の共沸様混合物
は、従来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途
に使用でき、特に溶剤として用いた場合、従来のＲ１１
３に比べ溶解力が高いため好適である。溶剤の具体的な
用途としては、フラ・リクス、グリース、油、ワックス
、インキ等の除去剤、￥料用溶剤、抽出剤、ガラス、セ
ラミックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特
にＩＣ部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄
剤や水切り剤等を挙げることができる。洗浄方法として
は、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気
洗浄等を採用すればよい。
は、従来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途
に使用でき、特に溶剤として用いた場合、従来のＲ１１
３に比べ溶解力が高いため好適である。溶剤の具体的な
用途としては、フラ・リクス、グリース、油、ワックス
、インキ等の除去剤、￥料用溶剤、抽出剤、ガラス、セ
ラミックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特
にＩＣ部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄
剤や水切り剤等を挙げることができる。洗浄方法として
は、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気
洗浄等を採用すればよい。
［実施例］
実施例１
第１表に示した各組成からなる混合物１０００ｇを各々
蒸留フラスコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い、
大気圧下で蒸留を行ない、各々４００ｇの留分を得た。
蒸留フラスコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い、
大気圧下で蒸留を行ない、各々４００ｇの留分を得た。
この時の各留出温度は第２表の通りであった。又、この
留分をガスクロマトグラフで測定した結果、第２表の通
りであった。
留分をガスクロマトグラフで測定した結果、第２表の通
りであった。
第 １ 表
第２表
実施例２
本発明の混合物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４、
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の混合物に１分間浸漬した。比較例とし
てＲ１１３についても同様の試験を行なった。本発明の
混合組成とフラックスの除去の度合を第３表に示す。
た。プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４、
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の混合物に１分間浸漬した。比較例とし
てＲ１１３についても同様の試験を行なった。本発明の
混合組成とフラックスの除去の度合を第３表に示す。
第 ３ 表
０：完全に除去、 ○：微量残存
△：少量残存、×：かなり残存
［発明の効果］
本発明のフッ素化炭化水素系共沸様混合物は、従来のフ
ロンが有している優れた特性を満足しながら代替フロン
として使用できるとともに、共沸点が存在するため、リ
サイクル時に組成変動がない、従来の単一フロンと同じ
使い方ができ、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある。又、溶剤としてよく使われているＲ１１３よ
りもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためＲ１１
３に替わる洗浄溶剤として好適である。
ロンが有している優れた特性を満足しながら代替フロン
として使用できるとともに、共沸点が存在するため、リ
サイクル時に組成変動がない、従来の単一フロンと同じ
使い方ができ、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある。又、溶剤としてよく使われているＲ１１３よ
りもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためＲ１１
３に替わる洗浄溶剤として好適である。
Claims (1)
- １、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、３−エ
チルペンタン、４−メチルヘプタン、シクロヘキサン、
１，１−ジメチルシクロペンタン又はベンゼンから選ば
れる１種とテトラクロロ−１，２−ジフルオロエタンと
からなるフッ素化炭化水素系共沸様混合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30008387A JPH01141994A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | フツ素化炭化水素系共沸様混合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30008387A JPH01141994A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | フツ素化炭化水素系共沸様混合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01141994A true JPH01141994A (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=17880499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30008387A Pending JPH01141994A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | フツ素化炭化水素系共沸様混合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01141994A (ja) |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP30008387A patent/JPH01141994A/ja active Pending
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