JPH02209831A - クロロテトラフルオロプロパン系共沸混合物及び擬共沸混合物 - Google Patents
クロロテトラフルオロプロパン系共沸混合物及び擬共沸混合物Info
- Publication number
- JPH02209831A JPH02209831A JP1029648A JP2964889A JPH02209831A JP H02209831 A JPH02209831 A JP H02209831A JP 1029648 A JP1029648 A JP 1029648A JP 2964889 A JP2964889 A JP 2964889A JP H02209831 A JPH02209831 A JP H02209831A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mixture
- weight
- dichloro
- azeotropic mixture
- r244ca
- Prior art date
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- Pending
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は1代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系共
沸及び擬共沸混合物に関するものである。
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系共
沸及び擬共沸混合物に関するものである。
[従来の技術]
フッ素化炭化水素系化合物(以下単にフロンという)は
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として1、1.2−トリクロロ−1,2,2−)
リフルオロエタン(R113)が、発泡剤としてトリク
ロロモノフルオロメタン(R11)が、プロペラントや
冷媒としてジクロロジフルオロメタン(R12)が使わ
れている。
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として1、1.2−トリクロロ−1,2,2−)
リフルオロエタン(R113)が、発泡剤としてトリク
ロロモノフルオロメタン(R11)が、プロペラントや
冷媒としてジクロロジフルオロメタン(R12)が使わ
れている。
[発明が解決しようとする課題]
化学的に特に安定なR11、R12、R113は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに変わり、オゾン層
を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに変わり、オゾン層
を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
本発明は、従来のフロンと同等な種々の優れた特性を有
しており代替フロンとして有用な炭素数が3の新規な含
水素クロロフルオロプロパン系フロンを含む混合物を提
供することを目的とするものである。
しており代替フロンとして有用な炭素数が3の新規な含
水素クロロフルオロプロパン系フロンを含む混合物を提
供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロ
プロパン(R244ca)、1.1−ジクロロ−2,2
,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(R225ca
)、及び1.2−ジクロロ−1゜1−ジフルオロエタン
(R132b)からなるフッ素化炭化水素系共沸及び擬
共沸混合物に関するものである。
プロパン(R244ca)、1.1−ジクロロ−2,2
,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(R225ca
)、及び1.2−ジクロロ−1゜1−ジフルオロエタン
(R132b)からなるフッ素化炭化水素系共沸及び擬
共沸混合物に関するものである。
本発明の混合物は不燃性であるとともに共沸組成が存在
し、特に洗浄溶剤として従来のR113単体よりも洗浄
力が高いため、R113代替として極めて有用なもので
ある。
し、特に洗浄溶剤として従来のR113単体よりも洗浄
力が高いため、R113代替として極めて有用なもので
ある。
更に、リサイクルしても組成の変動が少ないこと、又従
来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅な
変更を要しないこと等の利点かある。
来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅な
変更を要しないこと等の利点かある。
本発明の混合物としてはR244caが2〜37重量%
、R225caが7〜50重量%、及びR132bが3
5〜72重量%、好ましくは、R244caが3〜13
重i%、R225caが35〜45重量%、及びR13
2bが36〜56重量%であり、さらに好ましくは、R
244caの約9重量%、R225caの約40重量%
及び、R132bの約51重量%からなる共沸混合物で
ある。
、R225caが7〜50重量%、及びR132bが3
5〜72重量%、好ましくは、R244caが3〜13
重i%、R225caが35〜45重量%、及びR13
2bが36〜56重量%であり、さらに好ましくは、R
244caの約9重量%、R225caの約40重量%
及び、R132bの約51重量%からなる共沸混合物で
ある。
本発明の混合物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる0例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン、インペンタン、ヘキサン、イソ
ヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、イソへブタン、2
,3−ジメチルブタン、シクロペンタン等の炭化水素類
、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニ
トロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン
等のアミン類、メタノール、エタノール、n −プロピ
ルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルア
ルコール、i−ブチルアルコール、S−ブチルアルコー
ル、t−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセ
ロソルブ、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
ブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル
、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、tra
ns−1,2−ジクロロエチレン、cis−1,2−ジ
クロロエチレン、2−ブロモプロパン等のハロゲン化炭
化水素類、その他、1.1−ジクロロ−1−フルオロエ
タン等の本発明以外のフロン類等を適宜添加することが
できる。
添加混合することができる0例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン、インペンタン、ヘキサン、イソ
ヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、イソへブタン、2
,3−ジメチルブタン、シクロペンタン等の炭化水素類
、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニ
トロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン
等のアミン類、メタノール、エタノール、n −プロピ
ルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルア
ルコール、i−ブチルアルコール、S−ブチルアルコー
ル、t−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセ
ロソルブ、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
ブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル
、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、tra
ns−1,2−ジクロロエチレン、cis−1,2−ジ
クロロエチレン、2−ブロモプロパン等のハロゲン化炭
化水素類、その他、1.1−ジクロロ−1−フルオロエ
タン等の本発明以外のフロン類等を適宜添加することが
できる。
R244ca、 R225ca及び、R132bから
なる本発明の共沸及び擬共沸混合物は、従来のフロンと
同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき、特に溶
剤として用いた場合、従来のR113より高い溶解力を
有するため好適である。溶剤の具体的な用途としては、
フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラ
スチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電気
機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤等を
挙げることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬
、スプレー 揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すれ
ばよい。
なる本発明の共沸及び擬共沸混合物は、従来のフロンと
同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき、特に溶
剤として用いた場合、従来のR113より高い溶解力を
有するため好適である。溶剤の具体的な用途としては、
フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラ
スチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電気
機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤等を
挙げることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬
、スプレー 揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すれ
ばよい。
[実施例コ
以下に本発明の実施例を示す。
実施例 1
下記の組成からなる溶剤混合物1000gを蒸留、フラ
スコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下
で蒸留を行なった。
スコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下
で蒸留を行なった。
(組成) (重量%)R244ca
(沸点54℃)10 R225ca (沸点51.3℃)40R132b
(沸点46.8℃)50その結果、留分400gを得た
。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、次の
組成であった。
(沸点54℃)10 R225ca (沸点51.3℃)40R132b
(沸点46.8℃)50その結果、留分400gを得た
。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、次の
組成であった。
(組成) (重量%)R244ca
9R225ca
40R132b
51実施例 2 本発明の混合物(R244ca/R225ca/R13
2b=9重景%/40重景%151重量%)を用いて機
械油の洗浄試験を行なった。
9R225ca
40R132b
51実施例 2 本発明の混合物(R244ca/R225ca/R13
2b=9重景%/40重景%151重量%)を用いて機
械油の洗浄試験を行なった。
5US−304のテストピース(25smX 30mm
X 2mn+厚)を機械油(日本石油製CQ−30)中
に浸漬した後、本発明の前記混合物に5分間浸漬した。
X 2mn+厚)を機械油(日本石油製CQ−30)中
に浸漬した後、本発明の前記混合物に5分間浸漬した。
その結果、機械油は、R113と同様、良好に除去でき
ることが確認された。
ることが確認された。
実施例 3
実施例2の混合物(R244ca/R225ca/R1
32b=9重量%/40ffi:i%151重景%)重
景いてフラックスの洗浄試験を行なった。
32b=9重量%/40ffi:i%151重景%)重
景いてフラックスの洗浄試験を行なった。
プリント基板全面にフラックス(りムフ製作所製りAニ
ア−AL−4)を塗布し、200℃の電気炉で2分間焼
成後、本発明の前記混合物に1分間浸漬した。その結果
、フラックスは良好に除去できることが確認された。
ア−AL−4)を塗布し、200℃の電気炉で2分間焼
成後、本発明の前記混合物に1分間浸漬した。その結果
、フラックスは良好に除去できることが確認された。
実施例 4
実施例2の混合物(R244ca/R225ca/R1
32b=9重量%/40重量%151ji景%)につい
てタグ式測定法(J Is−に2265 )に従って測
定したところ引火点がなく不燃であることが確認された
。
32b=9重量%/40重量%151ji景%)につい
てタグ式測定法(J Is−に2265 )に従って測
定したところ引火点がなく不燃であることが確認された
。
[発明の効果]
本発明のフッ素化炭化水素系混合物は、不燃性で従来の
フロン類が有している優れた特性と同等以上の特性を有
する。又、共沸点が存在する、リサイクル時に組成変動
が少なく、従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来
技術の大幅な変更を必要とせず、そのまま適用できる等
の利点がある。
フロン類が有している優れた特性と同等以上の特性を有
する。又、共沸点が存在する、リサイクル時に組成変動
が少なく、従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来
技術の大幅な変更を必要とせず、そのまま適用できる等
の利点がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロ
パン、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタ
フルオロプロパン、及び1,2−ジクロロ−1,1−ジ
フルオロエタンからなるフッ素化炭化水素系共沸混合物
。 2、1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロ
パン9重量%、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3
−ペンタフルオロプロパン40重量%、及び1,2−ジ
クロロ−1,1−ジフルオロエタン51重量%からなる
請求項1に記載の混合物。 3、1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロ
パン、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタ
フルオロプロパン、及び1,2−ジクロロ−1,1−ジ
フルオロエタンからなるフッ素化炭化水素系擬共沸混合
物。 4、1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロ
パン2〜37重量%、1,1−ジクロロ−2,2,3,
3,3−ペンタフルオロプロパン7〜50重量%、及び
1,2−ジクロロ−1,1−ジフルオロエタン35〜7
2重量%からなる請求項3に記載の混合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1029648A JPH02209831A (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | クロロテトラフルオロプロパン系共沸混合物及び擬共沸混合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1029648A JPH02209831A (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | クロロテトラフルオロプロパン系共沸混合物及び擬共沸混合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02209831A true JPH02209831A (ja) | 1990-08-21 |
Family
ID=12281927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1029648A Pending JPH02209831A (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | クロロテトラフルオロプロパン系共沸混合物及び擬共沸混合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02209831A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6087201A (en) * | 1994-07-12 | 2000-07-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ball grid array electronic component |
-
1989
- 1989-02-10 JP JP1029648A patent/JPH02209831A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6087201A (en) * | 1994-07-12 | 2000-07-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ball grid array electronic component |
| US6133069A (en) * | 1994-07-12 | 2000-10-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing the electronic using the anode junction method |
| US6181009B1 (en) | 1994-07-12 | 2001-01-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electronic component with a lead frame and insulating coating |
| US6268647B1 (en) | 1994-07-12 | 2001-07-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electronic component with an insulating coating |
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