JPH01256132A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH01256132A JPH01256132A JP63084351A JP8435188A JPH01256132A JP H01256132 A JPH01256132 A JP H01256132A JP 63084351 A JP63084351 A JP 63084351A JP 8435188 A JP8435188 A JP 8435188A JP H01256132 A JPH01256132 A JP H01256132A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor element
- electrode layer
- substrate
- semiconductor
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/073—Connecting or disconnecting of die-attach connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/731—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
- H10W90/736—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、主として高周波用の半導体装置の製造方法に
係り、詳しくは、半導体素子をセラミック基板やリード
フレームなどの基板へ実装する方法に関する。
係り、詳しくは、半導体素子をセラミック基板やリード
フレームなどの基板へ実装する方法に関する。
〈従来の技術〉
従来の半導体装置の製造方法を第4図に示す高周波用半
導体装置の製造方法に基づいて説明する。
導体装置の製造方法に基づいて説明する。
一般に高周波用半導体装置20は、裏面に金の蒸着など
によって電極21が形成された半導体素子22を基板2
3上に実装してつくられる。このとき、基板23と半導
体素子22との間には、Au −S i、Au −S
n等の共晶ろう材チップ25が介装され、この共晶ろう
材チップ25の溶着によって基板23に半導体素子22
が固定されるとともに、半導体素子22の電極21と基
板23とが電気的に接続される。
によって電極21が形成された半導体素子22を基板2
3上に実装してつくられる。このとき、基板23と半導
体素子22との間には、Au −S i、Au −S
n等の共晶ろう材チップ25が介装され、この共晶ろう
材チップ25の溶着によって基板23に半導体素子22
が固定されるとともに、半導体素子22の電極21と基
板23とが電気的に接続される。
〈発明が解決しようとする課題〉
ところで、従来の高周波用半導体装置20の製造方法で
は、半導体素子22を基板23に実装するのに、上記し
たように共晶ろう材チップ25を用いており、この共晶
ろう材チップ25を正確に半導体素子22と基板23と
の間に挟み込む工程が必要であるため、それだけ作業が
複雑となり、容易に作業性の向上を図れなかった。
は、半導体素子22を基板23に実装するのに、上記し
たように共晶ろう材チップ25を用いており、この共晶
ろう材チップ25を正確に半導体素子22と基板23と
の間に挟み込む工程が必要であるため、それだけ作業が
複雑となり、容易に作業性の向上を図れなかった。
また、基板との接続を確実にするためには充分な大きさ
のろう材チップ25を用いる必要があるが、このろう材
チップ25が大きいと、第5図に示すように、余分なろ
う材によって実装した半導体素子22が傾いて、後のワ
イヤボンディングに支障が生じたり、あるいは、ろう材
が半導体素子22からはみ出して短絡が生したりするこ
とがあり、高周波用半導体装置20の信頼性向上の妨げ
となっていた。
のろう材チップ25を用いる必要があるが、このろう材
チップ25が大きいと、第5図に示すように、余分なろ
う材によって実装した半導体素子22が傾いて、後のワ
イヤボンディングに支障が生じたり、あるいは、ろう材
が半導体素子22からはみ出して短絡が生したりするこ
とがあり、高周波用半導体装置20の信頼性向上の妨げ
となっていた。
また、高価なろう材を多く使用することになるので、材
料コストがかさむという問題もある。
料コストがかさむという問題もある。
本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものであって、
ろう材チップを用いることなく半導体装置を製造するこ
とができるようにして、作業性を良好にするとともに半
導体装置の信頼性を高めることを目的とする。
ろう材チップを用いることなく半導体装置を製造するこ
とができるようにして、作業性を良好にするとともに半
導体装置の信頼性を高めることを目的とする。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、上記の目的を達成するために、半導体素子の
裏面にろう材からなる電極層を形成する工程と、この半
導体素子を前記電極層の溶着により基板の所要部上に実
装する工程とを含むことに特徴を有している。
裏面にろう材からなる電極層を形成する工程と、この半
導体素子を前記電極層の溶着により基板の所要部上に実
装する工程とを含むことに特徴を有している。
〈作用〉
上記製造方法によれば、ろう材を半導体素子の裏面に直
接電極層として設けであるので、半導体素子を直接に基
板の定位置に載置して熱圧着等の溶着処理をするだけで
実装できるようになり、従来のようなろう材チップを用
いる必要はなくなる。
接電極層として設けであるので、半導体素子を直接に基
板の定位置に載置して熱圧着等の溶着処理をするだけで
実装できるようになり、従来のようなろう材チップを用
いる必要はなくなる。
〈実施例〉
以下、本発明を第1図ないし第3図に示す高周波用半導
体装置の製造方法に基づいて詳細に説明する。これらの
図において、符号1は半導体ウェハ、2は高周波用半導
体素子、3は半導体素子2の電極層、4は基板である。
体装置の製造方法に基づいて詳細に説明する。これらの
図において、符号1は半導体ウェハ、2は高周波用半導
体素子、3は半導体素子2の電極層、4は基板である。
まず、第1図に示すように、−面に半導体素子2、・・
が形成された半導体ウェハ!の裏面全体に、真空蒸着処
理によりAu−5i、あるいはA u −S n等の共
晶ろう材の薄膜5を形成する。
が形成された半導体ウェハ!の裏面全体に、真空蒸着処
理によりAu−5i、あるいはA u −S n等の共
晶ろう材の薄膜5を形成する。
次に、第2図に示すように、このウェハlをスクライブ
溝に沿ってブレークし、各半導体素子2ごとに分離する
。分離された半導体素子2Cよその裏面全体が共晶ろう
材の薄膜によって覆われており、この薄膜が各半導体素
子2の電極層3になっている。
溝に沿ってブレークし、各半導体素子2ごとに分離する
。分離された半導体素子2Cよその裏面全体が共晶ろう
材の薄膜によって覆われており、この薄膜が各半導体素
子2の電極層3になっている。
そして、この半導体素子2を電極層3を下にして基板4
の所定位置上に載置するとともに、熱圧着等の溶着処理
により、電極層3を溶融させて、この溶融した電極層3
により、半導体素子2を固定し、半導体素子2と基板4
とを電気的に接続させる。
の所定位置上に載置するとともに、熱圧着等の溶着処理
により、電極層3を溶融させて、この溶融した電極層3
により、半導体素子2を固定し、半導体素子2と基板4
とを電気的に接続させる。
上記の実施例においては、ろう材として共晶ろう材を用
いたが、他のろう材を用いてもよい。また実施例では、
ろう材を真空蒸着により薄膜の電極層3として、半導体
素子2の裏面に形成したが、ろう材を印刷により厚膜の
電極層として半導体素子の裏面に形成してもよい。
いたが、他のろう材を用いてもよい。また実施例では、
ろう材を真空蒸着により薄膜の電極層3として、半導体
素子2の裏面に形成したが、ろう材を印刷により厚膜の
電極層として半導体素子の裏面に形成してもよい。
また、上記の実施例は、高周波用半導体装置の製造方法
について説明したが、これに限らず、池の半導体装置の
製造方法についても実施できることはいうまでもない。
について説明したが、これに限らず、池の半導体装置の
製造方法についても実施できることはいうまでもない。
〈発明の効果〉
以上のように、本発明の半導体装置の製造方法によれば
、ろう材を半導体素子の裏面に直接電極層として設けた
ので、従来のようなろう材デツプを用いなくても、半導
体素子を基板に実装することができる。したがって、ろ
う材チップを半導体素子と基板との間に介装する工程が
なくなるので、半導体素子の実装工程を簡略化でき、作
業性が向上する。
、ろう材を半導体素子の裏面に直接電極層として設けた
ので、従来のようなろう材デツプを用いなくても、半導
体素子を基板に実装することができる。したがって、ろ
う材チップを半導体素子と基板との間に介装する工程が
なくなるので、半導体素子の実装工程を簡略化でき、作
業性が向上する。
また、ろう材は半導体素子の裏面全面に膜状に設けられ
ているので、少量で必要量のろう材が素子と基板との間
に介在することになり、従来方法におけるような半導体
素子の傾きやろう材のはみ出しを未然に防止して、これ
らに起因する不都合の発生をなくすことができ、半導体
装置の信頼性は向上する。また、ろう材の使用催を少量
に抑えることができ、材料コストの低減を図ることがで
きる。
ているので、少量で必要量のろう材が素子と基板との間
に介在することになり、従来方法におけるような半導体
素子の傾きやろう材のはみ出しを未然に防止して、これ
らに起因する不都合の発生をなくすことができ、半導体
装置の信頼性は向上する。また、ろう材の使用催を少量
に抑えることができ、材料コストの低減を図ることがで
きる。
第1図ないし第3図は本発明の一実施例の高周波用半導
体装置の製造工程を示し、第1図と第2図とは側面図、
第3図は斜視図である。第4図と第5図とは従来例に係
り、第4図は高周波用半導体装置の製造工程を表す斜視
図、第5図はその断面図である。 2・・半導体素子、3・・電極層、4・・・基板、出願
人 法式会社 材用製作所 代理人 弁理士 岡1)和秀 第1図 第2図 第3図
体装置の製造工程を示し、第1図と第2図とは側面図、
第3図は斜視図である。第4図と第5図とは従来例に係
り、第4図は高周波用半導体装置の製造工程を表す斜視
図、第5図はその断面図である。 2・・半導体素子、3・・電極層、4・・・基板、出願
人 法式会社 材用製作所 代理人 弁理士 岡1)和秀 第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- (1)半導体素子の裏面にろう材からなる電極層を形成
する工程と、 この半導体素子を前記電極層の溶着により基板の所要部
上に実装する工程とを含むことを特徴とする半導体装置
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63084351A JPH01256132A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63084351A JPH01256132A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01256132A true JPH01256132A (ja) | 1989-10-12 |
Family
ID=13828099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63084351A Pending JPH01256132A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01256132A (ja) |
-
1988
- 1988-04-05 JP JP63084351A patent/JPH01256132A/ja active Pending
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