JPH02192093A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH02192093A JPH02192093A JP1091017A JP9101789A JPH02192093A JP H02192093 A JPH02192093 A JP H02192093A JP 1091017 A JP1091017 A JP 1091017A JP 9101789 A JP9101789 A JP 9101789A JP H02192093 A JPH02192093 A JP H02192093A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、不良の記憶素子(以下、「メモリセル」と
いう。)があっても有効利用可能な半導体記憶装置に関
するものである。
いう。)があっても有効利用可能な半導体記憶装置に関
するものである。
不良のメモリセルが存在しても、有効利用が図れる従来
の半導体記憶装置としては、特開昭598199に開示
されたものがある。
の半導体記憶装置としては、特開昭598199に開示
されたものがある。
この半導体記憶装置は、n個の外部アドレス信号A
、A ・・・A によりメモリセルが選択され1
2 n る記憶装置である。この半導体記憶装置に不良メモリセ
ルが存在した場合、その不良メモリセルが存在するアド
レスがA([A、A ・・・A、・・・f 1 2
1 A ] =(a 、 a ・a、−anコ2
)であn2 1 2 l ったとすると、外部アドレス信号A、(i=l〜nのい
ずれか)の信号電極の電位を信号値a、の反転値可に固
定する。その結果、この半導体記憶装置の不良アドレス
Arのメモリセルにアクセスされる可能性はOになる。
、A ・・・A によりメモリセルが選択され1
2 n る記憶装置である。この半導体記憶装置に不良メモリセ
ルが存在した場合、その不良メモリセルが存在するアド
レスがA([A、A ・・・A、・・・f 1 2
1 A ] =(a 、 a ・a、−anコ2
)であn2 1 2 l ったとすると、外部アドレス信号A、(i=l〜nのい
ずれか)の信号電極の電位を信号値a、の反転値可に固
定する。その結果、この半導体記憶装置の不良アドレス
Arのメモリセルにアクセスされる可能性はOになる。
そこで、この半導体記憶装置を、外部アドレス信号A、
を除いた外部アドレス信号A −A、−1゜A1+1
〜Anによりアクセス可能な半導体記憶装置として使用
する。その結果、記憶容量は半減するが、この半導体記
憶装置は、不良メモリセルのない正常な半導体記憶装置
として有効に利用される。
を除いた外部アドレス信号A −A、−1゜A1+1
〜Anによりアクセス可能な半導体記憶装置として使用
する。その結果、記憶容量は半減するが、この半導体記
憶装置は、不良メモリセルのない正常な半導体記憶装置
として有効に利用される。
外部アドレス信号A、の信号電極の電位を固定するため
、この半導体記憶装置は、第4図に示すようにチップ1
内に外部アドレス信号A、の信号電極2.電源電極3及
び接地電極4を形成している。そして、外部アドレス信
号A、の信号電極2を信号値aiに応じて、電源電極3
あるいは接地電極4の一方にワイヤ5を用いてボンディ
ングし、外部アドレス信号A1の信号電極2の電位を固
定している。
、この半導体記憶装置は、第4図に示すようにチップ1
内に外部アドレス信号A、の信号電極2.電源電極3及
び接地電極4を形成している。そして、外部アドレス信
号A、の信号電極2を信号値aiに応じて、電源電極3
あるいは接地電極4の一方にワイヤ5を用いてボンディ
ングし、外部アドレス信号A1の信号電極2の電位を固
定している。
不良メモリセルが存在しても有効利用が図れる従来の半
導体記憶装置は以上のように構成されており、少なくと
も1つのアドレス信号の信号電極、接地電極及び電源電
極を回路上に形成する必要があった。
導体記憶装置は以上のように構成されており、少なくと
も1つのアドレス信号の信号電極、接地電極及び電源電
極を回路上に形成する必要があった。
しかしながら、電極は1個当り約200X200[μm
2]程度の領域を必要とするため、回路の集積化を損ね
てしまう問題点があった。
2]程度の領域を必要とするため、回路の集積化を損ね
てしまう問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、集積化を損ねることなく、不良メモリセルが
存在しても有効利用が図れる半導体記憶装置を得ること
を目的とする。
たもので、集積化を損ねることなく、不良メモリセルが
存在しても有効利用が図れる半導体記憶装置を得ること
を目的とする。
この発明にかかる半導体記憶装置は、複数の外部アドレ
ス信号入力端子と、各前記外部アドレス信号入力端子に
接続される内部アドレス信号線と、第1の電源レベルが
得られる第1の電源端子及び第2の電源レベルが得られ
る第2の電源端子のうち少なくとも一方と、前記第1あ
るいは第2の電源端子と前記内部アドレス信号線の少な
くとも1つとの間にそれぞれ設けられた第1及び第2の
電源線と、前記第1及び第2の電源線に接続された内部
アドレス信号線である電源線接続内部アドレス信号線上
あるいは前記第1の電源線上に設けられた第1のヒユー
ズと、前記電源線接続内部アドレス信号線上あるいは前
記第2の電源線上に設けられた第2のヒユーズとを備え
、前記第1のヒユーズを切断すると、前記電源線接続内
部アドレス信号線が、前記第1及び第2の電源レベルの
うち一方の電源レベルに固定され、前記第2のヒユーズ
を切断すると、前記電源線接続内部アドレス信号線が、
前記第1及び第2の電源レベルのうち他方の電源レベル
に固定されている。
ス信号入力端子と、各前記外部アドレス信号入力端子に
接続される内部アドレス信号線と、第1の電源レベルが
得られる第1の電源端子及び第2の電源レベルが得られ
る第2の電源端子のうち少なくとも一方と、前記第1あ
るいは第2の電源端子と前記内部アドレス信号線の少な
くとも1つとの間にそれぞれ設けられた第1及び第2の
電源線と、前記第1及び第2の電源線に接続された内部
アドレス信号線である電源線接続内部アドレス信号線上
あるいは前記第1の電源線上に設けられた第1のヒユー
ズと、前記電源線接続内部アドレス信号線上あるいは前
記第2の電源線上に設けられた第2のヒユーズとを備え
、前記第1のヒユーズを切断すると、前記電源線接続内
部アドレス信号線が、前記第1及び第2の電源レベルの
うち一方の電源レベルに固定され、前記第2のヒユーズ
を切断すると、前記電源線接続内部アドレス信号線が、
前記第1及び第2の電源レベルのうち他方の電源レベル
に固定されている。
この発明においては、第1のヒユーズを切断すると、電
源線接続内部アト7レス信号線が、第1及び第2の電源
レベルのうち一方の電源レベルに設定され、第2のヒユ
ーズを切断すると、電源線接続内部アドレス信号線が、
第1及び第2の電源レベルのうち他方の電源レベルに設
定されるため、第1.第2のヒユーズを選択的に切断す
ることにより、電源線接続内部アドレス信号線を第1あ
るいは第2の電源レベルに固定することができる。
源線接続内部アト7レス信号線が、第1及び第2の電源
レベルのうち一方の電源レベルに設定され、第2のヒユ
ーズを切断すると、電源線接続内部アドレス信号線が、
第1及び第2の電源レベルのうち他方の電源レベルに設
定されるため、第1.第2のヒユーズを選択的に切断す
ることにより、電源線接続内部アドレス信号線を第1あ
るいは第2の電源レベルに固定することができる。
第1図はこの発明の第1の一実施例である半導体記憶装
置の一部を示す回路図である。なお、この半導体記憶装
置は0本の外部アドレス信号入力端子PA1〜PAnを
有している。同図に示すように、外部アドレス信号入力
端子P A、(i−1〜n)が内部アドレス信号線13
に接続されている。この内部アドレス信号線13上のノ
ードN1に電源線16゜17がそれぞれ接続されている
。
置の一部を示す回路図である。なお、この半導体記憶装
置は0本の外部アドレス信号入力端子PA1〜PAnを
有している。同図に示すように、外部アドレス信号入力
端子P A、(i−1〜n)が内部アドレス信号線13
に接続されている。この内部アドレス信号線13上のノ
ードN1に電源線16゜17がそれぞれ接続されている
。
電源線16は、直列に接続されたヒユーズ素子11及び
抵抗R1を介して電源V。0に接続され、電源線17は
、直列に接続されたヒユーズ素子12及び抵抗R2を介
して接地されている。ヒユーズ素子11.12はポリシ
リコン等で形成され、加熱により切断可能となっている
。
抵抗R1を介して電源V。0に接続され、電源線17は
、直列に接続されたヒユーズ素子12及び抵抗R2を介
して接地されている。ヒユーズ素子11.12はポリシ
リコン等で形成され、加熱により切断可能となっている
。
また、内部アドレス信号線13はアドレスバッファ10
に接続され、このアドレスバッファ10は内部アドレス
信号線13の電位レベルに基づき、内部アドレス信号S
、、内部アドレス反転信号S、を出力している。
に接続され、このアドレスバッファ10は内部アドレス
信号線13の電位レベルに基づき、内部アドレス信号S
、、内部アドレス反転信号S、を出力している。
このような構成において、この実施例の半導体記憶装置
のアドレスA’([A、A ・・・A、・・・f
L 2 l ・・・a、 ・・・a / ] An]2−[al 、a2 □ 。
のアドレスA’([A、A ・・・A、・・・f
L 2 l ・・・a、 ・・・a / ] An]2−[al 、a2 □ 。
2)のメモリセルに不良が、製造工程中に検出された場
合を考える。なお、本明細書中において、内部アドレス
信号線13の電位とは、アドレスバッファ10への入力
電位を示している。
合を考える。なお、本明細書中において、内部アドレス
信号線13の電位とは、アドレスバッファ10への入力
電位を示している。
このとき、アドレスAr の外部アドレス信号A、の
信号値a ′が「H」(vcc)であれば、製造工程中
に、ヒユーズ素子11が、レーザー光線により加熱切断
される。その結果、内部アドレス信号線13の電位が「
L」 (接地レベル)に固定されるため、不良アドレス
Ar のメモリセルにアクセスされる可能性がOにな
る。一方、アドレスA の外部アドレス信号Aiの信
号値a 、 /がrLJであれば、製造工程中にヒユー
ズ素子12がレーザー光線により加熱切断される。
信号値a ′が「H」(vcc)であれば、製造工程中
に、ヒユーズ素子11が、レーザー光線により加熱切断
される。その結果、内部アドレス信号線13の電位が「
L」 (接地レベル)に固定されるため、不良アドレス
Ar のメモリセルにアクセスされる可能性がOにな
る。一方、アドレスA の外部アドレス信号Aiの信
号値a 、 /がrLJであれば、製造工程中にヒユー
ズ素子12がレーザー光線により加熱切断される。
その結果、内部アドレス信号線13の電位がrHJに固
定されるため、不良アドレスA のメモリセルにアク
セスされる可能性が0になる。
定されるため、不良アドレスA のメモリセルにアク
セスされる可能性が0になる。
そこで、この半導体記憶装置を、外部アドレス信号A
を除いた外部アドレス信号A1〜A1−1’A −
A によりアクセス可能な半導体記憶装置子1
n 置として使用する。その結果、記憶容量は半減するが、
この半導体記憶装置は、不良メモリセルのない正常な半
導体記憶装置として有効に利用される。
を除いた外部アドレス信号A1〜A1−1’A −
A によりアクセス可能な半導体記憶装置子1
n 置として使用する。その結果、記憶容量は半減するが、
この半導体記憶装置は、不良メモリセルのない正常な半
導体記憶装置として有効に利用される。
このように、内部アドレス信号線13の電位の固定をヒ
ユーズ素子11.12の切断により行い、半導体記憶装
置の有効利用を図っている。これらのヒユーズ素子11
.12の形成に要する領域は、4×10[μm2]程度
でよく、また、抵抗R1゜R2は別途に形成領域を必要
とせず、電源線や信号線の下に容易に形成できる。この
ため、ヒユーズ素子11.12及び抵抗R1,R2の形
成により半導体記憶装置の集積化が損われることはない
。
ユーズ素子11.12の切断により行い、半導体記憶装
置の有効利用を図っている。これらのヒユーズ素子11
.12の形成に要する領域は、4×10[μm2]程度
でよく、また、抵抗R1゜R2は別途に形成領域を必要
とせず、電源線や信号線の下に容易に形成できる。この
ため、ヒユーズ素子11.12及び抵抗R1,R2の形
成により半導体記憶装置の集積化が損われることはない
。
なお、不良メモリセルが存在しない場合(以下、「通常
時」という。)は、ヒユーズ素子11.12は共に切断
しない。
時」という。)は、ヒユーズ素子11.12は共に切断
しない。
第2図は、この発明の第2の実施例である半導体記憶装
置の一部を示す回路図である。同図に示すように、第1
図で示した回路構成に加え、外部アドレス信号入力端子
PA□とノードN1間にインバータ14とヒユーズ素子
15を介挿している。
置の一部を示す回路図である。同図に示すように、第1
図で示した回路構成に加え、外部アドレス信号入力端子
PA□とノードN1間にインバータ14とヒユーズ素子
15を介挿している。
すなわち、外部アドレス信号入力端子PA1がインバー
タ14の人力となり、インバーター4の出力とノードN
1間にヒユーズ素子15が設けられている。
タ14の人力となり、インバーター4の出力とノードN
1間にヒユーズ素子15が設けられている。
このような構成において、第2の実施例の半導体記憶装
置のアドレスA’([A、A ・・・A。
置のアドレスA’([A、A ・・・A。
r l 2 t
・・・An]2−[a1′、a2′・・・al′・・・
a ′コ2)のメモリセルに不良が、製造工程中に検出
された場合を考える。
a ′コ2)のメモリセルに不良が、製造工程中に検出
された場合を考える。
このとき、アドレスAr の外部アドレス信号A の
信号値a、 がrHJ (Voo)であれば、l 製造工程中に、ヒユーズ素子11及び15が、レーザー
光線により加熱切断される。その結果、内部アドレス信
号線13の電位が「L」 (接地レベル)に固定される
ため、不良アドレスA ′のメそりセルにアクセスされ
る可能性が0になる。
信号値a、 がrHJ (Voo)であれば、l 製造工程中に、ヒユーズ素子11及び15が、レーザー
光線により加熱切断される。その結果、内部アドレス信
号線13の電位が「L」 (接地レベル)に固定される
ため、不良アドレスA ′のメそりセルにアクセスされ
る可能性が0になる。
方、アドレスA、 の外部アドレス信号A1の信号値a
、 /がrLJであれば、製造工程中にヒユーズ素子
12及び15がレーザー光線により加熱切断される。そ
の結果、内部アドレス信号線13の電位がrHJに固定
されるため、不良アドレスAr のメモリセルにアク
セスされる可能性が0になる。
、 /がrLJであれば、製造工程中にヒユーズ素子
12及び15がレーザー光線により加熱切断される。そ
の結果、内部アドレス信号線13の電位がrHJに固定
されるため、不良アドレスAr のメモリセルにアク
セスされる可能性が0になる。
こうして、第1の実施例の半導体記憶装置と同様にして
有効利用が図れる。
有効利用が図れる。
なお、ヒユーズ素子11あるいはヒユーズ素子12とと
もにヒユーズ素子15を切断するのは、インバーター4
の不安定な出力の影響が内部アドレス信号線13に及ば
ないようにするためである。
もにヒユーズ素子15を切断するのは、インバーター4
の不安定な出力の影響が内部アドレス信号線13に及ば
ないようにするためである。
インバータ14の出力が不安定になるのは、内部アドレ
ス信号線13の電位固定時には、外部アドレス信号入力
端子PAtは使用されないため、インバータ14の入力
が不安定になることに起因している。
ス信号線13の電位固定時には、外部アドレス信号入力
端子PAtは使用されないため、インバータ14の入力
が不安定になることに起因している。
ところで、第1及び第2の実施例で示した半導体記憶装
置は、通常時、当然外部アドレス信号入力端子PA1に
外部アドレス信号Aiが人力される。
置は、通常時、当然外部アドレス信号入力端子PA1に
外部アドレス信号Aiが人力される。
このとき、第1の実施例の半導体記憶装置は、外部アド
レス信号A、がrLJであれば、電源V。0外部アドレ
ス信号入力端子PA1間に電流が流れ、外部アドレス信
号A、がrHJてあれば、外部アドレス信号入力端子P
1接地レベル間に電流がt 流れてしまう欠点がある。
レス信号A、がrLJであれば、電源V。0外部アドレ
ス信号入力端子PA1間に電流が流れ、外部アドレス信
号A、がrHJてあれば、外部アドレス信号入力端子P
1接地レベル間に電流がt 流れてしまう欠点がある。
一方、第2の実施例の半導体記憶装置は、内部アドレス
信号線13上にインバータを設けているため、通常時、
外部アドレス信号A1の「H」。
信号線13上にインバータを設けているため、通常時、
外部アドレス信号A1の「H」。
rLJにかかわらず、電源■。C1外部アドレス信号入
力端子PAi間及び外部アドレス信号入力端子P 、接
地レベル間に電流が流れない利点がある。
力端子PAi間及び外部アドレス信号入力端子P 、接
地レベル間に電流が流れない利点がある。
t
なお、第1の実施例の半導体記憶装置の上述した欠点は
、通常時、ヒユーズ素子11.12双方を切断すること
でも解決できる。したがって、第2の実施例の半導体記
憶装置は、通常時に、ヒユーズ素子11.12双方を切
断しない場合に有効になる。
、通常時、ヒユーズ素子11.12双方を切断すること
でも解決できる。したがって、第2の実施例の半導体記
憶装置は、通常時に、ヒユーズ素子11.12双方を切
断しない場合に有効になる。
第3図は、この発明の第3の実施例である半導体記憶装
置を示す回路図である。同図に示すように、内部アドレ
ス信号線13上に外部アドレス信号入力端子PAjから
アドレスバッファ10にかけて、インバータ18.ヒユ
ーズ素子19.インバータ20.ヒユーズ素子21の順
に介挿されている。
置を示す回路図である。同図に示すように、内部アドレ
ス信号線13上に外部アドレス信号入力端子PAjから
アドレスバッファ10にかけて、インバータ18.ヒユ
ーズ素子19.インバータ20.ヒユーズ素子21の順
に介挿されている。
ヒユーズ素子19.インバータ20間の内部アドレス信
号線13上のノードN2に電源線22が、ヒユーズ素子
21.アドレスバッファ10間のノードN3に電源線2
3がそれぞれ接続されている。
号線13上のノードN2に電源線22が、ヒユーズ素子
21.アドレスバッファ10間のノードN3に電源線2
3がそれぞれ接続されている。
電源線22は抵抗R3を介して接地されており、電源線
23は抵抗R4を介して接地されている。
23は抵抗R4を介して接地されている。
すなわちこの実施例では、両電源線22.23とも接地
されるとともに、ヒユーズ素子19.21は内部アドレ
ス信号線13上に設けられている。
されるとともに、ヒユーズ素子19.21は内部アドレ
ス信号線13上に設けられている。
他の構成は、第1.第2の実施例と同様であるので説明
は省略する。
は省略する。
このように構成しても、ヒユーズ素子19を切断するこ
とにより、内部アドレス信号線13の電位をrHJに固
定することができ、ヒユーズ素子21を切断することに
より、内部アドレス信号線13の電位をrLJに固定す
ることができるため、第1.第2の実施例と同様の効果
を奏する。
とにより、内部アドレス信号線13の電位をrHJに固
定することができ、ヒユーズ素子21を切断することに
より、内部アドレス信号線13の電位をrLJに固定す
ることができるため、第1.第2の実施例と同様の効果
を奏する。
また、第2の実施例同様、内部アドレス信号線13上に
インバータを設けているため、通常時、外部アドレス信
号A、のrHJ、rLJにかかわらず、外部アドレス信
号入力端子P 、接地レベi ル間に電流が流れない利点がある。
インバータを設けているため、通常時、外部アドレス信
号A、のrHJ、rLJにかかわらず、外部アドレス信
号入力端子P 、接地レベi ル間に電流が流れない利点がある。
また、第3の実施例の電源線22.23を抵抗R3,R
4を介して電源V。0に接続した構成の考られる。この
場合、ヒユーズ素子19を切断することにより、内部ア
ドレス信号線13の電位をrLJに固定することができ
、ヒユーズ素子21を切断することにより、内部アドレ
ス信号線13の電位をrHJに固定することができる。
4を介して電源V。0に接続した構成の考られる。この
場合、ヒユーズ素子19を切断することにより、内部ア
ドレス信号線13の電位をrLJに固定することができ
、ヒユーズ素子21を切断することにより、内部アドレ
ス信号線13の電位をrHJに固定することができる。
上記した第1〜第3の実施例では電源線(1617,2
2,23)上に必ず抵抗(R1,R2゜R3,R4)を
介挿している。これらの抵抗は不良メモリセル検出時に
は勿論必要であり、通常時(第1.第2の実施例では、
ヒユーズ素子11゜12を切断しない場合)においても
必要な素子であるが、第1.第2の実施例においては、
ヒユーズ素子11.12に抵抗成分が含まれていれば、
抵抗R1,R2を別途に設ける必要はない。しかしなが
ら、第3の実施例の電源線22.23上に設けられた抵
抗R3,R4は必要不可欠なものである。
2,23)上に必ず抵抗(R1,R2゜R3,R4)を
介挿している。これらの抵抗は不良メモリセル検出時に
は勿論必要であり、通常時(第1.第2の実施例では、
ヒユーズ素子11゜12を切断しない場合)においても
必要な素子であるが、第1.第2の実施例においては、
ヒユーズ素子11.12に抵抗成分が含まれていれば、
抵抗R1,R2を別途に設ける必要はない。しかしなが
ら、第3の実施例の電源線22.23上に設けられた抵
抗R3,R4は必要不可欠なものである。
また、この発明は、少なくとも1つの内部アドレス信号
線において、例えば第1図、第2図あるいは第3図で示
した構成にすればよく、全ての内部アドレス信号線を、
第1図、第2図あるいは第3図で示した構成にする必要
はない。
線において、例えば第1図、第2図あるいは第3図で示
した構成にすればよく、全ての内部アドレス信号線を、
第1図、第2図あるいは第3図で示した構成にする必要
はない。
さらに、第1図〜第3図で示した構成に限定されず、電
源V。0あるいは接地レベルに接続された2つの電源線
と、電源線に接続された内部アドレス信号線上あるいは
一方の電源線上に設けられた第1のヒユーズと、電源線
に接続された内部アドレス信号線上あるいは他方の電源
線上に設けられた第2のヒユーズとを有し、第1のヒユ
ーズを切断することにより、内部アドレス信号の電位を
rHJ、rLJの一方電位に固定し、第2のヒユーズを
切断することにより、内部アドレス信号の電位をrHJ
、rLJの他方電位に固定できる構成であればよい。
源V。0あるいは接地レベルに接続された2つの電源線
と、電源線に接続された内部アドレス信号線上あるいは
一方の電源線上に設けられた第1のヒユーズと、電源線
に接続された内部アドレス信号線上あるいは他方の電源
線上に設けられた第2のヒユーズとを有し、第1のヒユ
ーズを切断することにより、内部アドレス信号の電位を
rHJ、rLJの一方電位に固定し、第2のヒユーズを
切断することにより、内部アドレス信号の電位をrHJ
、rLJの他方電位に固定できる構成であればよい。
以上説明したように、この発明によれば、第1のヒユー
ズを切断すると、電源線接続内部アドレス信号線が、第
1及び第2の電源レベルのうち一方の電源レベルに設定
され、第2のヒユーズを切断すると、電源線接続内部ア
ドレス信号線が、第1及び第2の電源レベルのうち他方
の電源レベルに設定されるため、第1.第2のヒユーズ
を選択的に切断することにより、電源線接続内部アドレ
ス信号線を第1あるいは第2の電源レベルに固定するこ
とができる。その結果、集積化を損ねることなく、不良
メモリセルが存在しても有効利用が図れる効果がある。
ズを切断すると、電源線接続内部アドレス信号線が、第
1及び第2の電源レベルのうち一方の電源レベルに設定
され、第2のヒユーズを切断すると、電源線接続内部ア
ドレス信号線が、第1及び第2の電源レベルのうち他方
の電源レベルに設定されるため、第1.第2のヒユーズ
を選択的に切断することにより、電源線接続内部アドレ
ス信号線を第1あるいは第2の電源レベルに固定するこ
とができる。その結果、集積化を損ねることなく、不良
メモリセルが存在しても有効利用が図れる効果がある。
第1図はこの発明の第1の実施例である半導体記憶装置
の一部を示す回路図、第2図はこの発明の第2の実施例
である半導体記憶装置の一部を示す回路図、第3図はこ
の発明の第3の実施例である半導体記憶装置の一部を示
す回路図、第4図は従来の半導体記憶装置を示す概略平
面図である。 図において、11,12,15,19.21はヒユーズ
素子、13は内部アドレス信号線、14゜18.20は
インバータ、16,17.22 23は電源線、vCC
は電源である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
の一部を示す回路図、第2図はこの発明の第2の実施例
である半導体記憶装置の一部を示す回路図、第3図はこ
の発明の第3の実施例である半導体記憶装置の一部を示
す回路図、第4図は従来の半導体記憶装置を示す概略平
面図である。 図において、11,12,15,19.21はヒユーズ
素子、13は内部アドレス信号線、14゜18.20は
インバータ、16,17.22 23は電源線、vCC
は電源である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- (1)複数の外部アドレス信号入力端子と、各前記外部
アドレス信号入力端子に接続される内部アドレス信号線
と、 第1の電源レベルが得られる第1の電源端子及び第2の
電源レベルが得られる第2の電源端子のうち少なくとも
一方と、 前記第1あるいは第2の電源端子と前記内部アドレス信
号線の少なくとも1つとの間にそれぞれ設けられた第1
及び第2の電源線と、 前記第1及び第2の電源線に接続された内部アドレス信
号線である電源線接続内部アドレス信号線上あるいは前
記第1の電源線上に設けられた第1のヒューズと、 前記電源線接続内部アドレス信号線上あるいは前記第2
の電源線上に設けられた第2のヒューズとを備え、 前記第1のヒューズを切断すると、前記電源線接続内部
アドレス信号線が、前記第1及び第2の電源レベルのう
ち一方の電源レベルに固定され、前記第2のヒューズを
切断すると、前記電源線接続内部アドレス信号線が、前
記第1及び第2の電源レベルのうち他方の電源レベルに
固定されることを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1091017A JPH02192093A (ja) | 1988-10-24 | 1989-04-10 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26738988 | 1988-10-24 | ||
| JP63-267389 | 1988-10-24 | ||
| JP1091017A JPH02192093A (ja) | 1988-10-24 | 1989-04-10 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02192093A true JPH02192093A (ja) | 1990-07-27 |
Family
ID=26432495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1091017A Pending JPH02192093A (ja) | 1988-10-24 | 1989-04-10 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02192093A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5270983A (en) * | 1990-09-13 | 1993-12-14 | Ncr Corporation | Single element security fusible link |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120299A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
| JPS6182255A (ja) * | 1984-09-29 | 1986-04-25 | Toshiba Corp | 半導体メモリ集積回路 |
-
1989
- 1989-04-10 JP JP1091017A patent/JPH02192093A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120299A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
| JPS6182255A (ja) * | 1984-09-29 | 1986-04-25 | Toshiba Corp | 半導体メモリ集積回路 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5270983A (en) * | 1990-09-13 | 1993-12-14 | Ncr Corporation | Single element security fusible link |
| US5309394A (en) * | 1990-09-13 | 1994-05-03 | Ncr Corporation | Single element security fusible link |
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