JPH02225455A - ビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン塩類およびその製造方法 - Google Patents
ビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン塩類およびその製造方法Info
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- JPH02225455A JPH02225455A JP4594989A JP4594989A JPH02225455A JP H02225455 A JPH02225455 A JP H02225455A JP 4594989 A JP4594989 A JP 4594989A JP 4594989 A JP4594989 A JP 4594989A JP H02225455 A JPH02225455 A JP H02225455A
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Classifications
-
- Y02E60/12—
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Primary Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電子機器分野あるいは電子材料分野などにお
ける導電性材料として注目されている有機半導体に関す
るもので、特に新規物質としてのビス(アミジノヒドラ
ゾン)誘導体・7,7゜8.8−テトラシアノキノジメ
タン塩類およびその製造方法に関するものである。
ける導電性材料として注目されている有機半導体に関す
るもので、特に新規物質としてのビス(アミジノヒドラ
ゾン)誘導体・7,7゜8.8−テトラシアノキノジメ
タン塩類およびその製造方法に関するものである。
[発明の概要]
更に詳しくは、下記の式[1]で表わされる新規有機半
導体(新規化合物)としてのビス(アミジノヒドラゾン
)誘導体・7.7.8.8−テトラシアノキノジメタン
塩類およびその製造方法を提供するものである。
導体(新規化合物)としてのビス(アミジノヒドラゾン
)誘導体・7.7.8.8−テトラシアノキノジメタン
塩類およびその製造方法を提供するものである。
ただし、式[1]中、Rはジアセチル、p−キノンまた
はテレフタルアルデヒドを示す。
はテレフタルアルデヒドを示す。
なお、説明の便宜上、7.7.8.8−テトラシアノキ
ノジメタンを以下、TCNQと称す。
ノジメタンを以下、TCNQと称す。
式[1]中のRがジアセチルであるジアセチル−ビス(
アミジノヒドラゾン)・TCNQ塩を式1式% 式[11中のRがp−キノンであるp−キノン−ビス(
アミジノヒドラゾン)・TCNQ塩を式1式% 式[11中のRがテレフタルアルデヒドであるテレフタ
ルアルデヒド−ビス(アミジノヒドラゾン)・TCNQ
塩を式[4]に示す。
アミジノヒドラゾン)・TCNQ塩を式1式% 式[11中のRがp−キノンであるp−キノン−ビス(
アミジノヒドラゾン)・TCNQ塩を式1式% 式[11中のRがテレフタルアルデヒドであるテレフタ
ルアルデヒド−ビス(アミジノヒドラゾン)・TCNQ
塩を式[4]に示す。
次に、上記の式[11および式[2]〜[4]で示した
化合物は、下記の式[5]で表わされるビス(アミジノ
ヒドラゾン)誘導体・第四アンモニウム塩類を 下記の式[6]で表わされるTCNQと反応させること
により製造することができるものである。
化合物は、下記の式[5]で表わされるビス(アミジノ
ヒドラゾン)誘導体・第四アンモニウム塩類を 下記の式[6]で表わされるTCNQと反応させること
により製造することができるものである。
式[5]中のRは式[1]と同様にジアセチル、p−キ
ノンまたはテレフタルアルデヒドを示す。
ノンまたはテレフタルアルデヒドを示す。
[合成方法〕
上述したように、本発明に係る式[1]の新規化合物で
あるビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・TCNQ塩類
は5式[5]のビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・第
四アンモニウム塩類を式[6]のTCNQに反応させる
ことによって容易に好ましい収率で製造することができ
る。
あるビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・TCNQ塩類
は5式[5]のビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・第
四アンモニウム塩類を式[6]のTCNQに反応させる
ことによって容易に好ましい収率で製造することができ
る。
以下に1代表例として式[2]のジアセチル−ビス(ア
ミジノヒドラゾン)・TCNQ塩の製造方法について述
べる。
ミジノヒドラゾン)・TCNQ塩の製造方法について述
べる。
ジアセチル−ビス(アミジノヒドラゾン)・第四アンモ
ニウム塩類は既に公知の化合物であって、アミノグアニ
ジンとジアセチルとからそれ自体公知の手法を利用して
容易に合成することができる。このジアセチル−ビス(
アミジノヒドラゾン)・第四アンモニウム塩類の合成例
を第1表に1として示す。
ニウム塩類は既に公知の化合物であって、アミノグアニ
ジンとジアセチルとからそれ自体公知の手法を利用して
容易に合成することができる。このジアセチル−ビス(
アミジノヒドラゾン)・第四アンモニウム塩類の合成例
を第1表に1として示す。
なお、p−キノン−ビス(アミジノヒドラゾン)・第四
アンモニウム塩類およびテレフタルアルデヒド−ビス(
アミジノヒドラゾン)・第四アンモニウム塩類も上述と
同様にアミノグアニジンとp−キノンまたはテレフタル
アルデヒドとから合成でき1合成例をそれぞれ第1表に
2として、第1表に3として示す。
アンモニウム塩類およびテレフタルアルデヒド−ビス(
アミジノヒドラゾン)・第四アンモニウム塩類も上述と
同様にアミノグアニジンとp−キノンまたはテレフタル
アルデヒドとから合成でき1合成例をそれぞれ第1表に
2として、第1表に3として示す。
第1表
ビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・第四アンモニウム
塩類の合成 式[6]のTCNQおよびその種々の塩ならびにその製
造方法についても既に公知であって、例えばり、R,M
elbyらのJ、Am、Chem、Soc、、84.3
374 (1962)および昭和58年特許出願公開第
191414号公報に明示されている。
塩類の合成 式[6]のTCNQおよびその種々の塩ならびにその製
造方法についても既に公知であって、例えばり、R,M
elbyらのJ、Am、Chem、Soc、、84.3
374 (1962)および昭和58年特許出願公開第
191414号公報に明示されている。
次に、式[5]の化合物と式〔6]のTCNQとから式
[11の化合物を製造する一態様について詳述すると、
例えば式【5]中の一例としてのジアセチル−ビス(ア
ミジノヒドラゾン) ・第四アンモニウム塩類にリチウ
ムTCNQをメタノールおよび水に溶解したものを滴下
し、さらに撹拌し反応させる。この反応液を族1冷却し
た後に、析出した結晶を濾過する。この結晶を水、メタ
ノールで洗浄した後に、真空乾燥させる。
[11の化合物を製造する一態様について詳述すると、
例えば式【5]中の一例としてのジアセチル−ビス(ア
ミジノヒドラゾン) ・第四アンモニウム塩類にリチウ
ムTCNQをメタノールおよび水に溶解したものを滴下
し、さらに撹拌し反応させる。この反応液を族1冷却し
た後に、析出した結晶を濾過する。この結晶を水、メタ
ノールで洗浄した後に、真空乾燥させる。
ところで、式[5]の化合物と式[6]のTCNQとの
反応において、同反応は例えば常圧下、好ましくは窒素
ガス、アルゴンガスのような不活性ガス雰囲気中で、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、アルキルセロソルブなと、あるいはそれらの適当
な混合物のような不活性有機溶媒の沸点下で行なうと良
い0反応に使用する式[6]のTCNQの使用量は、式
[5]の化合物1モルに対して約1〜3モルの如き使用
量を例示することができる。また、不活性有機溶媒の使
用量も適宜選択することができ、式〔51の化合物に対
して約10〜20倍、式[61のTCNQに対して約5
0〜120倍の如き使用量を例示することができる。
反応において、同反応は例えば常圧下、好ましくは窒素
ガス、アルゴンガスのような不活性ガス雰囲気中で、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、アルキルセロソルブなと、あるいはそれらの適当
な混合物のような不活性有機溶媒の沸点下で行なうと良
い0反応に使用する式[6]のTCNQの使用量は、式
[5]の化合物1モルに対して約1〜3モルの如き使用
量を例示することができる。また、不活性有機溶媒の使
用量も適宜選択することができ、式〔51の化合物に対
して約10〜20倍、式[61のTCNQに対して約5
0〜120倍の如き使用量を例示することができる。
[実施例]
更に、本発明に係る式[1]のビス(アミジノヒドラゾ
ン)誘導体・TCNQ塩類の具体的な合成方法の実施例
について述べる。
ン)誘導体・TCNQ塩類の具体的な合成方法の実施例
について述べる。
実施例1
ジアセチル−ビス(アミジノヒドラゾン)・第四アンモ
ニウム・TCNQ塩の合成について述べる。
ニウム・TCNQ塩の合成について述べる。
ジアセチル−ビス(アミジノヒドラゾン)・第四アンモ
ニウム・塩酸塩0.0015モルに、リチウムTCNQ
0.0030モルをメタノールおよび水に溶解したもの
を滴下し、攪拌し反応させる。放置冷却後に、析出した
結晶を濾過する。この結晶を水、メタノールで洗浄した
後に真空乾燥させると、ジアセチル−ビス(アミジノヒ
ドラゾン)・第四アンモニウム・TCNQ塩、融点34
0℃upの紫色結晶を収率63%で得ることができた。
ニウム・塩酸塩0.0015モルに、リチウムTCNQ
0.0030モルをメタノールおよび水に溶解したもの
を滴下し、攪拌し反応させる。放置冷却後に、析出した
結晶を濾過する。この結晶を水、メタノールで洗浄した
後に真空乾燥させると、ジアセチル−ビス(アミジノヒ
ドラゾン)・第四アンモニウム・TCNQ塩、融点34
0℃upの紫色結晶を収率63%で得ることができた。
実施例2
p−キノン−ビス(アミジノヒドラゾン)・第四アンモ
ニウム・TCNQ塩の合成について述べる。
ニウム・TCNQ塩の合成について述べる。
p−キノン−ビス(アミジノヒドラゾン) −第四アン
モニウム・塩酸塩0.0015モルに、リチウムTCN
Q0.0030モルをメタノールおよび水に溶解したも
のを滴下し、撹拌し反応させる。放置冷却後に、析出し
た結晶を濾過する。この結晶を水、メタノールで洗浄し
た後に真空乾燥させると、p−キノン−ビス(アミジノ
ヒドラゾン)・第四アンモニウム・TCNQ塩、融点3
40℃upの黒紫色結晶を収率92%で得ることができ
た。
モニウム・塩酸塩0.0015モルに、リチウムTCN
Q0.0030モルをメタノールおよび水に溶解したも
のを滴下し、撹拌し反応させる。放置冷却後に、析出し
た結晶を濾過する。この結晶を水、メタノールで洗浄し
た後に真空乾燥させると、p−キノン−ビス(アミジノ
ヒドラゾン)・第四アンモニウム・TCNQ塩、融点3
40℃upの黒紫色結晶を収率92%で得ることができ
た。
実施例3
テレフタルアルデヒド−ビス(アミジノヒドラゾン)・
第四アンモニウム・TCNQ塩の合成について述べる。
第四アンモニウム・TCNQ塩の合成について述べる。
テレフタルアルデヒド−ビス(アミジノヒドラゾン)・
第四アンモニウム・塩酸塩0.0015モルに、リチウ
ムTCNQ0.0030モルをメタノールおよび水に溶
解したものを滴下し、攪拌し反応させる。放置冷却後に
、析出した結晶を濾過する。この結晶を水、メタノール
で洗浄した後に真空乾燥させると、テレフタルアルデヒ
ド−ビス(アミジノヒドラゾン)・第四アンモニウム・
TCNQ塩、融点340℃upの青緑色結晶を収率86
%で得ることができた。
第四アンモニウム・塩酸塩0.0015モルに、リチウ
ムTCNQ0.0030モルをメタノールおよび水に溶
解したものを滴下し、攪拌し反応させる。放置冷却後に
、析出した結晶を濾過する。この結晶を水、メタノール
で洗浄した後に真空乾燥させると、テレフタルアルデヒ
ド−ビス(アミジノヒドラゾン)・第四アンモニウム・
TCNQ塩、融点340℃upの青緑色結晶を収率86
%で得ることができた。
[応用例]
上述のようにして得た式[1]のビス(アミジノヒドラ
ゾン)誘導体・TCNQ塩類の用途について述べると、
このT CN Q!!IIIは例えば2枚のアルミニウ
ム箔をセパレータを介して巻回したコンデンサ素子から
なる固体電解コンデンサの固体電解質として、あるいは
タンタル粉末焼結体のコンデンサ素子からなる固体電解
コンデンサの固体電解質として利用し得るものである。
ゾン)誘導体・TCNQ塩類の用途について述べると、
このT CN Q!!IIIは例えば2枚のアルミニウ
ム箔をセパレータを介して巻回したコンデンサ素子から
なる固体電解コンデンサの固体電解質として、あるいは
タンタル粉末焼結体のコンデンサ素子からなる固体電解
コンデンサの固体電解質として利用し得るものである。
また、導電性色素としても使用し得る。
Claims (2)
- (1)下記の式[1]で表わされるビス(アミジノヒド
ラゾン)誘導体・7、7、8、8−テトラシアノキノジ
メタン塩類。 ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 式[1]中、Rはジアセチル、p−キノンまたはテレフ
タルアルデヒドを示す。 - (2)下記の式[5]で表わされるビス(アミジ▲数式
、化学式、表等があります▼[5] 下記の式[6]で表わされる7、7、8、8−テトラシ
アノキノジメタンと反応させ、 ▲数式、化学式、表等があります▼[6] 下記の式[1]で表わされるビス(アミジノヒドラゾン
)誘導体・7、7、8、8−テトラシアノキノジメタン
塩類を ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 得ることを特徴としたビス(アミジノヒドラゾン)誘導
体・7、7、8、8−テトラシアノキノジメタン塩類の
製造方法。 式[1]および式[5]中、Rはジアセチル、p−キノ
ンまたはテレフタルアルテヒドを示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4594989A JPH02225455A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | ビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン塩類およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4594989A JPH02225455A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | ビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン塩類およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02225455A true JPH02225455A (ja) | 1990-09-07 |
Family
ID=12733530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4594989A Pending JPH02225455A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | ビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン塩類およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02225455A (ja) |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP4594989A patent/JPH02225455A/ja active Pending
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