JPH0257586B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、耐光性の改善された合成樹脂組成
物、詳しくは、２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジル基を有する特定の不飽和化合物の重合体
若しくは共重合体、またはそれらの水素化物を含
有せしめてなる耐光性の改善された合成樹脂組成
物に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、
ポリ塩化ビニル等の重合体は一般に光の効果に対
し敏感であり、その作用により劣化し、変色ある
いは強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐
えないことが知られている。 そこでこの光による重合体の劣化を防止するた
めに、従来から種々の安定剤が用いられてきた
が、従来用いられてきた光安定剤はその安定化効
果が不充分であり、また安定剤自体が熱あるいは
酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤によ
つて重合体から抽出されやすいものが多く、さら
に重合体に着色を与えるものが多い等の欠点を持
つており、重合体を長期にわたつて安定化するこ
とができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもヒ
ンダードピペリジン系の化合物はそれ自体が非着
色性でありまた紫外線吸収剤としてではなく、消
光剤として作用するなどの特徴を有しており、近
年特に注目されている。 しかしながら、従来知られているピペリジン系
の化合物は光安定化能が不充分であり、また揮発
性が大きかつたり、水によつて重合体から容易に
抽出されてしまつたり、あるいは重合体との相溶
性に劣りブルーム等の原因となるなどの欠点もあ
つた。 これらの欠点を解消するために、最近高分子量
のヒンダードピペリジン化合物を用いることが提
案されている。 例えば特開昭52−123608号公報にはヒンダード
ピペリジン−ビニルエーテルの重合体が提案さ
れ、特開昭52−141883号公報にはヒンダードピペ
リジル基を有するポリエステル等の重合体が提案
され、特開昭54−21489号公報及び特開昭54−
71185号公報にはヒンダードピペリジル基を有す
る（メタ）アクリレート重合体が提案され、又、
特開昭55−157612号公報にはヒンダードピペリジ
ル基を有するマレイン酸エステル−オレフイン共
重合体が開示されている。 しかしながら、これらの重合体を用いる場合
は、安定剤の揮発性は低減されるもののエーテル
結合あるいはエステル結合を有する為に耐水性が
劣るものが多くその安定化効果は充分ではなく、
また安定化される高分子物質との相溶性に劣り、
ブルーム等の原因となる欠点があり、さらに改良
することが必要であつた。 本発明者等は、かかる現状に鑑み鋭意検討を重
ねた結果、２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル基を有する特定の不飽和化合物の（共）重合
体を用いることにより、上記の欠点が全て解消し
得ることを見い出し本発明に到達した。 即ち、本発明は、合成樹脂100重量部に対し、
次の一般式（）または（）で表わされる化合
物を重合または共重合して得られる分子量800〜
5000の重合体または共重合体0.001〜５重量部を
含有せしめてなる安定化合成樹脂組成物を提供す
るものである。 （式中、R₁は水素原子、酸素遊離基、アルキル
基またはアシル基を示し、ｎは０または１を示
す。） 以下、本発明の組成物について詳述する。 本発明で用いられる、前記一般式（）または
（）で表わされる化合物において、R₁で表わさ
れるアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、アミル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキ
シル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシ
ル、ベンジル、フエニルエチル、２−ヒドロキシ
エチル、２−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキ
シブチル、２，３−エポキシプロピルなどがあげ
られ、アシル基としては、例えばアセチル、プロ
ピオニル、ブチロイル、アクリロイル、メタクリ
ロイル、オクタノイル、ベンゾイルなどがあげら
れる。 従つて、本発明で光安定剤として用いられる
（共）重合体の中間原料として用いられる、前記
一般式（）または（）で表わされる化合物の
代表例としては次の表−１に示す化合物があげら
れる。尚、表−１中基

【式】は

【式】を示す。 これらの前記一般式（）で表わされる化合物
は、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ドンあるいは１−置換−２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリドンと、ビニルマグネシウム
ブロマイドあるいはアリルマグネシウムブロマイ
ドとを反応させることにより容易に合成すること
ができ、また前記一般式（）で表わされる化合
物は、対応する、前記一般式（）で表わされる
化合物を脱水することにより容易に合成すること
ができる。また、R₁が水素原子以外の基である
化合物は、対応する、R₁が水素原子である化合
物と、アルキルハライド、ホルマリン及びギ酸、
過酸化物あるいはアシルハライドとを反応させる
ことによつても容易に合成することができる。 次に表−１に示した、前記一般式（）または
（）で表わされる化合物の合成例を示す。 合成例 １ ２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキ
シ−４−ビニルピペリジン（表−１、No.１化合
物）の合成 金属マグネシウム46.3ｇ、20％臭化ビニル−テ
トラヒドロフラン溶液25ｇ及びヨウ素0.01ｇをと
り、窒素ガス気流下０℃に冷却しながら撹拌し
た。０℃に保ちながら20％臭化ビニル−テトラヒ
ドロフラン溶液1000ｇを滴下し、滴下終了後０℃
で１時間、５〜10℃でさらに30分間撹拌した。こ
れに２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ドン7.5ｇを加え、還流下１時間撹拌し、冷却後、
飽和塩化アンモニウム水溶液500mlを加えて30分
間撹拌した後、30％NaOH水溶液300mlを加え強
塩基性とした。次いで、有機層をとり、脱溶媒
し、得られた粉末をｎ−ヘキサンで再結晶して融
点58〜60℃の白色粉末の生成物63.5ｇを得た。 この生成物は、赤外分光分析の結果920cm^-1、
1035cm^-1及び3080cm^-1にビニル基による吸収があ
り、また次に示す元素分析の結果から目的物であ
ることを確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 72.02 11.57 7.58 計算値 72.13 11.48 7.65 （C₁₁H₂₁NOとして） 合成例 ２ ２，２，６，６−テトラメチル−４−ビニル−
１，２，５，６−テトラヒドロピリジン（表−
１、No.２化合物）の合成 合成例１で得られた化合物14.6ｇ、ｐ−トルエ
ンスルホン酸21.5ｇおよびトルエン50mlをとり、
共沸で水を除きながら、４時間加熱撹拌した。冷
却後、20％NaOH水溶液100mlを加え強塩基性と
した。次いで、有機層をとり、減圧下に脱溶媒し
て液状の生成物を得た。これをTHF150mlに溶解
し、セライト処理して淡黄色液体の生成物を得
た。 この生成物は、赤外分光分析の結果1600cm^-1及
び1640cm^-1に共役ジエンに基づく吸収があり、ま
た次に示す元素分析の結果から目的物であること
を確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 79.90 11.57 8.53 計算値 80.00 11.52 8.48 （C₁₁H₁₉Nとして） 合成例 ３ １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒド
ロキシ−４−ビニルピペリジン（表−１、No.３
化合物）の合成 合成例１で得られた化合物18.3ｇを37％ホルマ
リン溶液17.0ｇに溶解し、50〜60℃で88％ギ酸
10.4ｇを滴下した。滴下終了後、還流下10時間撹
拌した。冷却後、20％NaOH水溶液100mlに注
ぎ、生成した固体を別、水洗、乾燥して融点68
〜71℃の白色粉末の生成物19.0ｇを得た。 この生成物は、赤外分光分析の結果2800cm^-1付
近に＞Ｎ−CH₃による２本の鋭い吸収があり、ま
た次に示す元素分析の結果から目的物であること
を確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 73.21 11.62 7.06 計算値 73.10 11.68 7.11 （C₁₂H₂₃NOとして） 合成例 ４ １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ビニ
ル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン
（表−１、No.４化合物）の合成 合成例３で得られた化合物10ｇ、ｐ−トルエン
スルホン酸13.4ｇおよびトルエン40mlをとり、共
沸で水を除きながら４時間加熱撹拌した。冷却
後、20％NaOH水溶液50mlを加え強塩基性とし
た。次いで有機層を減圧下蒸留して沸点94℃／13
mmHgの微黄色液体の生成物を得た。 この生成物は、赤外分光分析の結果1610cm^-1及
び1660cm^-1に共役ジエンによる吸収があり、また
次に示す元素分析の結果から目的物であることを
確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 80.38 11.80 7.82 計算値 80.45 11.73 7.82 （C₁₂H₂₁Nとして） 合成例 ５ ２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキ
シ−４−アリルピペリジン（表−１、No.５化合
物）の合成 アリルマグネシウムブロマイド145.3ｇ及びテ
トラヒドロフラン500mlの溶液に、２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリドン46.5ｇを加え
還流下２時間撹拌した。冷却後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液300mlを加えて30分間撹拌した後、
30％NaOH水溶液200mlを加えて強塩基性とし
た。次いで、有機層をとり、脱溶媒し、得られた
粉末をｎ−ヘキサンで再結晶して白色粉末の生成
物35.2ｇを得た。 この生成物は、赤外分光分析の結果1640cm^-1に
ビニル基による鋭い吸収があり、また3300cm^-1に
水酸基による幅広い吸収があり、また次に示す元
素分析の結果から目的物であることを確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 72.93 11.79 7.07 計算値 73.10 11.68 7.11 （C₁₂H₂₃NOとして） 合成例 ６ ２，２，６，６−テトラメチル−４−アリル−
１，２，５，６−テトラヒドロピリジン（表−
１、No.６化合物）の合成 合成例５で得られた化合物7.9ｇ、ｐ−トルエ
ンスルホン酸11ｇ及びトルエン30mlをとり、共沸
で水を除きながら４時間加熱撹拌した。冷却後、
20％NaOH水溶液50mlを加え強塩基性とした。
次いで、有機層をとり、減圧下に脱溶媒後セライ
ト処理して淡黄色液体の生成物を得た。 この生成物は、赤外分光分析の結果3300cm^-1付
近の吸収が消失しており、また次に示す元素分析
の結果から目的物であることを確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 80.52 11.84 7.64 計算値 80.45 11.73 7.82 （C₁₂H₂₁Nとして） 合成例 ７ １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒド
ロキシ−４−アリルピペリジン（表−１、No.７
化合物）の合成 合成例５で得られた化合物11.8ｇを用い、合成
例３と同様にしてＮ−メチル化して淡黄色液体の
生成物を得た。 この生成物は、赤外分光分析の結果2800cm^-1付
近に＞Ｎ−CH₃による２本の鋭い吸収があり、ま
た次に示す元素分析の結果から目的物であること
を確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 73.82 11.94 6.57 計算値 73.93 11.85 6.64 （C₁₃H₂₅NOとして） 合成例 ８ １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アリ
ル−１，２，５，６−テトラヒドロピリジン
（表−１、No.８化合物）の合成 合成例７で得られた化合物4.6ｇ、ｐ−トルエ
ンスルホン酸5.8ｇ及びトルエン30mlをとり、共
沸で水を除きながら20時間加熱撹拌した。冷却
後、20％NaOH水溶液30mlを加え強塩基性とし
た。次いで有機層をとり、脱溶媒後、減圧下に蒸
留して沸点100℃／13mmHgの微黄色液体の生成物
を得た。 この生成物は、赤外分光分析の結果3300cm^-1の
水酸基による吸収が消失しており、また次に示す
元素分析の結果から目的物であることを確認し
た。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 80.72 12.05 7.23 計算値 80.83 11.92 7.25 （C₁₃H₂₃Nとして） 合成例 ９ ２，２，６，６−テトラメチル−４−アリル−
１，２，５，６−テトラヒドロピペリジン−１
−オキシル（表−１、No.９化合物）の合成 合成例６で得られた化合物3.6ｇ、タングステ
ン酸ナトリウム20mg、メタノール20ml及び30％過
酸化水素水溶液５mlをとり、室温で24時間撹拌し
た後、氷冷しながら炭酸カリウムを加えて飽和さ
せ、室温で２時間撹拌した。次いで、反応液をエ
ーテルで抽出後、脱溶媒して淡橙色液体の生成物
を得た。 この生成物は、紫外分光分析の結果240mmにＮ
−Ｏ・による吸収があり、また次に示す元素分析
の結果から目的物であることを確認した。 元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 測定値 68.62 9.63 6.70 計算値 68.57 9.52 6.67 （C₁₂H₂₀NO₂として） 本発明において光安定剤として用いられる重合
体は、前記一般式（）または（）で表わされ
る不飽和化合物の単独重合体若しくは共重合し得
る他の不飽和モノマーとの共重合体、またはそれ
らの水素化物であり、例えば、前記一般式（）
または（）で表わされる不飽和化合物（及び他
の不飽和モノマー）をアニオン重合させ、あるい
は有機過酸化物またはアゾニトリル化合物を開始
剤として重合させ、その後必要に応じて水素化す
ることにより容易に合成することができる。 本発明において使用できる他の不飽和モノマー
としては、例えばエチレン、プロピレン、ブテン
−１、イソブチレン、ヘキセン、オクテン、デセ
ン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オ
クタデセン、エイコセン、スチレン、α−メチル
−スチレン、シクロヘキセン、ブタジエン、塩化
ビニル、アクリロニトリル、メチルビニルケト
ン、メチルビニルエーテル、酢酸ビニル、アクリ
ル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、アクリル
酸メチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチ
ル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、
マレイン酸ジブチル、２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル−ビニルエーテル、１，
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
−ビニルエーテル、２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル−アリルエーテル、１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル−ア
リルエーテル、アクリル酸２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル、アクリル酸−１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル、８，８，10，10−テトラメチル−９−アザ−
３−エチル−１，５−ジオキサスピロ〔５・５〕
−３−ウンデシルメチルアクリレート、メタクリ
ル酸−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル、マレイン酸ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、フマル酸
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）、ビス（８，８，９，10，10−ペン
タメチル−９−アザ−３−エチル−１，５−ジオ
キサスピロ〔５・５〕−３−ウンデシルメチル）
フマレート等があげられる。 前記一般式（）または（）で表わされる化
合物と上記他の不飽和モノマーとのモル比は10：
０〜１：９の範囲から適宜選択される。 本発明において用いられる、前記一般式（）
または（）で表わされる不飽和化合物の（共）
重合体は、その分子量が800〜5000のものが好ま
しい。 本発明において光安定剤として用いられる、前
記一般式（）または（）で表わされる化合物
の（共）重合体の代表例を次の表−２に示す。

【表】 次に本発明で用いられる、前記一般式（）ま
たは（）で表わされる化合物の（共）重合体の
具体的な合成例を示す。 合成例 10 No.４化合物（表−１）の単独重合体（表−２、
安定剤Ｄ）の合成 乾燥テトラヒドロフラン10ml及び15％ブチルリ
チウムヘキサン溶液1.7mlをとり、窒素ガス気流
下にNo.４化合物3.6ｇを滴下した。滴下後室温で
７時間撹拌した。次いで、反応液をメタノール
200ml中に注ぎ、生成した沈澱を別、乾燥して
白色粉末の生成物を得た。この生成物の軟化点は
145〜155℃、分子量は1750であつた。 合成例 11 No.４化合物（表−１）の単独重合体（表−２、
安定剤Ｅ）の合成 No.４化合物4.0ｇ、ジクミルパーオキサイド
0.04ｇ及びトルエン６mlをとり、還流下６時間撹
拌した。次いで、トルエンを溜去後テトラヒドロ
フラン60mlを加え、セライト過した後メタノー
ル200ml中に注ぎ、生成した固体を別、乾燥し
て白色粉末の生成物を得た。この生成物の軟化点
は215〜225℃、分子量は4500であつた。 合成例 12 安定剤Ｅの水素化物（表−２、安定剤Ｆ）の合
成 合成例11で得られた重合体1.0ｇをテトラヒド
ロフラン10mlに溶解し、エタノール２ml、５％パ
ラジウム−カーボン0.1ｇを加え、オートクレー
ブに入れ、水素圧180Kg／cm²で６時間150℃に加熱
した。次いで、反応液をセライト過した後メタ
ノール100ml中に注ぎ、白色粉末の生成物を得た。
この生成物を軟化点は215〜225℃、分子量は4500
〜4600であつた。また、NMRによる分析の結果
二重結合が消滅していることが確認された。 本発明は、前記一般式（）または（）で表
わされる不飽和化合物の単独重合体若しくは共重
合体、またはそれらの水素化物を合成樹脂に添加
してその耐光性を改善するものであり、その添加
量は、通常、合成樹脂100重量部に対し0.001〜５
重量部、好ましくは0.01〜３重量部である。 本発明における耐光性改善の対象となる合成樹
脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン、な
どのα−オレフイン重合体またはエチレン−酢酸
ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体
などのポリオレフインおよびこれらの共重合体、
ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニリ
デン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン
共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩
化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソ
ブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン
酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共
重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化
ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩
化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル
−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−
アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化
ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、ク
ロマン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ア
クリル樹脂、スチレンと他の単量体（例えば無水
マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルな
ど）との共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル−ブ
タジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸エス
テル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリメチ
ルメタクリレートなどのメタクリレート樹脂、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフ
エニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネー
ト、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹
脂、あるいはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−
ブタジエン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹
脂のブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。 本発明の組成物にさらにフエノール系の抗酸化
剤を添加することによつて酸化安定性を改善する
ことができる。これらのフエノール系抗酸化剤と
してはたとえば、２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−
クレゾール、２，６−ジフエニル−４−オクトキ
シフエノール、ステアリル−（３，５−ジ−メチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレー
ト、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジ
ステアリル−３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホネート、２，４，６−トリ
ス（3′，5′−ジ−第３ブチル−4′−ヒドロキシベ
ンジルチオ）−１，３，５−トリアジン、ジステ
アリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３
ブチル）ベンジルマロネート、２，2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレンビス（２，６−ジ−第３ブチル
フエノール）、２，2′−メチレンビス〔６−（１−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）、２，2′−エチリデンビス
（４，６−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロ
キシ−４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１，３，５−トリアジン、４，4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）などのフエ
ノール類及び４，4′−ブチリデンビス（２−第３
ブチル−５−メチルフエノール）の炭酸オリゴエ
ステル（例えば重合度２、３、４、５、６、７、
８、９、10など）などの多価フエノール炭酸オリ
ゴエステル類があげられる。 本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。これらの硫黄系抗酸化剤としては、例えばジ
ラウリル−、ジミリスチル−、ジステアリル−な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル
−、オクチル−、ラウリル−、ステアリル−など
のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエ
ステル（例えばペンタエリスリトールテトララウ
リルチオプロピオネート）があげられる。 本発明の組成物に、さらにホスフアイト等の含
リン化合物を添加することによつて、耐光性及び
耐熱性を改善することができる。この含リン化合
物としては、例えばトリオクチルホスフアイト、
トリラウリルホスフアイト、トリデシルホスフア
イト、オクチル−ジフエニルホスフアイト、トリ
ス（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）ホスフア
イト、トリフエニルホスフアイト、トリス（ブト
キシエチル）ホスフアイト、トリス（ノニルフエ
ニル）ホスフアイト、ジステアリルペンタエリス
リトールジホスフアイト、テトラ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−５−第３ブ
チル−４−ヒドロキシフエニル）ブタンジホスフ
アイト、テトラ（C_12〜15混合アルキル）−４，4′−
イソプロピリデンジフエニルジホスフアイト、テ
トラ（トリデシル）−４，4′−ブチリデンビス
（３−メチル−６−第３ブチルフエノール）ジホ
スフアイト、トリス（３，５−ジ−第３ブチル−
４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイト、トリス
（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホスフアイト、
水素化−４，4′−イソプロピリデンジフエノール
ポリホスフアイト、ビス（オクチルフエニル）・
ビス〔４，4′−ブチリデンビス（３−メチル−６
−第３ブチルフエノール）〕・１，６−ヘキサンジ
オールジホスフアイト、フエニル・４，4′−イソ
プロピリデンジフエノール・ペンタエリスリトー
ルジホスフアイト、ビス（２，４−ジ−第３ブチ
ルフエニル）ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、ビス（２，６−ジ−第３ブチル−４−メチル
フエニル）ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス〔４，4′−イソプロピリデンビス（２
−第３ブチルフエノール）〕ホスフアイト、フエ
ニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ（ノニルフ
エニル）ペンタエリスリトールジホスフアイト、
トリス（１，３−ジ−ステアロイルオキシイソプ
ロピル）ホスフアイト、４，4′−イソプロピリデ
ンビス（２−第３ブチルフエノール）・ジ（ノニ
ルフエニル）ホスフアイト、９，10−ジ−ハイド
ロ−９−オキサ−10−フオスフアフエナンスレン
−10−オキサイド、テトラキス（２，４−ジ−第
３ブチルフエニル）−４，4′−ジフエニレンジホ
スホナイトなどがあげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性をさらに改善することができ
る。これらの光安定剤としては、たとえば、２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−
ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノ
ン、２，2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフエノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノ
ン等のヒドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−
ヒドロキシ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−
ヒドロキシ−3′，5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒ
ドロキシ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−ｔ−ア
ミルフエニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾト
リアゾール類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−
ブチルフエニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−
ブチルフエニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
等のベンゾエート類、２，2′−チオビス（４−ｔ
−オクチルフエノール）Ni塩、〔２，2′−チオビ
ス（４−ｔ−オクチルフエノラート）〕−ｎ−ブチ
ルアミンNi、（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエステ
ルNi塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β
−メチル−β−（ｐ−メトキシフエニル）アクリ
ル類メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−
２−エチルフエニル−N′−２−エトキシ−５−
第３ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−
エチルフエニル−N′−２−エトキシフエニルシ
ユウ酸ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類があげ
られる。 その他必要に応じて、本発明組成物は重金属不
活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、
可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡
剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包
含させることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 １ ポリプロピレン 100重量部 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.2 安定剤（表−３） 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なつ
た。また80℃の熱水に15時間浸漬後のシートにつ
いても耐光性試験を行なつた。その結果を表−３
に示す。

【表】 実施例 ２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工性に揮発、分解
等によりその効果が著るしく失なわれることが知
られている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうこ
とにより高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成
した。（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダ
イス温度250℃、回転数20rpm）押し出しを５回
繰り返し行なつた後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。（シリンダー温度
240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg／cm²） 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行なつた。また、押し出し１回のものに
ついても同様に試験した。その結果を表−４に示
す。 ＜配合＞ エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤（表−４） 0.2

【表】 実施例 ３ ポリエチレン 100重量部 Ca−ステアレート 1.0 テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネー
ト〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−５） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−５に示す。

【表】 実施例 ４ エチレン−酢酸ビニルコポリマー 100重量部 ２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 Ca−ステアレート 0.1 Zn−ステアレート 0.1 ジイソデシルフエニルホスフアイト 0.2 安定剤（表−６） 0.2 上記配合物をロール上130℃で混練後、140℃で
プレスシート（厚さ0.4mm）を作成した。このシ
ートをウエザオメーター中で500時間照射後の抗
張力残率を測定した。その結果を表−６に示す。

【表】 実施例 ５ ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフタレート 48 エポキシ化大豆油 ２ トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2 Ca−ステアレート 1.0 Zn−ステアレート 0.1 安定剤（表−７） 0.3 上記配合物をロール上で混練し厚さ１mmのシー
トを作成した。このシートを用いウエザオメータ
ー中での耐光性試験を行なつた。その結果を表−
７に示す。

【表】

【表】 実施例 ６ ABS樹脂 100重量部 ４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブチル−ｍ−
クレゾール） 0.1 安定剤（表−８） 0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表−８に示す。

【表】 実施例 ７ ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100）
100重量部 Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 ２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 安定剤（表−９） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作成
した。このシートをフエードメーターにて30時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−９
に示す。

【表】

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂100重量部に対し、次の一般式（）
   または（）で表わされる化合物を重合または共
   重合して得られる分子量800〜5000の重合体また
   は共重合体0.001〜５重量部を含有せしめてなる
   安定化合成樹脂組成物。 （式中、R₁は水素原子、酸素遊離基、アルキル
   基またはアシル基を示し、ｎは０または１を示
   す。）