JPH0315666B2 - - Google Patents
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- JPH0315666B2 JPH0315666B2 JP9446783A JP9446783A JPH0315666B2 JP H0315666 B2 JPH0315666 B2 JP H0315666B2 JP 9446783 A JP9446783 A JP 9446783A JP 9446783 A JP9446783 A JP 9446783A JP H0315666 B2 JPH0315666 B2 JP H0315666B2
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は合成樹脂用安定剤、特に光による劣化
を防止するに有効な合成樹脂組用安定剤に関す
る。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、ABS樹脂等の合成樹脂は光
により劣化し、軟化、脆化または変色などの現象
を伴つてその物性が著しく低下することはよく知
られている。 このような光による劣化を防止する目的で、従
来より各種の光安定剤、例えば２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−
４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２（２−ヒ
ドロキシ−５−メチルフエニル）ベンゾトリアゾ
ール、２（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５
−メチルフエニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２（２−ヒドロキシ−３，５−ジペンチル
フエニル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シ
アノ−３，３−ジフエニルアクリレート、２，４
−ジ−ｔ−ブチルフエニル−３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエート、〔２，2′−
チオビス（４−ｔ−オクチルフエノラト）〕−ｎ−
ブチルアミン・ニツケル（）、ビス（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ
リツクアシド）モノエチルエステルのNi塩、ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケートなどを使用することが知られて
いるが、これらの光安定剤は耐光性の点でまだ充
分満足すべきものではない。 本発明者らはこれらの点に解決を与えるべく
種々検討の結果、特定のヒンダードピペリジン系
化合物が合成樹脂に対する光による劣化の防止に
非常にすぐれた効果を有することを見出し、本発
明に至つた。 すなわち本発明は、下記一般式（） （式中、R1およびR2は各々独立に水素原子ま
たはメチル基を示し、R3は炭素数１〜４のアル
キレン基を示す。） で示されるヒンダードピペリジン系化合物を有効
成分とする合成樹脂用安定剤を提供するものであ
る。 上記一般式（）で示されるヒンダードピペリ
ジン系化合物は、一般式（） （式中、R1は前記と同じ意味を有する。） で示されるテトラメチルアミノピペリジン類と一
般式（） （式中、Ｘはハロゲン原子を、R4は低級アル
キル基を示し、R3は前記と同じ意味を有する。） で示されるハロゲン化カルボン酸エステルとを反
応させ、さらに一般式（） （式中、R2は前記と同じ意味を有する。） で示される２，２，６，６−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジン類を反応させることにより
製造することができる。 かかるヒンダードピペリジン系化合物の代表例
を表−１に示すが、耐光性能上からは前記一般式
（）における置換基R1およびR2は水素原子であ
ることが好ましく、また、置換基R3は炭素数１
〜２のアルキレン基であることが好ましい。
を防止するに有効な合成樹脂組用安定剤に関す
る。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、ABS樹脂等の合成樹脂は光
により劣化し、軟化、脆化または変色などの現象
を伴つてその物性が著しく低下することはよく知
られている。 このような光による劣化を防止する目的で、従
来より各種の光安定剤、例えば２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−
４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２（２−ヒ
ドロキシ−５−メチルフエニル）ベンゾトリアゾ
ール、２（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５
−メチルフエニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２（２−ヒドロキシ−３，５−ジペンチル
フエニル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シ
アノ−３，３−ジフエニルアクリレート、２，４
−ジ−ｔ−ブチルフエニル−３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエート、〔２，2′−
チオビス（４−ｔ−オクチルフエノラト）〕−ｎ−
ブチルアミン・ニツケル（）、ビス（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ
リツクアシド）モノエチルエステルのNi塩、ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケートなどを使用することが知られて
いるが、これらの光安定剤は耐光性の点でまだ充
分満足すべきものではない。 本発明者らはこれらの点に解決を与えるべく
種々検討の結果、特定のヒンダードピペリジン系
化合物が合成樹脂に対する光による劣化の防止に
非常にすぐれた効果を有することを見出し、本発
明に至つた。 すなわち本発明は、下記一般式（） （式中、R1およびR2は各々独立に水素原子ま
たはメチル基を示し、R3は炭素数１〜４のアル
キレン基を示す。） で示されるヒンダードピペリジン系化合物を有効
成分とする合成樹脂用安定剤を提供するものであ
る。 上記一般式（）で示されるヒンダードピペリ
ジン系化合物は、一般式（） （式中、R1は前記と同じ意味を有する。） で示されるテトラメチルアミノピペリジン類と一
般式（） （式中、Ｘはハロゲン原子を、R4は低級アル
キル基を示し、R3は前記と同じ意味を有する。） で示されるハロゲン化カルボン酸エステルとを反
応させ、さらに一般式（） （式中、R2は前記と同じ意味を有する。） で示される２，２，６，６−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジン類を反応させることにより
製造することができる。 かかるヒンダードピペリジン系化合物の代表例
を表−１に示すが、耐光性能上からは前記一般式
（）における置換基R1およびR2は水素原子であ
ることが好ましく、また、置換基R3は炭素数１
〜２のアルキレン基であることが好ましい。
【表】
本発明におけるヒンダードピペリジン系化合物
を使用する場合、合成樹脂への配合量は合成樹脂
100重量部に対して通常0.01〜５重量部、好まし
くは0.05〜２重量部であり、その配合方法として
は合成樹脂中に安定剤、顔料、充填剤等を混和配
合するための公知の装置および操作法が殆んどそ
のまま適用できる。 本発明の合成樹脂用安定剤を使用するにあたつ
ては他の添加剤、たとえば酸化防止剤、光安定
剤、金属不活性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑
剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料および充填剤など
を併用してもよい。 とりわけフエノール系酸化防止剤を併用するこ
とによつて熱および酸化安定性を改善することが
できる。これらのフエノール系酸化防止剤として
は、たとえば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフエノール、ｎ−オクタデシル−β−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プ
ロピオネート、１，１，３−トリス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフエニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−ト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、１，３，５−トリス〔β−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレ
ート、１，３，５−トリス（２，６−ジ−メチル
−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ペンタエリスリトール−テトラ
キス〔β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフエニル）プロピオネート〕などがあげら
れる。 また、ホスフアイト系酸化防止剤を併用するこ
とによつて、その色相を改善することができる。 これらのホスフアイト系酸化防止剤としては、
たとえばトリス（ノニルフエニル）ホスフアイ
ト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフ
アイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフエニ
ル）ホスフアイト、トリス（２−ｔ−ブチル−４
−メチルフエニル）ホスフアイト、ビス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフエニル）ペンタエリスリトー
ルジホスフアイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフエニル）−４，4′−ビフエニレンジホ
スフオナイトなどがあげられる。 また、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミ
リスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチ
オジプロピオネート、ペンタエリスリトールテト
ラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）、ペ
ンタエリスリトール−テトラキス（β−ヘキシル
チオプロピオネート）などイオウ系酸化防止剤を
併用することもできる。 本発明の合成樹脂用安定剤により安定化される
合成樹脂としては、低密度ポリエチレン、高密度
ポリエチレン、リニヤー低密度ポリエチレン、塩
素化ポリエチレン、EVA樹脂、ポリプロピレン、
ポリ塩化ビニル、メタクリル樹脂、ポリスチレ
ン、耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、AES樹
脂、MBS樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポ
リウレタン、不飽和ポリエステル樹脂などがあげ
られる。 次に実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれにより限定されるものではな
い。 実施例 １ 下記配合物をミキサーで５分間混和した後、
180℃ミキシングロールで溶融混練して得たコン
パウンドを210℃の熱プレスで厚さ１mmのシート
に成形し、150×30×１mmの試験片を作成した。 この試験片をサンシヤインウエザーメーター
（光源：カーボンアーク、ブラツクパネル温度：
83±３℃、スプレー周期：120分、スプレー時
間：18分）中で光照射させ、60時間毎にエビ状に
折り曲げ、折り切れるまでの時間を測定し、耐候
性を評価した。 その結果を表−２に示す。 〈配合〉 未安定化ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフエノー
ル 0.05 供試化合物 0.2 なお、表においてUVA−１〜UVA−８は以下
の化合物を示すものである。 UVA−１２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フエノン UVA−２２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ
ベンゾフエノン UVA−３２（２−ヒドロキシ−５−メチルフエニ
ル）ベンゾトリアゾール UVA−４２（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−
５−メチルフエニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール UVA−５２（２−ヒドロキシ−３，５−ジペンチ
ルフエニル）ベンゾトリアゾール UVA−６エチル−２−シアノ−３，3′−ジフエ
ニルアクリレート UVA−７ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジルホスホリツクアシツド）
モノエチルエステルのNi塩 UVA−８ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート
を使用する場合、合成樹脂への配合量は合成樹脂
100重量部に対して通常0.01〜５重量部、好まし
くは0.05〜２重量部であり、その配合方法として
は合成樹脂中に安定剤、顔料、充填剤等を混和配
合するための公知の装置および操作法が殆んどそ
のまま適用できる。 本発明の合成樹脂用安定剤を使用するにあたつ
ては他の添加剤、たとえば酸化防止剤、光安定
剤、金属不活性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑
剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料および充填剤など
を併用してもよい。 とりわけフエノール系酸化防止剤を併用するこ
とによつて熱および酸化安定性を改善することが
できる。これらのフエノール系酸化防止剤として
は、たとえば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフエノール、ｎ−オクタデシル−β−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プ
ロピオネート、１，１，３−トリス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフエニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−ト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、１，３，５−トリス〔β−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレ
ート、１，３，５−トリス（２，６−ジ−メチル
−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ペンタエリスリトール−テトラ
キス〔β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフエニル）プロピオネート〕などがあげら
れる。 また、ホスフアイト系酸化防止剤を併用するこ
とによつて、その色相を改善することができる。 これらのホスフアイト系酸化防止剤としては、
たとえばトリス（ノニルフエニル）ホスフアイ
ト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスフ
アイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフエニ
ル）ホスフアイト、トリス（２−ｔ−ブチル−４
−メチルフエニル）ホスフアイト、ビス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフエニル）ペンタエリスリトー
ルジホスフアイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフエニル）−４，4′−ビフエニレンジホ
スフオナイトなどがあげられる。 また、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミ
リスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチ
オジプロピオネート、ペンタエリスリトールテト
ラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）、ペ
ンタエリスリトール−テトラキス（β−ヘキシル
チオプロピオネート）などイオウ系酸化防止剤を
併用することもできる。 本発明の合成樹脂用安定剤により安定化される
合成樹脂としては、低密度ポリエチレン、高密度
ポリエチレン、リニヤー低密度ポリエチレン、塩
素化ポリエチレン、EVA樹脂、ポリプロピレン、
ポリ塩化ビニル、メタクリル樹脂、ポリスチレ
ン、耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、AES樹
脂、MBS樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポ
リウレタン、不飽和ポリエステル樹脂などがあげ
られる。 次に実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれにより限定されるものではな
い。 実施例 １ 下記配合物をミキサーで５分間混和した後、
180℃ミキシングロールで溶融混練して得たコン
パウンドを210℃の熱プレスで厚さ１mmのシート
に成形し、150×30×１mmの試験片を作成した。 この試験片をサンシヤインウエザーメーター
（光源：カーボンアーク、ブラツクパネル温度：
83±３℃、スプレー周期：120分、スプレー時
間：18分）中で光照射させ、60時間毎にエビ状に
折り曲げ、折り切れるまでの時間を測定し、耐候
性を評価した。 その結果を表−２に示す。 〈配合〉 未安定化ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフエノー
ル 0.05 供試化合物 0.2 なお、表においてUVA−１〜UVA−８は以下
の化合物を示すものである。 UVA−１２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フエノン UVA−２２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ
ベンゾフエノン UVA−３２（２−ヒドロキシ−５−メチルフエニ
ル）ベンゾトリアゾール UVA−４２（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−
５−メチルフエニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール UVA−５２（２−ヒドロキシ−３，５−ジペンチ
ルフエニル）ベンゾトリアゾール UVA−６エチル−２−シアノ−３，3′−ジフエ
ニルアクリレート UVA−７ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジルホスホリツクアシツド）
モノエチルエステルのNi塩 UVA−８ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート
【表】
【表】
実施例 ２
25％ウレタンドープ（25部のポリウレタン樹
脂、3.75部のジメチルホルムアミドおよび71.25
部のテトラヒドロフラン）に表−３に示す供試化
合物を上記ポリウレタン樹脂に対して１％添加し
た後、ポリエステルフイルム上に1.2mm厚にコー
テイングし45℃の乾燥器中で１時間乾燥した。こ
うして得られたシートを３号ダンベルで打抜き、
フエードメーター（光源：紫外線カーボンアー
ク、ブラツクパネル温度：63±３℃）で60時間お
よび120時間光照射後、引張り試験（引張り速
度：200mm／min、測定温度：25℃）を行ない破
断強度保持率を求めた。 その結果を表−３に示す。
脂、3.75部のジメチルホルムアミドおよび71.25
部のテトラヒドロフラン）に表−３に示す供試化
合物を上記ポリウレタン樹脂に対して１％添加し
た後、ポリエステルフイルム上に1.2mm厚にコー
テイングし45℃の乾燥器中で１時間乾燥した。こ
うして得られたシートを３号ダンベルで打抜き、
フエードメーター（光源：紫外線カーボンアー
ク、ブラツクパネル温度：63±３℃）で60時間お
よび120時間光照射後、引張り試験（引張り速
度：200mm／min、測定温度：25℃）を行ない破
断強度保持率を求めた。 その結果を表−３に示す。
【表】
【表】
実施例 ３
下記配合物を150℃ミキシングロールで溶融混
練したのち160℃の熱プレスで厚さ0.5mmのシート
を作成した。 このシートをサンシヤインウエザーメーター
（光源：カーボンアーク、ブラツクパネル温度：
63±３℃、スプレー周期：120分、スプレー時
間：18分）中で1200時間照射し、変色の度合を観
察した。 その結果を表−４に示す。 〈配合〉 ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフレート 38 エポキシ化大豆油 ２ Ba−ステアレート １ Zn−ステアレート 0.3 供試化合物 0.2
練したのち160℃の熱プレスで厚さ0.5mmのシート
を作成した。 このシートをサンシヤインウエザーメーター
（光源：カーボンアーク、ブラツクパネル温度：
63±３℃、スプレー周期：120分、スプレー時
間：18分）中で1200時間照射し、変色の度合を観
察した。 その結果を表−４に示す。 〈配合〉 ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフレート 38 エポキシ化大豆油 ２ Ba−ステアレート １ Zn−ステアレート 0.3 供試化合物 0.2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R1およびR2は各々独立に水素原子ま
たはメチル基を示し、R3は炭素数１〜４のアル
キレン基を示す。） で示されるヒンダードピペリジン系化合物を有効
成分とする合成樹脂用安定剤。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9446783A JPS59219346A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | 合成樹脂用安定剤 |
| CA000453571A CA1266272A (en) | 1983-05-27 | 1984-05-04 | A 2,2,6,6-tetramethylpiperidine derivative, its production and a stabilizer for synthetic resins containing the same |
| DE8484303148T DE3484028D1 (de) | 1983-05-27 | 1984-05-09 | 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-derivat, seine herstellung und seine verwendung als stabilisator fuer synthetische harze. |
| EP84303148A EP0127356B1 (en) | 1983-05-27 | 1984-05-09 | A 2,2,6,6-tetramethylpiperidine derivative, its production and its use as a stabilizer for synthetic resins |
| US06/610,818 US4578472A (en) | 1983-05-27 | 1984-05-15 | 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9446783A JPS59219346A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | 合成樹脂用安定剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59219346A JPS59219346A (ja) | 1984-12-10 |
| JPH0315666B2 true JPH0315666B2 (ja) | 1991-03-01 |
Family
ID=14111082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9446783A Granted JPS59219346A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | 合成樹脂用安定剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59219346A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2719719B2 (ja) * | 1989-04-14 | 1998-02-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 記録材料 |
| ES2538802T3 (es) | 2013-01-25 | 2015-06-24 | Uhde Inventa-Fischer Gmbh | Derivados de aminopiperinina 4-N-(disustituidos) como aditivos para masas de moldeo de poliamida y su uso |
-
1983
- 1983-05-27 JP JP9446783A patent/JPS59219346A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59219346A (ja) | 1984-12-10 |
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