JPH0317819B2 - - Google Patents
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- JPH0317819B2 JPH0317819B2 JP182087A JP182087A JPH0317819B2 JP H0317819 B2 JPH0317819 B2 JP H0317819B2 JP 182087 A JP182087 A JP 182087A JP 182087 A JP182087 A JP 182087A JP H0317819 B2 JPH0317819 B2 JP H0317819B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/10—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing sonic or ultrasonic vibrations
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は1−ニトロナフタリンを原料とする新
規な5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製造法
に関するものである。5−ニトロ−1,4−ナフ
トキノンは染料の原料等として工業的に有用であ
る。
規な5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製造法
に関するものである。5−ニトロ−1,4−ナフ
トキノンは染料の原料等として工業的に有用であ
る。
[従来の技術]
一般的に第2セリウムイオンを含む酸性水溶液
(以下、「第2セリウムイオン−酸性水溶液」とい
う)を用いて芳香族化合物を液相酸化し、対応す
るキノン類を得る方法は知られている。例えば、
水と混和しない有機溶媒に溶解したナフタリン
を第2セリウムイオン−酸性水溶液を用いて酸化
し、1,4ナフトキノンを製造する方法((特公
昭49−34978号公報)、粉末状のナフタリンを分
散剤によつて第2セリウム塩の水溶液中に懸濁さ
せることを特徴とする1,4−ナフトキノンの製
造方法(特開昭56−61321号公報)等がある。こ
れら酸化反応に用いられる第2セリウムイオン−
酸性水溶液としては硝酸第2セリウムアンモニウ
ム−硝酸水溶液や硫酸第2セリウム−硫酸水溶液
が一般的に用いられる。
(以下、「第2セリウムイオン−酸性水溶液」とい
う)を用いて芳香族化合物を液相酸化し、対応す
るキノン類を得る方法は知られている。例えば、
水と混和しない有機溶媒に溶解したナフタリン
を第2セリウムイオン−酸性水溶液を用いて酸化
し、1,4ナフトキノンを製造する方法((特公
昭49−34978号公報)、粉末状のナフタリンを分
散剤によつて第2セリウム塩の水溶液中に懸濁さ
せることを特徴とする1,4−ナフトキノンの製
造方法(特開昭56−61321号公報)等がある。こ
れら酸化反応に用いられる第2セリウムイオン−
酸性水溶液としては硝酸第2セリウムアンモニウ
ム−硝酸水溶液や硫酸第2セリウム−硫酸水溶液
が一般的に用いられる。
[発明が解決しようとする問題点]
第2セリウムイオン−酸性水溶液を用いて1−
ニトロナフタリンを液相酸化する5−ニトロ−
1,4−ナフトキノンの製造方法では、通常第2
セリウムイオン−酸性水溶液中の第2セリウムイ
オンの濃度が高濃度であるほど、あるいは酸化反
応温度が高温であるほど反応速度が大きく単位時
間当りの目的の生成物の収量の面で有利である反
面、目的生成物の選択性の面からは第2セリウム
イオン−酸性水溶液中の第2セリウムイオンの濃
度が低濃度であるほど、あるいは酸化反応温度が
低温であるほど有利である。第2セリウムイオン
−酸性水溶液が硝酸第2セリウムアンモニウム−
硝酸水溶液である場合には第2セリウムイオン濃
度を高濃度に保持できるが、高濃度すぎると3−
ニトロフタル酸、o−ニトロ安息香酸等の副生物
が生成するため第2セリウムイオン濃度を高める
にも限度がある。選択性をよくするため反応温度
を低くするにも温度による反応速度の低下と限ら
れた第2セリウムイオン濃度による反応速度の限
界とがあり、選択性をよくするか生産性を高める
か各々の妥協したところで条件設定することとな
る。また、硫酸第2セリウム−硫酸水溶液を用い
た場合には、硫酸第2セリウムによる酸化反応で
生成する硫酸第1セリウムの溶解度が小さく、反
応中セリウム塩の析出を避けるために必然的に硫
酸セリウム−硫酸水溶液中の第2セリウムイオン
の濃度が低濃度になり、反応速度が遅くなる欠点
を有する。
ニトロナフタリンを液相酸化する5−ニトロ−
1,4−ナフトキノンの製造方法では、通常第2
セリウムイオン−酸性水溶液中の第2セリウムイ
オンの濃度が高濃度であるほど、あるいは酸化反
応温度が高温であるほど反応速度が大きく単位時
間当りの目的の生成物の収量の面で有利である反
面、目的生成物の選択性の面からは第2セリウム
イオン−酸性水溶液中の第2セリウムイオンの濃
度が低濃度であるほど、あるいは酸化反応温度が
低温であるほど有利である。第2セリウムイオン
−酸性水溶液が硝酸第2セリウムアンモニウム−
硝酸水溶液である場合には第2セリウムイオン濃
度を高濃度に保持できるが、高濃度すぎると3−
ニトロフタル酸、o−ニトロ安息香酸等の副生物
が生成するため第2セリウムイオン濃度を高める
にも限度がある。選択性をよくするため反応温度
を低くするにも温度による反応速度の低下と限ら
れた第2セリウムイオン濃度による反応速度の限
界とがあり、選択性をよくするか生産性を高める
か各々の妥協したところで条件設定することとな
る。また、硫酸第2セリウム−硫酸水溶液を用い
た場合には、硫酸第2セリウムによる酸化反応で
生成する硫酸第1セリウムの溶解度が小さく、反
応中セリウム塩の析出を避けるために必然的に硫
酸セリウム−硫酸水溶液中の第2セリウムイオン
の濃度が低濃度になり、反応速度が遅くなる欠点
を有する。
本発明は上記の欠点を解消し、1−ニトロナフ
タリンから5−ニトロ−1,4−ナフトキノンを
高選択的に副生物少なく、生産性良く、かつ作業
環境及び公害等の面で有利に得る方法を提供する
ものである。
タリンから5−ニトロ−1,4−ナフトキノンを
高選択的に副生物少なく、生産性良く、かつ作業
環境及び公害等の面で有利に得る方法を提供する
ものである。
[問題を解決するための手段]
本発明者等は、前記従来法の欠点について鋭意
検討の結果、1−ニトロナフタリンを第2セリウ
ムイオン−酸性水溶液を用いて液相酸化する工程
において超音波照射下に液相酸化させることによ
り副生物の少ない5−ニトロ−1,4−ナフトキ
ノンを高選択的に得られることを見出した。従来
この工程は攪拌機、外部循環、ガスの吹込み等に
よる強制攪拌下に行なわれてきたが、本発明にお
いては超音波照射下に好ましくは強制攪拌を組合
せて行なわれる。超音波照射により、単なる強制
攪拌のみの場合よりはるかに大きい反応速度が得
られ、反応温度を低くすることができあるいは反
応時間の短縮ができて生産性が上がり、かつ高選
択的に反応が進行する。即ち、本発明は、第2セ
リウムイオン−酸性水溶液を用い、超音波照射下
に1−ニトロナフタリンを液相酸化することを特
徴とする5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製
造法である。以下に更に詳しく説明する。
検討の結果、1−ニトロナフタリンを第2セリウ
ムイオン−酸性水溶液を用いて液相酸化する工程
において超音波照射下に液相酸化させることによ
り副生物の少ない5−ニトロ−1,4−ナフトキ
ノンを高選択的に得られることを見出した。従来
この工程は攪拌機、外部循環、ガスの吹込み等に
よる強制攪拌下に行なわれてきたが、本発明にお
いては超音波照射下に好ましくは強制攪拌を組合
せて行なわれる。超音波照射により、単なる強制
攪拌のみの場合よりはるかに大きい反応速度が得
られ、反応温度を低くすることができあるいは反
応時間の短縮ができて生産性が上がり、かつ高選
択的に反応が進行する。即ち、本発明は、第2セ
リウムイオン−酸性水溶液を用い、超音波照射下
に1−ニトロナフタリンを液相酸化することを特
徴とする5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製
造法である。以下に更に詳しく説明する。
該液相酸化反応で照射する超音波は10KHz以上
の周波数のものが好ましく、その照射方式は外部
照射方式、内部照射方式のいずれでもよく、また
超音波発生装置としても個々の周波数、出力を有
する装置が使用でき、超音波放射体としては平板
型、リング型、円板型等のいずれの型式でもよ
い。照射は反応中連続的または断続的に行われ、
また反応速度の低下する反応の後期のみに実施す
ることも有効である。
の周波数のものが好ましく、その照射方式は外部
照射方式、内部照射方式のいずれでもよく、また
超音波発生装置としても個々の周波数、出力を有
する装置が使用でき、超音波放射体としては平板
型、リング型、円板型等のいずれの型式でもよ
い。照射は反応中連続的または断続的に行われ、
また反応速度の低下する反応の後期のみに実施す
ることも有効である。
第2セリウムイオン−酸性水溶液としては各種
の第2セリウム塩の各種酸性水溶液が使用でき
る。あるいは、硝酸第1セリウムアンモニウム、
硝酸第1セリウムまたは硫酸第1セリウム等の第
1セリウム塩を酸性水溶液に溶解し酸化して得ら
れる第2セリウムイオン−酸性水溶液も使用でき
る。硝酸第2セリウムアンモニウム((NH4)2
[Ce(NO3)6])−硝酸水溶液を用いる場合には、
前記のごとく硝酸セリウムアンモニウムの水に対
する溶解度が比較的大きいので低温でも第2セリ
ウムイオンの濃度を高く保持し得るが、本発明で
は超音波照射下に行うため更に充分な反応速度で
かつ高選択的に反応させることができ好適に使用
できる。また第2セリウムイオン−酸性水溶液と
して、硝酸第1セリウムを硝酸水溶液に溶解し酸
化して得られる硝酸第2セリウム−硝酸水溶液を
用いる場合も第2セリウムイオンの濃度を高く保
持でき好適に使用できる。これらの第2セリウム
イオン−硝酸性水溶液中の第2セリウムイオン濃
度は好ましくは0.1〜6モル/、より好ましく
は0.2〜5モル/の範囲である。濃度が低くす
ぎると酸化力が弱く、反応速度が遅くなるだけで
なく更に反応液量も大となつて不利である。逆に
高すぎると前述の問題や、液の粘度が上昇してプ
ロセス上の諸操作に支障をきたす恐れが生じる。
の第2セリウム塩の各種酸性水溶液が使用でき
る。あるいは、硝酸第1セリウムアンモニウム、
硝酸第1セリウムまたは硫酸第1セリウム等の第
1セリウム塩を酸性水溶液に溶解し酸化して得ら
れる第2セリウムイオン−酸性水溶液も使用でき
る。硝酸第2セリウムアンモニウム((NH4)2
[Ce(NO3)6])−硝酸水溶液を用いる場合には、
前記のごとく硝酸セリウムアンモニウムの水に対
する溶解度が比較的大きいので低温でも第2セリ
ウムイオンの濃度を高く保持し得るが、本発明で
は超音波照射下に行うため更に充分な反応速度で
かつ高選択的に反応させることができ好適に使用
できる。また第2セリウムイオン−酸性水溶液と
して、硝酸第1セリウムを硝酸水溶液に溶解し酸
化して得られる硝酸第2セリウム−硝酸水溶液を
用いる場合も第2セリウムイオンの濃度を高く保
持でき好適に使用できる。これらの第2セリウム
イオン−硝酸性水溶液中の第2セリウムイオン濃
度は好ましくは0.1〜6モル/、より好ましく
は0.2〜5モル/の範囲である。濃度が低くす
ぎると酸化力が弱く、反応速度が遅くなるだけで
なく更に反応液量も大となつて不利である。逆に
高すぎると前述の問題や、液の粘度が上昇してプ
ロセス上の諸操作に支障をきたす恐れが生じる。
第2セリウムイオン−酸性水溶液の酸濃度とし
ては、低過ぎると第2セリウムイオンが不安定に
なる一方、高過ぎると第2セリウムイオンの濃度
が低下したり装置の腐蝕の面から不利であるた
め、酸性水溶液中の酸濃度は好ましくは0.3〜10
モル/、より好ましくは0.5〜5モル/の範
囲である。
ては、低過ぎると第2セリウムイオンが不安定に
なる一方、高過ぎると第2セリウムイオンの濃度
が低下したり装置の腐蝕の面から不利であるた
め、酸性水溶液中の酸濃度は好ましくは0.3〜10
モル/、より好ましくは0.5〜5モル/の範
囲である。
液相酸化反応の好ましい反応温度は、通常0〜
80℃、より好ましくは15〜60℃である。温度が低
すぎると反応速度の減少をきたすほか冷却のため
の費用がかかり、温度が高すぎると第2セリウム
塩の加水分解が生じたり重合等副反応生成物の混
入や着色あるいは装置の腐蝕性の面から不利であ
る。
80℃、より好ましくは15〜60℃である。温度が低
すぎると反応速度の減少をきたすほか冷却のため
の費用がかかり、温度が高すぎると第2セリウム
塩の加水分解が生じたり重合等副反応生成物の混
入や着色あるいは装置の腐蝕性の面から不利であ
る。
また液相酸化反応においては、1−ニトロナフ
タリンを水と混和しない有機溶媒に溶解せしめて
も、あるいは溶媒を用いずに1−ニトロナフタリ
ンのみを添加してもよく、該系は液状でもスラリ
ー状でもよい。上記有機溶媒としては、ベンゼ
ン、ターシヤリーブチルベンゼン、クロルベンゼ
ン等の芳香族炭化水素又はその置換体、シクロヘ
キサン、n−ヘキサン、n−ペンタン、n−オク
タン等の脂肪族炭化水素、四塩化炭素、クロルメ
チレン、ジクロルエタン等の塩素化脂肪族炭化水
素等の有機溶媒が使用できる。
タリンを水と混和しない有機溶媒に溶解せしめて
も、あるいは溶媒を用いずに1−ニトロナフタリ
ンのみを添加してもよく、該系は液状でもスラリ
ー状でもよい。上記有機溶媒としては、ベンゼ
ン、ターシヤリーブチルベンゼン、クロルベンゼ
ン等の芳香族炭化水素又はその置換体、シクロヘ
キサン、n−ヘキサン、n−ペンタン、n−オク
タン等の脂肪族炭化水素、四塩化炭素、クロルメ
チレン、ジクロルエタン等の塩素化脂肪族炭化水
素等の有機溶媒が使用できる。
[実施例]
次に本発明を実施例及び比較例により詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
実施例 1
硝酸第2セリウムアンモニウム1096.5gを1.8
モル/の硝酸水溶液に溶解し1とした溶液
(従つて第2セリウムイオンの濃度は2.0モル/
)を、還流冷却器、攪拌装置を取付けたガラス
容器に入れ40℃に保持した。これに1−ニトロナ
フタリン60.55gとシクロヘキサン200gを添加し
攪拌するとともに28KHz、400Wの超音波を約30
分間外部照射し反応させた。反応終了後、攪拌及
び超音波照射を停止し、反応液を分液ロートに移
し、油層と水層を分離し、水層については200g
のシクロヘキサンを用いて3回抽出した。抽出油
層と前記分離後の油層とを混合して全有機溶液中
の5−ニトロ−1,4−ナフトキノン及び未反応
1−ニトロナフタリンをガスクロマトグラフイー
により定量した結果、5−ニトロ−1,4−ナフ
トキノン66.15gが得られ、未反応1−ニトロナ
フタリンは3.03gであつた。従つて、1−ニトロ
ナフタリンの転化率95.0%、反応1−ニトロナフ
タリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキノン
の収率は98.0モル%であつた。上記全有機層を減
圧下約50℃で濃縮し、5−ニトロ−1,4−ナフ
トキノンを析出させ、濾別後の沈澱を80℃にて2
時間減圧乾燥させた後、ガスクロマトグラフイー
で測定したところ99.2%の純度であつた。なお、
上記水層中にはセリウム塩の結晶は析出していな
かつた。
モル/の硝酸水溶液に溶解し1とした溶液
(従つて第2セリウムイオンの濃度は2.0モル/
)を、還流冷却器、攪拌装置を取付けたガラス
容器に入れ40℃に保持した。これに1−ニトロナ
フタリン60.55gとシクロヘキサン200gを添加し
攪拌するとともに28KHz、400Wの超音波を約30
分間外部照射し反応させた。反応終了後、攪拌及
び超音波照射を停止し、反応液を分液ロートに移
し、油層と水層を分離し、水層については200g
のシクロヘキサンを用いて3回抽出した。抽出油
層と前記分離後の油層とを混合して全有機溶液中
の5−ニトロ−1,4−ナフトキノン及び未反応
1−ニトロナフタリンをガスクロマトグラフイー
により定量した結果、5−ニトロ−1,4−ナフ
トキノン66.15gが得られ、未反応1−ニトロナ
フタリンは3.03gであつた。従つて、1−ニトロ
ナフタリンの転化率95.0%、反応1−ニトロナフ
タリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキノン
の収率は98.0モル%であつた。上記全有機層を減
圧下約50℃で濃縮し、5−ニトロ−1,4−ナフ
トキノンを析出させ、濾別後の沈澱を80℃にて2
時間減圧乾燥させた後、ガスクロマトグラフイー
で測定したところ99.2%の純度であつた。なお、
上記水層中にはセリウム塩の結晶は析出していな
かつた。
実施例 2
反応温度を20℃、超音波照射を40KHz、600W
とし、シクロヘキサンの代りにターシヤリーブチ
ルベンゼンを用いた他は実施例1と同様に反応、
後処理、分析を行なつた。その結果、1−ニトロ
ナフタリンの転化率93.0%、反応1−ニトロナフ
タリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキノン
の収率98.5モル%であつた。全有機層を濃縮、析
出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ−1,4−
ナフトキノンの純度は99.3%であつた。
とし、シクロヘキサンの代りにターシヤリーブチ
ルベンゼンを用いた他は実施例1と同様に反応、
後処理、分析を行なつた。その結果、1−ニトロ
ナフタリンの転化率93.0%、反応1−ニトロナフ
タリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキノン
の収率98.5モル%であつた。全有機層を濃縮、析
出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ−1,4−
ナフトキノンの純度は99.3%であつた。
実施例 3
反応温度を0℃とした他は実施例1と同様に反
応、後処理、分析を行なつた。その結果、1−ニ
トロナフタリンの転化率93.0%、反応1−ニトロ
ナフタリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキ
ノンの収率98.2モル%であつた。全有機層を濃
縮、析出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ−
1,4−ナフトキノンの純度は99.1%であつた。
応、後処理、分析を行なつた。その結果、1−ニ
トロナフタリンの転化率93.0%、反応1−ニトロ
ナフタリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキ
ノンの収率98.2モル%であつた。全有機層を濃
縮、析出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ−
1,4−ナフトキノンの純度は99.1%であつた。
実施例 4
反応温度を80℃とし、シクロヘキサンを用いな
い他は実施例1と同様に反応を行なつた。反応終
了後、攪拌及び超音波照射を停止し、反応混合物
を濾過、沈澱を純水で洗浄した。濾液及び洗液を
合わせ、200gのベンゼンを用いて3回抽出し、
抽出油層と前記沈澱とを混合した後、実施例1と
同様に分析を行なつた。その結果は、1−ニトロ
ナフタリンの転化率93.0%、反応1−ニトロナフ
タリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキノン
の収率96.0モル%であつた。全有機層を濃縮、析
出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ−1,4−
ナフトキノンの純度は98.2%であつた。
い他は実施例1と同様に反応を行なつた。反応終
了後、攪拌及び超音波照射を停止し、反応混合物
を濾過、沈澱を純水で洗浄した。濾液及び洗液を
合わせ、200gのベンゼンを用いて3回抽出し、
抽出油層と前記沈澱とを混合した後、実施例1と
同様に分析を行なつた。その結果は、1−ニトロ
ナフタリンの転化率93.0%、反応1−ニトロナフ
タリン当りの5−ニトロ−1,4−ナフトキノン
の収率96.0モル%であつた。全有機層を濃縮、析
出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ−1,4−
ナフトキノンの純度は98.2%であつた。
実施例 5
第2セリウムイオン濃度を0.1モル/とした
他は実施例1と同様に反応、後処理、分析を行な
つた。その結果、1−ニトロナフタリンの転化率
88.0%、反応1−ニトロナフタリン当りの5−ニ
トロ−1,4−ナフトキノンの収率98.8モル%で
あつた。全有機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させ
て得た5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの純度
は99.4%であつた。
他は実施例1と同様に反応、後処理、分析を行な
つた。その結果、1−ニトロナフタリンの転化率
88.0%、反応1−ニトロナフタリン当りの5−ニ
トロ−1,4−ナフトキノンの収率98.8モル%で
あつた。全有機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させ
て得た5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの純度
は99.4%であつた。
実施例 6
第2セリウムイオン濃度を5モル/とした他
は実施例1と同様に反応、後処理、分析を行なつ
た。その結果、1−ニトロナフタリンの転化率
97.0%、反応1−ニトロナフタリン当りの5−ニ
トロ−1,4−ナフトキノンの収率96.2モル%で
あつた。全有機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させ
て得た5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの純度
は98.8%であつた。
は実施例1と同様に反応、後処理、分析を行なつ
た。その結果、1−ニトロナフタリンの転化率
97.0%、反応1−ニトロナフタリン当りの5−ニ
トロ−1,4−ナフトキノンの収率96.2モル%で
あつた。全有機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させ
て得た5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの純度
は98.8%であつた。
実施例 7
硝酸濃度を0.3モル/とした他は実施例1と
同様に反応、後処理、分析を行なつた。その結
果、1−ニトロナフタリンの転化率89.5%、反応
1−ニトロナフタリン当りの5−ニトロ−1,4
−ナフトキノンの収率97.8モル%であつた。全有
機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させて得た5−ニ
トロ−1,4−ナフトキノンの純度は99.0%であ
つた。
同様に反応、後処理、分析を行なつた。その結
果、1−ニトロナフタリンの転化率89.5%、反応
1−ニトロナフタリン当りの5−ニトロ−1,4
−ナフトキノンの収率97.8モル%であつた。全有
機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させて得た5−ニ
トロ−1,4−ナフトキノンの純度は99.0%であ
つた。
実施例 8
硝酸濃度を7モル/とした他は実施例1と同
様に反応、後処理、分析を行なつた。その結果、
1−ニトロナフタリンの転化率96.0%、反応1−
ニトロナフタリン当りの5−ニトロ−1,4−ナ
フトキノンの収率95.9モル%であつた。全有機層
を濃縮、析出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ
−1,4−ナフトキノンの純度は98.4%であつ
た。
様に反応、後処理、分析を行なつた。その結果、
1−ニトロナフタリンの転化率96.0%、反応1−
ニトロナフタリン当りの5−ニトロ−1,4−ナ
フトキノンの収率95.9モル%であつた。全有機層
を濃縮、析出、濾別、乾燥させて得た5−ニトロ
−1,4−ナフトキノンの純度は98.4%であつ
た。
比較例 1
超音波照射をせずに100分間反応させた他は実
施例1と同様に反応、後処理、分析を行なつた。
その結果、1−ニトロナフタリンの転化率74.0
%、反応1−ニトロナフタリン当りの5−ニトロ
−1,4−ナフトキノンの収率83.3モル%であつ
た。全有機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させて得
た5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの純度は
93.6%であつた。
施例1と同様に反応、後処理、分析を行なつた。
その結果、1−ニトロナフタリンの転化率74.0
%、反応1−ニトロナフタリン当りの5−ニトロ
−1,4−ナフトキノンの収率83.3モル%であつ
た。全有機層を濃縮、析出、濾別、乾燥させて得
た5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの純度は
93.6%であつた。
[発明の効果]
以上、本発明を実施することにより、1−ニト
ロナフタリンから5−ニトロ−1,4−ナフトキ
ノンを高選択的に副生物少なく、生産性の面でも
有利に得る方法を提供するものである。
ロナフタリンから5−ニトロ−1,4−ナフトキ
ノンを高選択的に副生物少なく、生産性の面でも
有利に得る方法を提供するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 1−ニトロナフタリンを酸化し5−ニトロ−
1,4−ナフトキノンを製造する方法において、
第2セリウムイオンを含む酸性水溶液を用いて超
音波照射下に液相酸化反応を行なうことを特徴と
する5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製造
法。 2 第2セリウムイオンを含む酸性水溶液中の第
2セリウムイオン濃度が0.1〜6モル/である
ことを特徴とする特許請求の範囲1に記載の方
法。 3 酸性水溶液中の酸濃度が0.3〜10モル/で
あることを特徴とする特許請求の範囲1または2
に記載の方法。 4 酸化反応温度が0〜80℃であることを特徴と
する特許請求の範囲1,2または3に記載の方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP182087A JPS63170340A (ja) | 1987-01-09 | 1987-01-09 | 5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP182087A JPS63170340A (ja) | 1987-01-09 | 1987-01-09 | 5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63170340A JPS63170340A (ja) | 1988-07-14 |
| JPH0317819B2 true JPH0317819B2 (ja) | 1991-03-11 |
Family
ID=11512198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP182087A Granted JPS63170340A (ja) | 1987-01-09 | 1987-01-09 | 5−ニトロ−1,4−ナフトキノンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63170340A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102560527B (zh) * | 2012-02-22 | 2014-12-10 | 西南大学 | 5-硝基-1, 4-萘醌的直接电化学合成方法 |
-
1987
- 1987-01-09 JP JP182087A patent/JPS63170340A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63170340A (ja) | 1988-07-14 |
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