JPH03200732A - 弗素化炭化水素系組成物 - Google Patents

弗素化炭化水素系組成物

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JPH03200732A
JPH03200732A JP1317441A JP31744189A JPH03200732A JP H03200732 A JPH03200732 A JP H03200732A JP 1317441 A JP1317441 A JP 1317441A JP 31744189 A JP31744189 A JP 31744189A JP H03200732 A JPH03200732 A JP H03200732A
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ether
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slight
ethyl
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Akio Asano
浅野 昭雄
Toru Kamimura
徹 上村
Naohiro Watanabe
渡辺 直洋
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C17/42—Use of additives, e.g. for stabilisation

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フロン系共沸組成物の安定化方法に関するも
のである。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]米国特
許第4,812,256号明細書等により、1.1.2
−トリクロロ−2,2−ジフルオロエタン(R122)
及びメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
のいずれか一種とから成る共沸組成物が知られている。
これら共沸組成物は、液組成と蒸気組成が一定のため、
IC部品、精密機械部品、その他各種物品の蒸気洗浄に
適しているが、熱安定性の面で必ずしも十分ではない。
[課題を解決するための手段] 本発明は、前述の安定性を改善すべくなされたもの、で
あり、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n
−プロパノールのいずれか一種とR122とから成る共
沸組成物にニトロ化合物類、フェノール類、アミン類、
エーテル類、アミレン類、エステル類、有機ホスファイ
ト類、エポキサイド類、フラン類、アルコール類、ケト
ン類及びトリアゾール類の群から選ばれる少なくとも一
種の安定剤を添加することを特徴とする共沸組成物の安
定化方法に関するものである。
本発明に従って安定化される共沸組成物は、以下の通り
である。
()内は組成で重量% R122/メタノール    (85〜8g/12〜1
5)Rl 22/エタノール    (86〜9179
〜14)R122/インプロパツール (91〜957
5〜9)R122/n−プロパノール(97〜9971
〜3)本共沸組成物は、溶剤として各種用途に使用でき
るが、フラックス洗浄剤、脱脂洗浄剤、ドライクリーニ
ング用洗浄剤等に使用する際、蒸気洗浄を行なうことが
あり、熱的に安定化する必要がある。特に、洗浄すべき
対象や洗浄装置材質が金属(鉄、亜鉛、アルミ、銅、黄
銅、銀、各種合金等)であると、この金属の影響により
さらに不安定となる。
本発明は、ニトロ化合物類、フェノール類、アミン類、
エーテル類、アミトン類、エステル類、有機ホスファイ
ト類、エポキサイド類、フラン類、アルコール類、ケト
ン類及びトリアゾール類の群から選ばれる少なくとも一
種を本共沸組成物に添加することにより良く安定化する
ことができる。これらの安定化剤は、一種類単独である
いは二種類以上の混合物として使うことができ、本共沸
組成物の使用条件が苛酷で、高い安定化効果を必要とす
る場合には、安定化剤の混合使用が有効である。安定化
剤の添加量は、特に限定されるものではないが、本共沸
組成物に対して重量部基準で、199m〜10%、好ま
しくは10ppm〜5%、さらに好ましくは1100p
p〜3%である。
ニトロ化合物類としては一般式R−N Ox(R;炭素
数1〜6の飽和または不飽和結合を有する鎖状または環
状の炭化水素基)で示されるものが好ましく、ニトロメ
タン、ニトロエタン、l−ニトロプロパン、2−ニトロ
プロパン、ニトロベンゼン等から選ばれるものである。
より好ましくはニトロメタン、ニトロエタンである。
フェノ−ル類としては下記一般式で示されるものが好ま
しく、 くは、フェノール、4.4−ジヒドロキシフェニル−2
,2−プロパン、2,6−ジーt−ブチル−p−クレゾ
ールである。
アミン類としては、下記一般式で示されるものが好まし
く、 n−NCR’)* 、  (R)z−N(R’)i 、
 (R)、−NR’(ここで、R、R’、 R”、 R
”’はOH又は炭素数1〜6の飽和又は不飽和結合を有
する鎖状又は環状の炭化水素基。) フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−ク
レゾール、チモール、p−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール。
0−メトキシフェノール、4,4°−ジヒドロキシフェ
ニル−2,2−プロパン、サリチル酸イソアミル、サリ
チル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2,6−ジーt−
ブチル−p−クレゾール等から選ばれるものである。よ
り好ましくR) 、N−R’ −N−(R”)。
R−CHN (R’ ) −−R”−N−(R”’ )
 x(R)、N−R’−NH−R”−N−(R”’ )
。
(R) J−(R′NH) 4−R” 、  R−NH
−R”  、  (R) x−N−OR’(ここで、R
、R’、 R”、 R”’は水素原子又は炭素数1〜8
の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素
基) ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、N−メチルアニリ
ン、ピリジン、ビコリン、モルホリン、N−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α−メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第2ブチルアミン、第
3ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンジルアミン、トリペンチルアミン% 2−エチル
ヘキシルアミン、アニリン、N、N−ジメチルアニリン
、N、N−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロ
ピレンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレ
ンペンタミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジ
フェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミル等から選
ばれるものである。より好ましくは、ジイソプロピルア
ミン、ジアリルアミンである。
エーテル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 HO−R−0−R’、  HO−R−0−R’−0−R
” 、  HO−R−OH。
R−0−R’−CH−R”     R−0−R’−0
−R“L−→ 」 R−0−CH−R″、  R−0−R’−(OR”)。
L−→ 」 (ここで、R、R’、 R″は炭素数1〜lOの飽和又
は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基、) 1.4−ジオキサン、1.2−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパギルエーテル、エチルプロピルエーテル、エ
チルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグリ
シジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル
、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレング
リコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジアリ
ルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチルエ
ーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテル
、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、エ
チルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、
ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテル、1、2−ジメトキシ
エタン、1,2−ジェトキシエタン、トリメトキシエタ
ン、トリエトキシエタン等から選ばれるものである。
より好ましくは1.4−ジオキサン、ブチルグリシジル
エーテル、1,2−ジメトキシエタン、1.2−ジェト
キシエタンである。
アミレン類として好ましくは、α−アミレン、β−アミ
レン、γ−アミレン、α−イソアミレン、β−インアミ
レン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−ア
ミレンである。
エステル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 RO−R″−COOR“ (ここでR、R’、 R″は水素原子又は炭素数1〜6
の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素
基) 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチル、サリチ
ル酸メチルである。
有機ホスファイト類としては、次の一般式で示されるも
のが好ましく、 (ROン、P、   (R−R’−0)、P、    
(RO)2POR’。
(ここでR、R’、 R”、 R”’は水素原子又は炭
素数1〜18の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環
状の炭化水素基) トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス(2−
エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニルモノ(2−エ
チルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイ
ドロゲンホスファイト、テトラフェニルジブロビレング
リコールベンタエリスリトールテトラホスファイト、ト
リラウリルトリチオホスファイト、ビス(トリデシル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノリルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
テアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス(2,4−ジターシャリ−
ブチルフェニル)ホスファイト等から選ばれるものであ
る。
より好ましくはトリフェニルホスファイト、トリブチル
ホスファイトである。
エポキサイド類としては、次の一般式で示されるものが
好ましく、 RO、XRO (ここで、Rは炭素数1〜8の飽和または不飽和結合を
有する鎖状または環状の炭化水素基。
Xはハロゲン原子) 1.2−ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、プ
ロピレンオキサイド、2,3−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは1,2−ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリ
ンである。
フラン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (ここでR,R′、 R” 、は炭素数1〜2の飽和及
び/又は不飽和結合を有する炭化水素基、)テトラヒド
ロフラン、N−メチルビロール、2−メチルビロール、
3−メチルビロール等から選ばれるものであり、より好
ましくはN−メチルビロールである。
アルコール類としては、次の一般式で示されるものが好
ましく、 R−OH%NH2−R−OH%R−0−R’−OH%R
−R’ −0H(ここで、R,R’は炭素数1〜6の飽
和及び、または不飽和結合を有する鎖状または環状の炭
化水素基。) sec−ブタノール、tert−ブタノール、アリルア
ルコール、ベンジルアルコール。
tert−アミルアルコール、l−アミノ−2−プロパ
ノール、プロパギルアルコール、イソブタノール、ブタ
ノール、3−メチル−ペンチン−3−オール、l−メト
キシ−2−プロパノール、3−メチ、ルー1−ブチル−
3−オール、2−メチル−3−ブチン−3−オール等か
ら選ばれるものであり、より好ましくは。
5ec−ブタノール、プロパギルアルコールである。
ケトン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (R)acO,R−CO−R’、 (RNCO)i。
(ここでR、R’、 R”、 R”’は水素原子又は炭
素数1〜4の飽和/又は不飽和結合を有する炭化水素基
) アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルホルムアミド、N−メチルプロピオンアミド、2−ピ
ロリドン、N、N、N’ 、N’ −テトラメチル尿素
、N−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、よ
り好ましくはメチルイソブチルケトン、2−ピロリドン
である。
トリアゾール類としては次の一般式で示されるものが好
ましく、 R−Nl−R’−N−R” (ここでR1R″ Vl 、 l mは水素原子又は炭
素数1−16の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環
状の炭化水素基、Xはハロゲン原子、)2−(2°−ヒ
ドロキシ−5°−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2゜−ヒドロキシー3°−ターシャリーブチ
ル−5°−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリ
アゾール、1,2.3−ベンゾトリアゾール、1−[(
N、N−ビス−2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベ
ンゾトリアゾール等から選ばれるものであり、より好ま
しくは1、2゜3−ベンゾトリアゾールである。
[実施例] 本発明の共沸組成物の安定化方法の効果を確認する目的
から第1表に示す組成物に対して次の試験を行なった。
JIS−K1600に従い、下記第2〜31表に示す安
定化組成物の液相部及び気相部の各々に軟鋼片、銅片又
は銀片を配置し、48時間経過後の軟鋼片、銅片又は銀
片、の腐食状況を観察した。
結果を第2〜31表に示す。
第2表 第1表 0;腐食なし 、 △;若干腐食あり、 ○;はぼ腐食なし ×;腐食あり 第3表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第5表 0;腐食なし ○:はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第4表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第6表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第7表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第9表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第8表 0:腐食なし 、 Δ;若干腐食あり、 ○;はぼ腐食なし × ;腐食あり 第10表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × :腐食あり 第11表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △ ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第13表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △ ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第12表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第14表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第15表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第17表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第16表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第18表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第19表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △ ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第21表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第20表 0:腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第22表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第23表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第25表 0;腐食なし ○:はぼ腐食なし △;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第24表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第26表 0;腐食なし O;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第27表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし △ ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第29表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ:若干腐食あり、 × ;腐食あり 第28表 0;腐食なし 、 ○;はぼ腐食なし △;若干腐食あり、×;腐食あり 第30表 0;腐食なし ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、 × ;腐食あり 第31表 0;腐食なし   ○;はぼ腐食なし Δ;若干腐食あり、×;腐食あり 【発明の効果] 本発明の共沸組成物の安定化方法は実施例から明かな様
に金属腐食の抑制効果に優れ、高い安定化効果が得られ
る。特に共沸組成物による電子部品、電気部品等の洗浄
時に腐食が発生した場合接点不良の問題が生じるが、こ
のような対策として本発明の共沸組成物の安定化方法が
有効である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−
    プロパノールのいずれか一種と1,1,2−トリクロロ
    −2,2−ジフルオロエタンとから成る共沸組成物に、
    ニトロ化合物類、フェノール類、アミン類、エーテル類
    、アミレン類、エステル類、有機ホスファイト類、エポ
    キサイド類、フラン類、アルコール類、ケトン類及びト
    リアゾール類の群から選ばれる少なくとも一種の安定剤
    を添加することを特徴とする共沸組成物の安定化方法。
JP1317441A 1989-08-14 1989-12-08 弗素化炭化水素系組成物 Expired - Lifetime JP2765135B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009164431A (ja) * 2008-01-08 2009-07-23 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置の製造方法、半導体装置の洗浄方法および洗浄装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009164431A (ja) * 2008-01-08 2009-07-23 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置の製造方法、半導体装置の洗浄方法および洗浄装置

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