JPH03259264A - 電子写真用感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03259264A JPH03259264A JP5925890A JP5925890A JPH03259264A JP H03259264 A JPH03259264 A JP H03259264A JP 5925890 A JP5925890 A JP 5925890A JP 5925890 A JP5925890 A JP 5925890A JP H03259264 A JPH03259264 A JP H03259264A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning solution
- alkaline cleaning
- weak alkaline
- stress
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、普通紙複写機、レーザビームプリンタなど
の電子写真応用装置に用いられる有機系電子写真用感光
体の製造方法に関し、詳しくは感光層形成前の導電性基
体表面の洗浄方法に関する。
の電子写真応用装置に用いられる有機系電子写真用感光
体の製造方法に関し、詳しくは感光層形成前の導電性基
体表面の洗浄方法に関する。
有機系電子写真用感光体は、通常、導電性基体上に有機
材料からなる電荷発生層、電荷輸送層を順次塗布形成し
てなる感光層が設けられたものである。
材料からなる電荷発生層、電荷輸送層を順次塗布形成し
てなる感光層が設けられたものである。
このような感光体の導電性基体としては、従来のセレン
などの無機材料を用いた感光体の場合と同様に、一般に
アルミニウムを主成分とする合金を材料とする円筒が用
いられる。すなわち、アルミニウムを主成分とする合金
（へｌ−Ｍｎ系合金へｌ −Ｍｇ−Ｓｉ系合金など）を
押し出し成形性により円筒状とし、さらに引き抜き加工
、しごき加工を行って寸法精度を高めた円筒を用い、所
要の外形寸法に加工した後、その外表面を後工程におけ
る品質の維持、向上に役立つように均一な表面に仕上げ
、有機溶剤、中性洗剤２弱アルカリ洗剤などで洗浄して
使用する。
などの無機材料を用いた感光体の場合と同様に、一般に
アルミニウムを主成分とする合金を材料とする円筒が用
いられる。すなわち、アルミニウムを主成分とする合金
（へｌ−Ｍｎ系合金へｌ −Ｍｇ−Ｓｉ系合金など）を
押し出し成形性により円筒状とし、さらに引き抜き加工
、しごき加工を行って寸法精度を高めた円筒を用い、所
要の外形寸法に加工した後、その外表面を後工程におけ
る品質の維持、向上に役立つように均一な表面に仕上げ
、有機溶剤、中性洗剤２弱アルカリ洗剤などで洗浄して
使用する。
このような基体の具備すべき要件としては、ａ）表面が
局部的に変化せず安定であること。
局部的に変化せず安定であること。
ｂ）所要の一定の表面粗さを安定して保っていること。
Ｃ）プリンタなどに用いられた場合、出力画像に基体表
面での露光光の反射に起因する干渉縞が発生しないこと
。
面での露光光の反射に起因する干渉縞が発生しないこと
。
ｄ）洗浄性が良く、洗浄後の表面に異物、汚れが残存し
ていないこと。
ていないこと。
などが挙げられる。
これらの項目のうち、ａ）、 ｂ）およびＣ）項を満た
す有効な方法の一つとして、基体としてのアルミニウム
合金円筒の表面に陽極酸化皮膜（アルマイト層）を設け
ることが知られている。すなわち、アルミニウム合金円
筒外表面を超精密旋盤で所要の一定の粗さに均一に仕上
げたのち、陽極酸化処理を施して表面を硬質の陽極酸化
皮膜で被覆し、有機溶剤〈例えばトリクレン）中で超音
波洗浄し、さらに有機溶剤蒸気で蒸気洗浄して清浄にし
た基体を用いることが行われている。
す有効な方法の一つとして、基体としてのアルミニウム
合金円筒の表面に陽極酸化皮膜（アルマイト層）を設け
ることが知られている。すなわち、アルミニウム合金円
筒外表面を超精密旋盤で所要の一定の粗さに均一に仕上
げたのち、陽極酸化処理を施して表面を硬質の陽極酸化
皮膜で被覆し、有機溶剤〈例えばトリクレン）中で超音
波洗浄し、さらに有機溶剤蒸気で蒸気洗浄して清浄にし
た基体を用いることが行われている。
しかしながら、上述のような陽極酸化皮膜で被覆された
基体表面は洗浄性に問題があり、前述のような精密な洗
浄を行っても微小な異物や汚れを完全には取り除くこと
が難しく、このような基体を用いた感光体では残存する
異物や汚れに起因すると見られる画像欠陥が発生すると
いう問題があった。
基体表面は洗浄性に問題があり、前述のような精密な洗
浄を行っても微小な異物や汚れを完全には取り除くこと
が難しく、このような基体を用いた感光体では残存する
異物や汚れに起因すると見られる画像欠陥が発生すると
いう問題があった。
この発明は、上述の問題点を解消して、画像欠陥の少な
い高品質の出力画像の得られる有機系の電子写真用感光
体の製造方法を提供することを解決すべき課題とする。
い高品質の出力画像の得られる有機系の電子写真用感光
体の製造方法を提供することを解決すべき課題とする。
上記の課題は、この発明によれば、表面に陽極酸化皮膜
が形成されたアルミニウム合金からなる導電性基体の表
面を弱アルカリ性洗浄液を用いて拭浄材によりストレス
を加えながら洗浄したのち、この基体表面に有機光導電
性材料を含む感光層を形成して感光体を製造することに
より解決される。
が形成されたアルミニウム合金からなる導電性基体の表
面を弱アルカリ性洗浄液を用いて拭浄材によりストレス
を加えながら洗浄したのち、この基体表面に有機光導電
性材料を含む感光層を形成して感光体を製造することに
より解決される。
拭浄材としては弱アルカリ性洗浄液に対して耐久性を有
する柔軟な材質のもの、例えばスポンジ。
する柔軟な材質のもの、例えばスポンジ。
不織布などを用いることができる。
弱アルカリ性洗剤を用いて拭浄材でストレスを加えなが
ら洗浄することにより、従来の有機溶剤での超音波洗浄
および蒸気洗浄では除去しきれなかった異物、汚れを取
り除くことができ、基体表面の清浄度が大幅に向上する
。このようにして得られた表面清浄な基体を用いること
により、画像欠陥の少ない感光体が得られることになる
。
ら洗浄することにより、従来の有機溶剤での超音波洗浄
および蒸気洗浄では除去しきれなかった異物、汚れを取
り除くことができ、基体表面の清浄度が大幅に向上する
。このようにして得られた表面清浄な基体を用いること
により、画像欠陥の少ない感光体が得られることになる
。
以下、この発明の実施例について説明する。
実施例１
所要の外形寸法に加工されたアルミニウム合金円筒の表
面を超精密旋盤により所要の一定の粗さに加工し、その
表面を硫酸溶液で陽極酸化処理してアルマイト層を形成
した。この円筒表面を以下の工程で洗浄して導電性基体
とした。
面を超精密旋盤により所要の一定の粗さに加工し、その
表面を硫酸溶液で陽極酸化処理してアルマイト層を形成
した。この円筒表面を以下の工程で洗浄して導電性基体
とした。
（ａ） ） ＩＪクレン超超音波洗浄３聞↓
（Ｃ）トリクレン蒸気洗浄
↓
（ｄ）弱アルカリ性洗浄液（ジョンソン社製Ｎ（１２
０ ０の０、５容量％水溶液〉を基体表面に吹き付けな
から拭浄材〔鐘紡Ｑ＠製ＰＶへスポンジ（ベルクリン）
〕でポリッシング （ｅ）純水洗浄 ↓ （ｆ）水切り，乾燥 実施例２．３ 実施例１の洗浄工程（ｄ）で用いた弱アルカリ性洗浄液
の濃度を変え、それぞれ１．０容量％水溶液。
０ ０の０、５容量％水溶液〉を基体表面に吹き付けな
から拭浄材〔鐘紡Ｑ＠製ＰＶへスポンジ（ベルクリン）
〕でポリッシング （ｅ）純水洗浄 ↓ （ｆ）水切り，乾燥 実施例２．３ 実施例１の洗浄工程（ｄ）で用いた弱アルカリ性洗浄液
の濃度を変え、それぞれ１．０容量％水溶液。
１、５容量％水溶液としたこと以外は実施例１と同様に
して、実施例２，実施例３の導電性基体とした。
して、実施例２，実施例３の導電性基体とした。
比較例１
円筒表面の洗浄を実施例１の洗浄工程（Ｃ）まで行い以
後の工程を行わない従来の洗浄方法とし、比較例１の導
電性基体とした。
後の工程を行わない従来の洗浄方法とし、比較例１の導
電性基体とした。
比較例２，３．４
実施例１の洗浄工程（ｄ）で用いた弱アルカリ性洗浄液
のかわりに、それぞれ中性洗剤の５容量％水溶液，１０
容量％水溶液， １５容量％水溶液を用いたこと以外は
実施例１と同様にして、比較例２，比較例３．比較例４
の導電性基体とした。
のかわりに、それぞれ中性洗剤の５容量％水溶液，１０
容量％水溶液， １５容量％水溶液を用いたこと以外は
実施例１と同様にして、比較例２，比較例３．比較例４
の導電性基体とした。
これらの導電性基体について、その表面の水切れ、濡れ
性、外観を評価した。その結果を第１表に示す。
性、外観を評価した。その結果を第１表に示す。
また、これらの導電性基体上に有機材料からなる電荷発
生層、電荷輸送層を順次塗布形成して感光体を作製し、
塗工後外観、電気特性９画像品質（半導体レーザビーム
プリンタによる）を評価した。その結果を使用した導電
性基体に対応させて第１表に示す。
生層、電荷輸送層を順次塗布形成して感光体を作製し、
塗工後外観、電気特性９画像品質（半導体レーザビーム
プリンタによる）を評価した。その結果を使用した導電
性基体に対応させて第１表に示す。
第 １ 表
第１表より、実施例の導電性基体は基体表面のアルマイ
ト層表面が比較例１に比べて非常に清浄になっており、
その上に電荷発生層、電荷輸送層を良好に塗布すること
ができ、電気特性１画像品質ともに優れた感光体が得ら
れることが判る。また、比較例２〜４より、拭浄材でス
トレスを加えながら洗浄を行っても、中性洗剤ではアル
マイト層表面の洗浄は不充分で、弱アルカリ性洗浄液を
用いることが必要であることが判る。
ト層表面が比較例１に比べて非常に清浄になっており、
その上に電荷発生層、電荷輸送層を良好に塗布すること
ができ、電気特性１画像品質ともに優れた感光体が得ら
れることが判る。また、比較例２〜４より、拭浄材でス
トレスを加えながら洗浄を行っても、中性洗剤ではアル
マイト層表面の洗浄は不充分で、弱アルカリ性洗浄液を
用いることが必要であることが判る。
Claims (1)
- １）表面に陽極酸化被膜が形成されたアルミニウム合金
からなる導電性基体の表面を弱アルカリ性洗浄液を用い
て拭浄材によりストレスを加えながら洗浄したのち、こ
の基体表面に有機光導電性材料を含む感光層を形成する
ことを特徴とする電子写真用感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5925890A JP2682188B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5925890A JP2682188B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03259264A true JPH03259264A (ja) | 1991-11-19 |
| JP2682188B2 JP2682188B2 (ja) | 1997-11-26 |
Family
ID=13108173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5925890A Expired - Lifetime JP2682188B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2682188B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0772642A (ja) * | 1993-09-01 | 1995-03-17 | Kobe Steel Ltd | 感光体ドラム |
| JPH08262775A (ja) * | 1995-03-27 | 1996-10-11 | Kobe Steel Ltd | 感光支持体および感光体ドラム |
| JP2002319495A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-10-31 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
| JP2002334790A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-11-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
| JP2004071558A (ja) * | 2002-07-25 | 2004-03-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
| US7423293B2 (en) | 2001-02-19 | 2008-09-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
| US7485478B2 (en) | 2001-02-19 | 2009-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| KR101011980B1 (ko) * | 2002-07-25 | 2011-01-31 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광장치의 제조방법 |
-
1990
- 1990-03-09 JP JP5925890A patent/JP2682188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0772642A (ja) * | 1993-09-01 | 1995-03-17 | Kobe Steel Ltd | 感光体ドラム |
| JPH08262775A (ja) * | 1995-03-27 | 1996-10-11 | Kobe Steel Ltd | 感光支持体および感光体ドラム |
| JP2002319495A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-10-31 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
| US7485478B2 (en) | 2001-02-19 | 2009-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US7423293B2 (en) | 2001-02-19 | 2008-09-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
| JP2002334790A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-11-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
| US7825419B2 (en) | 2001-02-19 | 2010-11-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US8497525B2 (en) | 2001-02-19 | 2013-07-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US8679875B2 (en) | 2001-02-19 | 2014-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US8866184B2 (en) | 2001-02-19 | 2014-10-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US9502679B2 (en) | 2001-02-19 | 2016-11-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US9768405B2 (en) | 2001-02-19 | 2017-09-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US9954196B2 (en) | 2001-02-19 | 2018-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| JP2004071558A (ja) * | 2002-07-25 | 2004-03-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
| KR101011980B1 (ko) * | 2002-07-25 | 2011-01-31 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광장치의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2682188B2 (ja) | 1997-11-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3898351A (en) | Substrate cleaning process | |
| JP2682188B2 (ja) | 電子写真用感光体の製造方法 | |
| JPH0514902B2 (ja) | ||
| JP3475594B2 (ja) | 電子写真用感光体の製造方法 | |
| JPH0588392A (ja) | 電子写真感光体とそれに用いる基体および製造方法 | |
| JP2925750B2 (ja) | 電子写真用感光体及びその製造方法 | |
| JP2576265B2 (ja) | 導電性基体の洗浄方法及び電子写真感光体の製造法 | |
| JP3465414B2 (ja) | 電子写真用有機感光体の製造方法 | |
| JP3721703B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JP3189563B2 (ja) | 電子写真感光体用支持体の製造方法 | |
| JPH01130160A (ja) | 感光体の製造方法 | |
| JPS61157687A (ja) | 電子写真感光体用基体の洗浄方法 | |
| JPH02201373A (ja) | 感光体の製造方法 | |
| JPH06230583A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH063835A (ja) | 電子写真感光体の製造法 | |
| JP3049674B2 (ja) | 支持体の洗浄方法 | |
| JPH10333342A (ja) | 電子写真感光体基体の洗浄方法、電子写真感光体の製造方法及びそれを用いた電子写真感光体 | |
| JPH02198449A (ja) | 感光体の製造方法 | |
| JP3500796B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH05158257A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JP3385483B2 (ja) | 電子写真感光体基体の洗浄状態の検査方法と電子写真用の感光体基体 | |
| JPH05281758A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH03273260A (ja) | 感光体基体の表面処理方法 | |
| JPH04335355A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JP2000181090A (ja) | 感光体ドラム素管の洗浄設備 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070808 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090808 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090808 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100808 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100808 Year of fee payment: 13 |