JPH0514902B2 - - Google Patents
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- JPH0514902B2 JPH0514902B2 JP58182432A JP18243283A JPH0514902B2 JP H0514902 B2 JPH0514902 B2 JP H0514902B2 JP 58182432 A JP58182432 A JP 58182432A JP 18243283 A JP18243283 A JP 18243283A JP H0514902 B2 JPH0514902 B2 JP H0514902B2
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- photosensitive layer
- substrate
- laser beam
- layer
- surface roughness
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08235—Silicon-based comprising three or four silicon-based layers
- G03G5/08242—Silicon-based comprising three or four silicon-based layers at least one with varying composition
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- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08221—Silicon-based comprising one or two silicon based layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
本発明はレーザーラインプリンタに用いる電子
写真感光体及びその製造方法に関する。 近時、小型軽量且つ低消費電力の高密度・高速
記録方式としてレーザー光を記録部材としたレー
ザーラインプリンタがあり、例えば、半導体レー
ザープリンタ、及びそれに使われる主にアモルフ
アスシリコン（以下、ａ−Siと略す）から成る光
電部材が注目されている。 しかしながら、このレーザー光が単色光のた
め、感光層の層内部に入射したレーザー光が光導
電層で十分に吸収されないで、光導電層を支持す
る導電性基板に達し、導電性基板表面で反射する
ことが多分にあり、次に述べるような問題を引き
起こしていた。 即ち、第１図に示すような導電性基板１上に光
導電層２が積層された感光体によれば、半導体レ
ーザー光などの入射光l1の一部が導電性基板１で
反射され、この反射光l2の一部が再び光導電層２
の表面で反射を起こすと、この二度反射した光l3
と入射光l1が干渉作用を起こし、電荷潜像の縞模
様が生じ、その結果、現像後の画像に干渉縞状の
濃度ムラが発生する。 本発明は上記事情に鑑みて完成されたもので、
その目的は、レーザー光に対する入射光及び反射
光の干渉作用を低減させ、画像の縞模様発生が防
止された電子写真感光体を提供することにある。 本発明の他の目的は、画像の縞模様発生が防止
された電子写真感光体の製造方法を提供すること
にある。 本発明によれば、導電性基板上に、少なくとも
光導電層から成る感光層が積層され、該感光層の
表面側からレーザー光を反射して該光導電層に光
キヤリアを発生させる電子写真感光体において、
該レーザー光に対する前記感光層の透過率をａと
し、且つ該レーザー光に対する前記基板の反射率
をｂとした時、ａ×ｂを0.2以下としたことを特
徴とする電子写真感光体を提供することにある。 更に、本発明によれば、導電性基板上に、少な
くとも光導電層から成る感光層が積層され、該感
光層の表面側からレーザー光を照射して該光導電
層に光キヤリアを発生させる電子写真感光体であ
り、該レーザー光に対する前記感光層の透過率を
ａとし、且つ該レーザー光に対する前記基板の反
射率をｂとした時、ａ×ｂを0.2以下としたこと
を特徴とする電子写真感光体の製造方法におい
て、前記基板の表面を、予め0.2μm以下の表面粗
度となるように鏡面加工し、次いで、表面粗度が
0.2〜4μmの範囲となるようにエツチング処理し、
その後、この基板の上に、前記感光層を積層する
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法を提
供することにある。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明のレーザーラインプリンタ用の電子写真
感光体によれば、レーザー光の発振波長にもよる
が、このレーザー光に対する反射率がｂである基
板の上に、該レーザー光の透過率がａである感光
層を積層した場合、ａ×ｂが0.2以下となるよう
にすれば、この感光層が、光導電層と共に、後述
の障壁層及び表面保護層等々を有する積層膜型式
や、アルミニウム以外の材料から成る基板を使つ
た感光体など、種々の型式の感光体について、本
発明の目的が十分に達成される。 このａ×ｂの値が0.2以下であると、レーザー
ラインプリンタ用の感光体に望まれる画質に対し
て、縞模様の悪影響がほとんど無視できて実用上
何ら支障がなく、好ましくは、ａ×ｂ値を0.1以
下とすれば肉眼で縞模様が全く確認できない、著
しく優れた画像が得られることを知見した。尚、
この透過率ａは、感光体に投光されるレーザー光
の強度に対して感光層を通過した該レーザー光の
強度の割合を表わす。 更に、本発明者は、所定の範囲の表面粗度とな
るように、基板を鏡面加工してからエツチング処
理すると、レーザー光に対する基板の反射率ｂを
特定できることを見い出した。 即ち、ドラム状のアルミニウム基板であれば、
その素管を、ダイヤモンドバイトを用いた超精密
旋盤などにより、鏡面加工し、この時、表面粗度
を0.2μm以下となるように設定するのが望まし
く、0.2μmを超えると、エツチング処理をした時
に、鏡面加工によつて生じるドラム周方向の縞模
様が誇張して現われ、均一な粗面とならないた
め、それを基板として成膜して得られた感光体を
使うと、コピー画像に縞模様があらわれる。 かように、0.2μm以下の表面粗度となるように
鏡面加工されたアルミニウム基板には、その表面
に、鏡面加工の切削の際に、鋭角状の凹凸が局所
的に生じており、それを基板として成膜して得ら
れた感光体を使うと、突起状の成膜欠陥に起因し
て白抜けの画像ができる。 そこで、これをエツチング処理により、鋭角状
の凹凸を滑らかな凹凸にすると共に、表面粗度を
0.2〜4μmの範囲に設定すると、特に、レーザー
光の発振波長が400〜850nmの場合、そのレーザ
ー光に対する基板の反射率を著しく小さくするこ
とができ、しかも、その表面粗度が0.2μm未満で
は、例えば、アルミニウム基板上にａ−Si感光層
を積層する場合、その成膜中、基板表面の微小な
突起物を核として数10μmのサイズの大きな突起
物が成長し、これにより、画像に白抜けが現われ
たり、クリーニング不良などの欠点が現われ、逆
に、その表面粗度が4μmを超えると、帯電電位の
低下、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不
良等の問題が生じ易くなることを知得した。 このエツチング処理は、ウエツトエツチングも
しくはドライエツチングのいずれでもよく、ウエ
ツトエツチングであれば、リン酸−硫酸系、リン
酸−硝酸系、リン酸−硫酸−硝酸系、硝酸−フツ
酸系などのケミカルエツチング剤を用いて上記の
効果が達成できる。ドライエツチングであれば、
感光層を形成するグロー放電分解装置を用いて、
CCl4，BCl4，CF4等のプラズマエツチング用ガス
や水素ガスを導入し、プラズマエツチングをおこ
ない、引き続いて、感光層の成膜用ガスに切替え
て感光層を形成することができ、これにより、基
板が大気に晒されず、酸化や汚染が防止されるた
め、感光層の光電特性が十分に発揮されると共
に、製造歩留りが向上し、且つ連続工程による作
業能率を高めることができる。 更に、鏡面加工の切削の際に、アルミニウム基
板の表面にアルミニウム金属の微細な切粉が付着
し、洗浄してもなかなか取れないが、かようなエ
ツチング処理により、完全に清浄された基板が得
られる。 本発明によれば、レーザー光の発振波長が
633nm位のHe−Neガスレーザーや、442nm位の
He−Cdガスレーザーなど、400〜850nmの範囲
の発振波長に亘つて、各種の記録部材に適用で
き、例えば、750〜800nm位の発振波長をもつた
半導体レーザーを記録部材としたレーザーライン
プリンタに対し、800nm付近の近赤外領域で優れ
た光感度特性をもつたａ−Si光導電層から成る電
子写真感光体など、700nm以上の発振波長を有し
た記録部材に好適である。 本発明のレーザーラインプリンタ用の電子写真
感光体においては、基板上に形成された感光層
の、レーザー光に対する透過率をａとし、その基
板の反射率をｂとした時、ａ×ｂを0.2以下とし
たことにより、レーザー光に起因する画像の縞模
様発生が防止された。 そして、本発明の電子写真感光体の製造方法に
おいては、基板用素材を、予め鏡面加工して、そ
の表面粗度を0.2μm以下とし、次いで、エツチン
グ処理して0.2〜4μmの範囲の表面粗度とした場
合、基板の反射率ｂが低減されるため、縞模様の
発生を防止する働きをし、加えて、このエツチン
グ処理により、基板表面を十分に洗浄するため、
安定した動作特性の電子写真感光体となる。 次に、本発明者が先に提案した、後述の実施例
に使われるａ−Si感光体を述べる。 この感光体は、第２図に示す如く、導電性基板
１上に、障壁層３、光導電層２及び表面保護層４
を積層して感光層を構成し、いずれの層もａ−Si
から成ることを特徴とし、各層の成分比及び厚み
は第１表の通りである。
写真感光体及びその製造方法に関する。 近時、小型軽量且つ低消費電力の高密度・高速
記録方式としてレーザー光を記録部材としたレー
ザーラインプリンタがあり、例えば、半導体レー
ザープリンタ、及びそれに使われる主にアモルフ
アスシリコン（以下、ａ−Siと略す）から成る光
電部材が注目されている。 しかしながら、このレーザー光が単色光のた
め、感光層の層内部に入射したレーザー光が光導
電層で十分に吸収されないで、光導電層を支持す
る導電性基板に達し、導電性基板表面で反射する
ことが多分にあり、次に述べるような問題を引き
起こしていた。 即ち、第１図に示すような導電性基板１上に光
導電層２が積層された感光体によれば、半導体レ
ーザー光などの入射光l1の一部が導電性基板１で
反射され、この反射光l2の一部が再び光導電層２
の表面で反射を起こすと、この二度反射した光l3
と入射光l1が干渉作用を起こし、電荷潜像の縞模
様が生じ、その結果、現像後の画像に干渉縞状の
濃度ムラが発生する。 本発明は上記事情に鑑みて完成されたもので、
その目的は、レーザー光に対する入射光及び反射
光の干渉作用を低減させ、画像の縞模様発生が防
止された電子写真感光体を提供することにある。 本発明の他の目的は、画像の縞模様発生が防止
された電子写真感光体の製造方法を提供すること
にある。 本発明によれば、導電性基板上に、少なくとも
光導電層から成る感光層が積層され、該感光層の
表面側からレーザー光を反射して該光導電層に光
キヤリアを発生させる電子写真感光体において、
該レーザー光に対する前記感光層の透過率をａと
し、且つ該レーザー光に対する前記基板の反射率
をｂとした時、ａ×ｂを0.2以下としたことを特
徴とする電子写真感光体を提供することにある。 更に、本発明によれば、導電性基板上に、少な
くとも光導電層から成る感光層が積層され、該感
光層の表面側からレーザー光を照射して該光導電
層に光キヤリアを発生させる電子写真感光体であ
り、該レーザー光に対する前記感光層の透過率を
ａとし、且つ該レーザー光に対する前記基板の反
射率をｂとした時、ａ×ｂを0.2以下としたこと
を特徴とする電子写真感光体の製造方法におい
て、前記基板の表面を、予め0.2μm以下の表面粗
度となるように鏡面加工し、次いで、表面粗度が
0.2〜4μmの範囲となるようにエツチング処理し、
その後、この基板の上に、前記感光層を積層する
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法を提
供することにある。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明のレーザーラインプリンタ用の電子写真
感光体によれば、レーザー光の発振波長にもよる
が、このレーザー光に対する反射率がｂである基
板の上に、該レーザー光の透過率がａである感光
層を積層した場合、ａ×ｂが0.2以下となるよう
にすれば、この感光層が、光導電層と共に、後述
の障壁層及び表面保護層等々を有する積層膜型式
や、アルミニウム以外の材料から成る基板を使つ
た感光体など、種々の型式の感光体について、本
発明の目的が十分に達成される。 このａ×ｂの値が0.2以下であると、レーザー
ラインプリンタ用の感光体に望まれる画質に対し
て、縞模様の悪影響がほとんど無視できて実用上
何ら支障がなく、好ましくは、ａ×ｂ値を0.1以
下とすれば肉眼で縞模様が全く確認できない、著
しく優れた画像が得られることを知見した。尚、
この透過率ａは、感光体に投光されるレーザー光
の強度に対して感光層を通過した該レーザー光の
強度の割合を表わす。 更に、本発明者は、所定の範囲の表面粗度とな
るように、基板を鏡面加工してからエツチング処
理すると、レーザー光に対する基板の反射率ｂを
特定できることを見い出した。 即ち、ドラム状のアルミニウム基板であれば、
その素管を、ダイヤモンドバイトを用いた超精密
旋盤などにより、鏡面加工し、この時、表面粗度
を0.2μm以下となるように設定するのが望まし
く、0.2μmを超えると、エツチング処理をした時
に、鏡面加工によつて生じるドラム周方向の縞模
様が誇張して現われ、均一な粗面とならないた
め、それを基板として成膜して得られた感光体を
使うと、コピー画像に縞模様があらわれる。 かように、0.2μm以下の表面粗度となるように
鏡面加工されたアルミニウム基板には、その表面
に、鏡面加工の切削の際に、鋭角状の凹凸が局所
的に生じており、それを基板として成膜して得ら
れた感光体を使うと、突起状の成膜欠陥に起因し
て白抜けの画像ができる。 そこで、これをエツチング処理により、鋭角状
の凹凸を滑らかな凹凸にすると共に、表面粗度を
0.2〜4μmの範囲に設定すると、特に、レーザー
光の発振波長が400〜850nmの場合、そのレーザ
ー光に対する基板の反射率を著しく小さくするこ
とができ、しかも、その表面粗度が0.2μm未満で
は、例えば、アルミニウム基板上にａ−Si感光層
を積層する場合、その成膜中、基板表面の微小な
突起物を核として数10μmのサイズの大きな突起
物が成長し、これにより、画像に白抜けが現われ
たり、クリーニング不良などの欠点が現われ、逆
に、その表面粗度が4μmを超えると、帯電電位の
低下、画像濃度の低下、トナーのクリーニング不
良等の問題が生じ易くなることを知得した。 このエツチング処理は、ウエツトエツチングも
しくはドライエツチングのいずれでもよく、ウエ
ツトエツチングであれば、リン酸−硫酸系、リン
酸−硝酸系、リン酸−硫酸−硝酸系、硝酸−フツ
酸系などのケミカルエツチング剤を用いて上記の
効果が達成できる。ドライエツチングであれば、
感光層を形成するグロー放電分解装置を用いて、
CCl4，BCl4，CF4等のプラズマエツチング用ガス
や水素ガスを導入し、プラズマエツチングをおこ
ない、引き続いて、感光層の成膜用ガスに切替え
て感光層を形成することができ、これにより、基
板が大気に晒されず、酸化や汚染が防止されるた
め、感光層の光電特性が十分に発揮されると共
に、製造歩留りが向上し、且つ連続工程による作
業能率を高めることができる。 更に、鏡面加工の切削の際に、アルミニウム基
板の表面にアルミニウム金属の微細な切粉が付着
し、洗浄してもなかなか取れないが、かようなエ
ツチング処理により、完全に清浄された基板が得
られる。 本発明によれば、レーザー光の発振波長が
633nm位のHe−Neガスレーザーや、442nm位の
He−Cdガスレーザーなど、400〜850nmの範囲
の発振波長に亘つて、各種の記録部材に適用で
き、例えば、750〜800nm位の発振波長をもつた
半導体レーザーを記録部材としたレーザーライン
プリンタに対し、800nm付近の近赤外領域で優れ
た光感度特性をもつたａ−Si光導電層から成る電
子写真感光体など、700nm以上の発振波長を有し
た記録部材に好適である。 本発明のレーザーラインプリンタ用の電子写真
感光体においては、基板上に形成された感光層
の、レーザー光に対する透過率をａとし、その基
板の反射率をｂとした時、ａ×ｂを0.2以下とし
たことにより、レーザー光に起因する画像の縞模
様発生が防止された。 そして、本発明の電子写真感光体の製造方法に
おいては、基板用素材を、予め鏡面加工して、そ
の表面粗度を0.2μm以下とし、次いで、エツチン
グ処理して0.2〜4μmの範囲の表面粗度とした場
合、基板の反射率ｂが低減されるため、縞模様の
発生を防止する働きをし、加えて、このエツチン
グ処理により、基板表面を十分に洗浄するため、
安定した動作特性の電子写真感光体となる。 次に、本発明者が先に提案した、後述の実施例
に使われるａ−Si感光体を述べる。 この感光体は、第２図に示す如く、導電性基板
１上に、障壁層３、光導電層２及び表面保護層４
を積層して感光層を構成し、いずれの層もａ−Si
から成ることを特徴とし、各層の成分比及び厚み
は第１表の通りである。
ダイヤモンドバイトを用いた超精密旋盤によ
り、表面粗度0.02μmの鏡面に仕上げた基板用ア
ルミニウム製ドラムを、アルカリ脱脂、水洗、乾
燥をおこなつて清浄し、50℃に保つたエツチング
液（リン酸：硝酸：酢酸：水＝13：１：２：１）
中に、３分間浸漬してエツチング処理した。 このエツチング後、再び、水洗、乾燥をおこな
つて成膜前のアルミニウム基板１を得た。 この基板１の表面粗度は1.2μmであり、その表
面に発振波長770nmの半導体レーザー光を投光し
たところ、反射率は約５％であつた。 次に、グロー放電分解装置によつて、このアル
ミニウム基板１上に、酸素を約5.0atomic％、硼
素を約200ppm、水素を約10atomic％含有の組成
から出発して、漸次、連続的に酸素の含有量を減
少させていき、2.0μmの層厚になつた時に、酸素
約0.02atomic％、硼素を約200ppm、水素を約
15atomic％とし、障壁層３を得た。次いで、こ
のままの組成で厚さ21.8μmの光導電層２を得て、
これから、更に、漸次、連続的に硼素を少なくす
ると共に、酸素を多くして、感光層の外表面が酸
素約50atomic％、水素を約15atomic％含有し、
且つ硼素を含まないようにした厚さ0.2μmの表面
保護層４を得た。 上記に従い、成膜された積層膜感光体の層厚に
対する酸素濃度分布の概略図を第３図に示す。 同図中、横軸は酸素濃度を示し、縦軸について
はd0−d1間は障壁層３の、d1−d2間は光導電層２
の、d2−d3間は表面保護層４のそれぞれの層厚を
示す。 かくして得られたａ−Si感光体は、電荷保持能
力が極めて大きくなり、且つ暗減衰速度の小さい
特性を示すと共に、近赤外光に対する光感度が著
しく向上した好適な感光体となり、半導体レーザ
プリンタ（波長770nm、印刷速度20枚／分）に実
装し、印字したところ、縞模様が全くなく、高コ
ントラストで解像度が高い、高品質画像が得ら
れ、30万回の繰り返しテスト後においても濃度低
下、白地のかぶり、ドラム表面の傷による白抜け
などの劣化が全く見られず、極めて高い耐久性を
有していることが確認された。 〔実施例 ２〕 次に、エツチングの処理時間以外は実施例１と
全く同一の方法にしたがつて、幾通りもの表面粗
度をつくつて、第２表に示す如く、感光体Ａ乃至
Ｇを得た。
り、表面粗度0.02μmの鏡面に仕上げた基板用ア
ルミニウム製ドラムを、アルカリ脱脂、水洗、乾
燥をおこなつて清浄し、50℃に保つたエツチング
液（リン酸：硝酸：酢酸：水＝13：１：２：１）
中に、３分間浸漬してエツチング処理した。 このエツチング後、再び、水洗、乾燥をおこな
つて成膜前のアルミニウム基板１を得た。 この基板１の表面粗度は1.2μmであり、その表
面に発振波長770nmの半導体レーザー光を投光し
たところ、反射率は約５％であつた。 次に、グロー放電分解装置によつて、このアル
ミニウム基板１上に、酸素を約5.0atomic％、硼
素を約200ppm、水素を約10atomic％含有の組成
から出発して、漸次、連続的に酸素の含有量を減
少させていき、2.0μmの層厚になつた時に、酸素
約0.02atomic％、硼素を約200ppm、水素を約
15atomic％とし、障壁層３を得た。次いで、こ
のままの組成で厚さ21.8μmの光導電層２を得て、
これから、更に、漸次、連続的に硼素を少なくす
ると共に、酸素を多くして、感光層の外表面が酸
素約50atomic％、水素を約15atomic％含有し、
且つ硼素を含まないようにした厚さ0.2μmの表面
保護層４を得た。 上記に従い、成膜された積層膜感光体の層厚に
対する酸素濃度分布の概略図を第３図に示す。 同図中、横軸は酸素濃度を示し、縦軸について
はd0−d1間は障壁層３の、d1−d2間は光導電層２
の、d2−d3間は表面保護層４のそれぞれの層厚を
示す。 かくして得られたａ−Si感光体は、電荷保持能
力が極めて大きくなり、且つ暗減衰速度の小さい
特性を示すと共に、近赤外光に対する光感度が著
しく向上した好適な感光体となり、半導体レーザ
プリンタ（波長770nm、印刷速度20枚／分）に実
装し、印字したところ、縞模様が全くなく、高コ
ントラストで解像度が高い、高品質画像が得ら
れ、30万回の繰り返しテスト後においても濃度低
下、白地のかぶり、ドラム表面の傷による白抜け
などの劣化が全く見られず、極めて高い耐久性を
有していることが確認された。 〔実施例 ２〕 次に、エツチングの処理時間以外は実施例１と
全く同一の方法にしたがつて、幾通りもの表面粗
度をつくつて、第２表に示す如く、感光体Ａ乃至
Ｇを得た。
実施例１及び２と同様に、幾通りにも表面粗度
及び反射率を変えたアルミニウム基板を製作し、
このアルミニウム基板上に、第１表に示す通りに
各層の成分比及び厚みが特定されたａ−Si積層型
感光層に基づいて、種々の透過率をもつた感光層
を形成し、第３表に示すように感光体Ｈ乃至Ｐを
得た。かかる感光体Ｈ乃至Ｐを、770nmの半導体
レーザー光を記録部材としたレーザーラインプリ
ンタに実装して画像の評価をおこなつた。その結
果は第３表に示す通りである。
及び反射率を変えたアルミニウム基板を製作し、
このアルミニウム基板上に、第１表に示す通りに
各層の成分比及び厚みが特定されたａ−Si積層型
感光層に基づいて、種々の透過率をもつた感光層
を形成し、第３表に示すように感光体Ｈ乃至Ｐを
得た。かかる感光体Ｈ乃至Ｐを、770nmの半導体
レーザー光を記録部材としたレーザーラインプリ
ンタに実装して画像の評価をおこなつた。その結
果は第３表に示す通りである。
【表】
＊印の感光体は本発明の範囲外のものである
第３表から明らかなように、感光体Ｉ乃至Ｎで
は、実用上支障がないほど、画像に発生する縞模
様の影響が無視でき、特に感光体Ｊ，Ｌ，Ｍ及び
Ｎでは縞模様の全くない良質の画像となつた。
又、感光体Ｏ及びＰでは、かかる縞模様発生の問
題は解決できたが、クリーニング不良などによつ
て未だ良質な画像が得られず、感光体Ｈでは、ク
リーニング不良などと共に、縞模様が画像に顕著
に現われ、実用的でなかつた。 更に、感光体Ｉ，Ｊのように基板の反射率が大
きくても感光層の透過率が小さい時、逆に、感光
体Ｍ，Ｎのように感光層の透過率が大きくても基
板の反射率が小さければ、画像に縞模様が発生す
るのが防止されることが判る。 以上の通り、レーザープリンター用の本発明の
電子写真感光体によれば、レーザー光に対する感
光層の透過率、及び基板の反射率の積を特定する
ことにより、縞模様のない良質な画像が得られ、
そして、この基板の反射率と関係するが、基板の
表面粗度を所定の範囲にすることによつて、縞模
様の発生防止と共に、帯電電位の低下、画像濃度
の低下、トナーのクリーニング不良等々が解決さ
れることになつた。
第３表から明らかなように、感光体Ｉ乃至Ｎで
は、実用上支障がないほど、画像に発生する縞模
様の影響が無視でき、特に感光体Ｊ，Ｌ，Ｍ及び
Ｎでは縞模様の全くない良質の画像となつた。
又、感光体Ｏ及びＰでは、かかる縞模様発生の問
題は解決できたが、クリーニング不良などによつ
て未だ良質な画像が得られず、感光体Ｈでは、ク
リーニング不良などと共に、縞模様が画像に顕著
に現われ、実用的でなかつた。 更に、感光体Ｉ，Ｊのように基板の反射率が大
きくても感光層の透過率が小さい時、逆に、感光
体Ｍ，Ｎのように感光層の透過率が大きくても基
板の反射率が小さければ、画像に縞模様が発生す
るのが防止されることが判る。 以上の通り、レーザープリンター用の本発明の
電子写真感光体によれば、レーザー光に対する感
光層の透過率、及び基板の反射率の積を特定する
ことにより、縞模様のない良質な画像が得られ、
そして、この基板の反射率と関係するが、基板の
表面粗度を所定の範囲にすることによつて、縞模
様の発生防止と共に、帯電電位の低下、画像濃度
の低下、トナーのクリーニング不良等々が解決さ
れることになつた。
第１図は干渉作用を起こす感光体の説明図、第
２図は本発明の実施例に係る感光体の拡大断面
図、第３図は本発明の実施例に係る感光体の層厚
に対する酸素の濃度分布を示す概略図である。 １……導電性基板、２……光導電層、３……障
壁層、４……表面保護層。
２図は本発明の実施例に係る感光体の拡大断面
図、第３図は本発明の実施例に係る感光体の層厚
に対する酸素の濃度分布を示す概略図である。 １……導電性基板、２……光導電層、３……障
壁層、４……表面保護層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 導電性アルミニウム基板上に、光導電層を有
するアモルフアスシリコン感光層が積層され、該
感光層の表面側から発振波長が400〜850nmであ
るレーザー光を参照して該光導電層に光キヤリア
を発生させる電子写真感光体において、前記導電
性アルミニウム基板の表面粗度が0.2〜4μmの滑
らかな凹凸を有するとともに、前記レーザー光に
対する前記感光層の透過率ａと前記レーザー光に
対する前記アルミニウム基板の反射率ｂとの積が
0.2以下であることを特徴とする電子写真感光体。 ２ 導電性アルミニウム基板の表面を0.2μm以下
の表面粗度となるように鏡面加工し、次いで0.2
〜4μmの表面粗度の滑らかな凹凸になるようにエ
ツチング処理した後、この基板上に光導電層を有
するアモルフアスシリコン感光層を積層する工程
により、該感光層の表面側から発振波長が400〜
850nmであるレーザー光を照射した場合における
該レーザー光に対する前記感光層の透過率ａと前
記レーザー光に対する前記アルミニウム基板の反
射率ｂとの積が0.2以下の電子写真感光体の製造
方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182432A JPS6079360A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
| DE19843435757 DE3435757A1 (de) | 1983-09-29 | 1984-09-28 | Elektrophotographisch empfindliches element und verfahren zur herstellung desselben |
| US06/655,931 US4654285A (en) | 1983-09-29 | 1984-09-28 | Electrophotographic sensitive member suitable for coherent beams and method of producing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182432A JPS6079360A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6079360A JPS6079360A (ja) | 1985-05-07 |
| JPH0514902B2 true JPH0514902B2 (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=16118164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58182432A Granted JPS6079360A (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4654285A (ja) |
| JP (1) | JPS6079360A (ja) |
| DE (1) | DE3435757A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4618552A (en) * | 1984-02-17 | 1986-10-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Light receiving member for electrophotography having roughened intermediate layer |
| JPS6191665A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-09 | Kyocera Corp | 電子写真感光体 |
| AU596374B2 (en) * | 1985-09-25 | 1990-05-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Light receiving members |
| US4834501A (en) * | 1985-10-28 | 1989-05-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Light receiving member having a light receiving layer of a-Si(Ge,Sn)(H,X) and a-Si(H,X) layers on a support having spherical dimples with inside faces having minute irregularities |
| JPH079541B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1995-02-01 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体 |
| JPH01207756A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-21 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH079539B2 (ja) * | 1988-09-14 | 1995-02-01 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH0282262A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-22 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH0715589B2 (ja) * | 1988-09-26 | 1995-02-22 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法 |
| JPH031157A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体及び画像形成方法 |
| US5573445A (en) * | 1994-08-31 | 1996-11-12 | Xerox Corporation | Liquid honing process and composition for interference fringe suppression in photosensitive imaging members |
| JP3566621B2 (ja) | 2000-03-30 | 2004-09-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体及びそれを用いた装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5827496B2 (ja) * | 1976-07-23 | 1983-06-09 | 株式会社リコー | 電子写真用セレン感光体 |
| GB2077154B (en) * | 1980-04-24 | 1984-03-07 | Konishiroku Photo Ind | A method of polishing a peripheral surface of a cylindrical drum for electrophotography |
| US4464451A (en) * | 1981-02-06 | 1984-08-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic image-forming member having aluminum oxide layer on a substrate |
| JPS57172344A (en) * | 1981-04-17 | 1982-10-23 | Minolta Camera Co Ltd | Electrophotographic photorecepter |
| US4438188A (en) * | 1981-06-15 | 1984-03-20 | Fuji Electric Company, Ltd. | Method for producing photosensitive film for electrophotography |
| JPS5835544A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPS5882249A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-17 | Canon Inc | レ−ザ−プリンタ用電子写真感光体 |
| JPS58100138A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-14 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
| JPS58162975A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-09-27 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
| DE3321648A1 (de) * | 1982-06-15 | 1983-12-15 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo | Photorezeptor |
| JPS5995538A (ja) * | 1982-11-24 | 1984-06-01 | Olympus Optical Co Ltd | 電子写真感光体 |
-
1983
- 1983-09-29 JP JP58182432A patent/JPS6079360A/ja active Granted
-
1984
- 1984-09-28 DE DE19843435757 patent/DE3435757A1/de active Granted
- 1984-09-28 US US06/655,931 patent/US4654285A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3435757C2 (ja) | 1990-04-05 |
| US4654285A (en) | 1987-03-31 |
| JPS6079360A (ja) | 1985-05-07 |
| DE3435757A1 (de) | 1985-04-18 |
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