JPH03273260A - 感光体基体の表面処理方法 - Google Patents
感光体基体の表面処理方法Info
- Publication number
- JPH03273260A JPH03273260A JP7527190A JP7527190A JPH03273260A JP H03273260 A JPH03273260 A JP H03273260A JP 7527190 A JP7527190 A JP 7527190A JP 7527190 A JP7527190 A JP 7527190A JP H03273260 A JPH03273260 A JP H03273260A
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- JP
- Japan
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- oxide film
- base body
- dust
- substrate
- photosensitive base
- Prior art date
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- Pending
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a)産業上の利用分野
この発明は、感光体基体の表面を処理する表面処理方法
に関する。
に関する。
ω)従来の技術
電子写真感光体は、円筒状のアルミを鏡面加工するなど
して作製された円筒状の基体の表面に感光液を塗布して
感光膜を形成する。この場合、加工中に基体の表面に油
分、ダスト等が付着するので、次の工程である塗工に送
る前に洗浄を行う。
して作製された円筒状の基体の表面に感光液を塗布して
感光膜を形成する。この場合、加工中に基体の表面に油
分、ダスト等が付着するので、次の工程である塗工に送
る前に洗浄を行う。
基体の洗浄方法には超音波洗浄、蒸気洗浄、ジェット洗
浄等いろいろあり、実際には、超音波洗浄をしたのち冷
却し、蒸気洗浄を行い乾燥する等、い(つかの洗浄方法
を組合わせて行っていた。
浄等いろいろあり、実際には、超音波洗浄をしたのち冷
却し、蒸気洗浄を行い乾燥する等、い(つかの洗浄方法
を組合わせて行っていた。
(C)発明が解決しようとする課題
しかしながら、油分やダストは上述のような洗浄方法で
は、加工直後に洗浄する場合は容易に除去できるが、加
工後長期間放置した場合に基体にこびり付いてしまい取
り除き難い。
は、加工直後に洗浄する場合は容易に除去できるが、加
工後長期間放置した場合に基体にこびり付いてしまい取
り除き難い。
感光体の基体の表面に付着した油分、ダスト等の洗浄が
不十分であると、塗布の際にハジキが発生し塗布欠陥を
生しる。このような感光体上の欠陥は、塗布欠陥だけに
止まらず、コピー画像上の黒ポチ、白ポチとなって画像
品質に悪影響を及ぼし、感光体として実用に適さない。
不十分であると、塗布の際にハジキが発生し塗布欠陥を
生しる。このような感光体上の欠陥は、塗布欠陥だけに
止まらず、コピー画像上の黒ポチ、白ポチとなって画像
品質に悪影響を及ぼし、感光体として実用に適さない。
さらに、基体を加工後空気中に放置しておくことにより
、油分やダストの付着した基体表面に自然酸化皮膜が形
成される。このため、油分やダストは表面に強固に付着
し一般の洗浄方法では除去し難かった。また、この酸化
皮膜は加工後の放置時間により膜厚が異なるため、基体
によって自然酸化皮膜の厚みが異なる。従って、放置期
間によって残流電位が変動して、感光体として画像形成
装置の適用したときの電子写真特性に影響を与えてしま
い、やはり画像に黒ポチ、白ポチ、カブリ等が発生する
という欠点があった。
、油分やダストの付着した基体表面に自然酸化皮膜が形
成される。このため、油分やダストは表面に強固に付着
し一般の洗浄方法では除去し難かった。また、この酸化
皮膜は加工後の放置時間により膜厚が異なるため、基体
によって自然酸化皮膜の厚みが異なる。従って、放置期
間によって残流電位が変動して、感光体として画像形成
装置の適用したときの電子写真特性に影響を与えてしま
い、やはり画像に黒ポチ、白ポチ、カブリ等が発生する
という欠点があった。
そこでこの発明の目的は、塗工欠陥の発生しない、さら
に電子写真特性が常に一定になるような、感光体基体の
表面処理方法を提供することにある。
に電子写真特性が常に一定になるような、感光体基体の
表面処理方法を提供することにある。
fd)課題を解決するための手段
この発明の感光体基体の表面処理方法では、感光体基体
の表面に形成された自然酸化皮膜を除去する酸化皮膜除
去工程と、前記酸化皮膜除去工程により自然酸化皮膜を
除去された前記感光体基体の表面に一定の厚さの新しい
酸化皮膜を強制的に形成する酸化皮膜形成工程と、を有
することを特徴とする。
の表面に形成された自然酸化皮膜を除去する酸化皮膜除
去工程と、前記酸化皮膜除去工程により自然酸化皮膜を
除去された前記感光体基体の表面に一定の厚さの新しい
酸化皮膜を強制的に形成する酸化皮膜形成工程と、を有
することを特徴とする。
(e)作用
この発明に係る感光体基体の表面処理方法は、酸化皮膜
除去工程と酸化皮膜形成工程とを有し、感光体基体の汚
れを完全に除去するとともに、表面に一定の厚みの酸化
皮膜を形成することができる。すなわち、酸化皮膜除去
工程において、基体が加工後放置され、油分やダストな
どの汚れの上に形成された自然酸化皮膜を油分やダスト
とともに完全に除去する。その後、酸化皮膜形成工程に
おいて、前記酸化皮膜除去工程で自然酸化皮膜とともに
油分やダストが取り除かれた感光体基体の表面に一定の
厚みの酸化皮膜を強制的に形成する。これにより放置期
間により基体ごとに厚さの異なる酸化皮膜を全て均一に
形成しなおしたのち、次の感光膜の塗工に送るので、感
光体の安定した電子写真特性を得ることができる。
除去工程と酸化皮膜形成工程とを有し、感光体基体の汚
れを完全に除去するとともに、表面に一定の厚みの酸化
皮膜を形成することができる。すなわち、酸化皮膜除去
工程において、基体が加工後放置され、油分やダストな
どの汚れの上に形成された自然酸化皮膜を油分やダスト
とともに完全に除去する。その後、酸化皮膜形成工程に
おいて、前記酸化皮膜除去工程で自然酸化皮膜とともに
油分やダストが取り除かれた感光体基体の表面に一定の
厚みの酸化皮膜を強制的に形成する。これにより放置期
間により基体ごとに厚さの異なる酸化皮膜を全て均一に
形成しなおしたのち、次の感光膜の塗工に送るので、感
光体の安定した電子写真特性を得ることができる。
面処理方法を用いた感光体基体の洗浄方法の工程図であ
る。図において番号は工程の順番を表す。
る。図において番号は工程の順番を表す。
第1の工程では60’Cの溶剤トリエタン中での温浴と
超音波洗浄を30秒間、第2の工程では20°Cの溶剤
トリエタン中の30秒間の浸漬洗浄、第3の工程では3
0秒間の溶剤トリエタンの蒸気洗浄を行う。この第1、
第2、第3の工程は有機溶剤による脱脂洗浄である。次
に第4の工程では40”Cの10%KOH溶液に30秒
浸漬するアルカリ浸漬洗浄(本実施例における酸化皮膜
除去工程)を行い、自然に形成された酸化皮膜とその下
の油分やダストを完全に除去する。その後第5の工程で
20’Cの5%HN○、溶液に30秒浸漬して、前工程
でアルカリ性となったのを中和する。第6の工程では純
水にて30秒間の洗浄を3回行い、第7の工程で20’
Cで乾燥する。
超音波洗浄を30秒間、第2の工程では20°Cの溶剤
トリエタン中の30秒間の浸漬洗浄、第3の工程では3
0秒間の溶剤トリエタンの蒸気洗浄を行う。この第1、
第2、第3の工程は有機溶剤による脱脂洗浄である。次
に第4の工程では40”Cの10%KOH溶液に30秒
浸漬するアルカリ浸漬洗浄(本実施例における酸化皮膜
除去工程)を行い、自然に形成された酸化皮膜とその下
の油分やダストを完全に除去する。その後第5の工程で
20’Cの5%HN○、溶液に30秒浸漬して、前工程
でアルカリ性となったのを中和する。第6の工程では純
水にて30秒間の洗浄を3回行い、第7の工程で20’
Cで乾燥する。
第8の工程では300’Cで30分間加熱することによ
り、酸化皮膜除去済みで洗浄済みの基体表面に新たに一
定の厚みの酸化皮膜を強制的に形成した後(本実施例の
酸化皮膜形成工程)、第9の工程で自然冷却して洗浄を
終了する。
り、酸化皮膜除去済みで洗浄済みの基体表面に新たに一
定の厚みの酸化皮膜を強制的に形成した後(本実施例の
酸化皮膜形成工程)、第9の工程で自然冷却して洗浄を
終了する。
本実施例では、感光体の基体を加工後の放置時間1日か
ら2か月までのものを、各々上述のような工程の洗浄方
法で洗浄した。
ら2か月までのものを、各々上述のような工程の洗浄方
法で洗浄した。
洗浄を終了した基体には、ジブロムアンスアンスロン2
重量部、ブチラール樹脂(セキスイ化学製、エスレフク
BM−2)2重量部、シクロヘキサノン230重量部を
調合しボールミルで8時間分散して調整された感光液の
中で、乾燥膜厚0゜5μmとなるように浸漬塗布を施し
、80 ’Cで30分間乾燥して電荷発生層を形成した
。
重量部、ブチラール樹脂(セキスイ化学製、エスレフク
BM−2)2重量部、シクロヘキサノン230重量部を
調合しボールミルで8時間分散して調整された感光液の
中で、乾燥膜厚0゜5μmとなるように浸漬塗布を施し
、80 ’Cで30分間乾燥して電荷発生層を形成した
。
次に、ヒドラゾン系電荷輸送材(亜南香料製、rABP
Hj)1重置部、ポリカーボネイト樹脂(帝人化威製、
パンライ)−1250)1重量部をジクロルエタン8重
I部に溶解して調整した感光液を、上述の電荷発生層の
上に、乾燥膜厚15μmとなるように塗布を施し70
”Cで1時間乾燥し電荷発生層を形成したのち、さらに
加工し完成品とした。
Hj)1重置部、ポリカーボネイト樹脂(帝人化威製、
パンライ)−1250)1重量部をジクロルエタン8重
I部に溶解して調整した感光液を、上述の電荷発生層の
上に、乾燥膜厚15μmとなるように塗布を施し70
”Cで1時間乾燥し電荷発生層を形成したのち、さらに
加工し完成品とした。
以上のように製造された感光体について、塗工ハジキ、
画像欠陥、電子写真特性の評価を次に示す。評価は塗工
ハジキの発生率、黒ポチの発生率、残留電位のばらつき
(ΔVr)で表す、なお、比較した従来例でも、基体を
加工後の放置時間1日から2か月迄のものを用い、洗浄
方法としては60°Cの溶剤の温浴と超音波洗浄を30
秒間20’Cの溶剤中への30秒間の浸漬洗浄、30秒
間の蒸気洗浄の後自然冷却を行った。次に本実施例の場
合と同様の感光液により同様の方法で感光膜を形成した
。
画像欠陥、電子写真特性の評価を次に示す。評価は塗工
ハジキの発生率、黒ポチの発生率、残留電位のばらつき
(ΔVr)で表す、なお、比較した従来例でも、基体を
加工後の放置時間1日から2か月迄のものを用い、洗浄
方法としては60°Cの溶剤の温浴と超音波洗浄を30
秒間20’Cの溶剤中への30秒間の浸漬洗浄、30秒
間の蒸気洗浄の後自然冷却を行った。次に本実施例の場
合と同様の感光液により同様の方法で感光膜を形成した
。
上記の評価の結果により明らかなように、基体の加工後
の放置期間にかかわらず、塗工ハジキ、画像欠陥(黒ポ
チ)、残留電位のいずれについても大幅に減少していて
、本発明の方法によれば、強固にこびりついた汚れを容
易に除去することができるとともに、電子写真特性の安
定した感光体を得ることができる。
の放置期間にかかわらず、塗工ハジキ、画像欠陥(黒ポ
チ)、残留電位のいずれについても大幅に減少していて
、本発明の方法によれば、強固にこびりついた汚れを容
易に除去することができるとともに、電子写真特性の安
定した感光体を得ることができる。
なお、洗浄方法の各工程の順序、工程数、溶剤、温度、
時間等の条件は、本実施例に限られるものではない。
時間等の条件は、本実施例に限られるものではない。
(幻発明の効果
以上のように、この発明によれば、加工後の感光体基体
に、酸化皮膜除去工程と酸化皮膜形成工程を有する表面
処理方法により表面処理をおこなった。これにより酸化
皮膜除去工程では、基体加工後放置され、表面に形成さ
れた自然酸化被膜を取り除くとともに、油分やダストを
完全に除去することができ、塗工において液ハジキ等の
塗工欠陥の発生の大幅な減少を実現できた。さらに、加
工後の放置期間により厚さの異なる酸化皮膜が除去され
、酸化皮膜形成工程により新たに一定の厚みの酸化皮膜
を強制的に形成するので、基体により酸化皮膜の厚みが
異なることがなく、感光体の電子写真特性の安定化を図
ることができた。従って、塗工欠陥、電子写真特性のバ
ラツキによる画質への悪影響を防止できた。
に、酸化皮膜除去工程と酸化皮膜形成工程を有する表面
処理方法により表面処理をおこなった。これにより酸化
皮膜除去工程では、基体加工後放置され、表面に形成さ
れた自然酸化被膜を取り除くとともに、油分やダストを
完全に除去することができ、塗工において液ハジキ等の
塗工欠陥の発生の大幅な減少を実現できた。さらに、加
工後の放置期間により厚さの異なる酸化皮膜が除去され
、酸化皮膜形成工程により新たに一定の厚みの酸化皮膜
を強制的に形成するので、基体により酸化皮膜の厚みが
異なることがなく、感光体の電子写真特性の安定化を図
ることができた。従って、塗工欠陥、電子写真特性のバ
ラツキによる画質への悪影響を防止できた。
Claims (1)
- (1)感光体基体の表面に形成された自然酸化皮膜を除
去する酸化皮膜除去工程と、前記酸化皮膜除去工程によ
り自然酸化皮膜を除去された前記感光体基体の表面に一
定の厚さの新しい酸化皮膜を強制的に形成する酸化皮膜
形成工程と、を有することを特徴とする感光体基体の表
面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7527190A JPH03273260A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 感光体基体の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7527190A JPH03273260A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 感光体基体の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03273260A true JPH03273260A (ja) | 1991-12-04 |
Family
ID=13571402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7527190A Pending JPH03273260A (ja) | 1990-03-22 | 1990-03-22 | 感光体基体の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03273260A (ja) |
-
1990
- 1990-03-22 JP JP7527190A patent/JPH03273260A/ja active Pending
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