JPH03276406A - Ｍｉｇ方式磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
Ｍｉｇ方式磁気ヘッドおよびその製造方法Info
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- JPH03276406A JPH03276406A JP7571490A JP7571490A JPH03276406A JP H03276406 A JPH03276406 A JP H03276406A JP 7571490 A JP7571490 A JP 7571490A JP 7571490 A JP7571490 A JP 7571490A JP H03276406 A JPH03276406 A JP H03276406A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｍ Ｉ Ｇ （Ｍｅｔａｌ Ｉｎ Ｇａｐ）
方式磁気ヘッドに係わり、特に高記録密度に適したＭＩ
Ｇ方式磁気ヘッドの作動ギャップ部の特性の向上に関す
る。
方式磁気ヘッドに係わり、特に高記録密度に適したＭＩ
Ｇ方式磁気ヘッドの作動ギャップ部の特性の向上に関す
る。
近年の磁気記憶装置の大容量化の進展で、磁気ヘッドの
作動ギャップ部は高記録密度化に適した狭ギャップ長、
狭トラツク幅であることが望まれ例えばギャップ長で０
．５μｍ以下へと狭小化する傾向にあり、更に使用され
る磁気記録媒体の抗磁力も高くなっている。
作動ギャップ部は高記録密度化に適した狭ギャップ長、
狭トラツク幅であることが望まれ例えばギャップ長で０
．５μｍ以下へと狭小化する傾向にあり、更に使用され
る磁気記録媒体の抗磁力も高くなっている。
このような状況に対応すべく、フェライトコアのギャッ
プ形成面に、パーマロイ、センダストなどの高飽和磁束
密度の得られる金属製薄膜を設けた磁気ヘッドが提案さ
れ（実公昭２９−１１６４２号公報、特開昭５５−１５
１２１号公報など）、ＭＩＧ方式磁気ヘッドと呼ばれて
いる。
プ形成面に、パーマロイ、センダストなどの高飽和磁束
密度の得られる金属製薄膜を設けた磁気ヘッドが提案さ
れ（実公昭２９−１１６４２号公報、特開昭５５−１５
１２１号公報など）、ＭＩＧ方式磁気ヘッドと呼ばれて
いる。
中でも、フェライトコアと、それらの金属磁性薄膜の間
に中間層な設置したＭＩＧ方式磁気ヘッドは、ＭＩＧ方
式磁気ヘッド特有の欠点である疑似ギャップの発生を防
止できるため有望視されている。高飽和磁束密度を有す
る金属磁性膜にセンダストを用い、中間層としては鉄珪
素合金バリヤー薄膜が提案されている。
に中間層な設置したＭＩＧ方式磁気ヘッドは、ＭＩＧ方
式磁気ヘッド特有の欠点である疑似ギャップの発生を防
止できるため有望視されている。高飽和磁束密度を有す
る金属磁性膜にセンダストを用い、中間層としては鉄珪
素合金バリヤー薄膜が提案されている。
この中間層を有するＭＩＧ方式磁気ヘッドの作動ギャッ
プ部は、第５図の従来のＭＩＧ方式磁気ヘッドの作動ギ
ャップ部の断面図に示される様に、フェライトコア５０
１，５０４のギャップ形成面に鉄珪素合金からなるバリ
ヤー薄膜５０２、センダスト薄膜５０３を積層して設け
、非磁性ギャップ材５０５を挾持させて、フェライトコ
ア５０４を接合ガラス５０６によって前記フェライトコ
ア５０１に接合された構造をもつ。前記センダスト薄膜
５０６や、バリヤー薄膜５０２はスノ（ツタリング法に
よって形成される。このバリヤー薄膜５０２をフェライ
トコア５０１のギャップ形成面に中間層として、スパッ
タリング法で形成する際に、アルゴンが雰囲気ガスとし
て用いられている。
プ部は、第５図の従来のＭＩＧ方式磁気ヘッドの作動ギ
ャップ部の断面図に示される様に、フェライトコア５０
１，５０４のギャップ形成面に鉄珪素合金からなるバリ
ヤー薄膜５０２、センダスト薄膜５０３を積層して設け
、非磁性ギャップ材５０５を挾持させて、フェライトコ
ア５０４を接合ガラス５０６によって前記フェライトコ
ア５０１に接合された構造をもつ。前記センダスト薄膜
５０６や、バリヤー薄膜５０２はスノ（ツタリング法に
よって形成される。このバリヤー薄膜５０２をフェライ
トコア５０１のギャップ形成面に中間層として、スパッ
タリング法で形成する際に、アルゴンが雰囲気ガスとし
て用いられている。
−〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、従来のＭＩＧ方式磁気ヘッドにおいては
、ギャップ部に形成するバリヤー薄膜５０２とフェライ
トコア５０１との境界の密着力が十分でなく、加工中に
この境界面で剥離が生じたり、剥離が生じないまでも、
ギャップとして満足な強度を持ったものが得られないと
いう課題があった。更に、バリヤー薄膜５０２とフェラ
イトコア５０１との境界の密着力が十分でない場合、ギ
ャップとしての磁気特性を十分に発揮できないという問
題も生じた。この課題は主として以下の原因によるもの
と考えられる。
、ギャップ部に形成するバリヤー薄膜５０２とフェライ
トコア５０１との境界の密着力が十分でなく、加工中に
この境界面で剥離が生じたり、剥離が生じないまでも、
ギャップとして満足な強度を持ったものが得られないと
いう課題があった。更に、バリヤー薄膜５０２とフェラ
イトコア５０１との境界の密着力が十分でない場合、ギ
ャップとしての磁気特性を十分に発揮できないという問
題も生じた。この課題は主として以下の原因によるもの
と考えられる。
即ち、酸化物であるフェライトコア５０１と、鉄珪素合
金からなるバリヤー薄膜５０２はもともと化学的な結合
が生じにくいからである。
金からなるバリヤー薄膜５０２はもともと化学的な結合
が生じにくいからである。
本発明は、上記の原因に着目し、新たな中間層形成法で
鉄珪素合金からなるバリヤー薄膜とフェライトコアとの
密着性を著しく向」ニさせうるＭＩＧ方式磁気ヘッドの
形成方法の提供を目的としている。
鉄珪素合金からなるバリヤー薄膜とフェライトコアとの
密着性を著しく向」ニさせうるＭＩＧ方式磁気ヘッドの
形成方法の提供を目的としている。
本発明は、一対となった夫々のフェライトコアの少なく
とも一方のギャップ形成面に、鉄珪素合金からなるバリ
ヤー薄膜、センダスト薄膜を積層して設け、非磁性ギャ
ップ材を挾持させて、前記一対のフェライトコアを接合
ガラスによって接合させた構造をもつ従来のＭＩＧ方式
磁気ヘッドにおいて、前記バリヤー薄膜を形成する際に
、空気をアルゴンに添加して雰囲気ガスとする新たな中
間層形成法を用いることによって前記課題を解決し、フ
ェライトコアと鉄珪素合金からなるバリヤー薄膜との境
界の密着力を強化したＭＩＧ方式磁気ヘッドの提供を可
能ならしめたものである。
とも一方のギャップ形成面に、鉄珪素合金からなるバリ
ヤー薄膜、センダスト薄膜を積層して設け、非磁性ギャ
ップ材を挾持させて、前記一対のフェライトコアを接合
ガラスによって接合させた構造をもつ従来のＭＩＧ方式
磁気ヘッドにおいて、前記バリヤー薄膜を形成する際に
、空気をアルゴンに添加して雰囲気ガスとする新たな中
間層形成法を用いることによって前記課題を解決し、フ
ェライトコアと鉄珪素合金からなるバリヤー薄膜との境
界の密着力を強化したＭＩＧ方式磁気ヘッドの提供を可
能ならしめたものである。
ここで、前記中間層形成法においては０．１％から２％
の空気、または０．１％から１％の酸素ガスをアルゴン
に添加して雰囲気ガスとして用いることを特徴とする。
の空気、または０．１％から１％の酸素ガスをアルゴン
に添加して雰囲気ガスとして用いることを特徴とする。
本発明において、中間層として鉄珪素合金からなるバリ
ヤー薄膜を形成する際に用いた雰囲気ガスは、アルゴン
に空気を添加したものであり、この空気中に含まれる酸
素が前記バリヤー薄膜中に取り込まれ、バリヤー薄膜は
鉄珪素合金に酸素原子が固溶した構造になる。酸素原子
が固溶した鉄珪素合金からなるバリヤー薄膜は、酸化物
であるフェライトコアとの構造差が緩和される。
ヤー薄膜を形成する際に用いた雰囲気ガスは、アルゴン
に空気を添加したものであり、この空気中に含まれる酸
素が前記バリヤー薄膜中に取り込まれ、バリヤー薄膜は
鉄珪素合金に酸素原子が固溶した構造になる。酸素原子
が固溶した鉄珪素合金からなるバリヤー薄膜は、酸化物
であるフェライトコアとの構造差が緩和される。
上記作用の結果、バリヤー薄膜とフェライトコアとの境
界の密着性の良好なＭ Ｉ Ｇ方式磁気ヘッドが得られ
る。
界の密着性の良好なＭ Ｉ Ｇ方式磁気ヘッドが得られ
る。
以下、図に基づいて本発明による実施例を詳細に説明す
る。
る。
（実施例１）
第１図は本発明によるＭＩＧ方式磁気ヘッドの作動ギャ
ップ部の断面図であり、第２図は本発明によるＭＩＧ方
式磁気ヘッドの形成工程の例を概略的に示した工程図で
ある。
ップ部の断面図であり、第２図は本発明によるＭＩＧ方
式磁気ヘッドの形成工程の例を概略的に示した工程図で
ある。
本発明によるＭＩＧ方式磁気ヘッドのギャップ部は、第
１図に示すように、フェライトコア１０１のギャップ形
成面に、酸素原子が固溶した鉄珪素合金からなるバリヤ
ー薄膜１０２を形成し、該バリヤー薄膜１０２上にセン
ダスト薄膜１０６を積層して設け、非磁性ギャップ材１
０５を挾持させて、フェライトコア１０４を接合ガラス
１０６によって前記フェライトコア１０１に接合させた
構造からなり、その代表的な形成方法を以下の例で示す
。第２図（ａ）に示すように、一対となるマンガン亜鉛
フェライト製コア材のうち第一のフェライトコア材２０
１のギャップ形成面に１８％硅素、８２％鉄よりなるタ
ーゲットを用いて、１％の空気を添加したアルゴンガス
雰囲気中でスパッタリング法によりバリヤー薄膜として
鉄珪素合金薄膜２０２を膜厚０．１μｍで形成する。引
続キ雰囲気ガスをアルゴンのみにして上記鉄珪素合金薄
膜２０２上に、１１％硅素、７％アルミニウム、８２％
鉄からなるターゲットを用いたスノくツタリング法によ
りセンダスト薄膜２０３を２．８μｍ形成する。鉄珪素
合金薄膜２０２とセンダスト薄膜２０３とは、同一装置
内で連続的に形成するのが望ましい。
１図に示すように、フェライトコア１０１のギャップ形
成面に、酸素原子が固溶した鉄珪素合金からなるバリヤ
ー薄膜１０２を形成し、該バリヤー薄膜１０２上にセン
ダスト薄膜１０６を積層して設け、非磁性ギャップ材１
０５を挾持させて、フェライトコア１０４を接合ガラス
１０６によって前記フェライトコア１０１に接合させた
構造からなり、その代表的な形成方法を以下の例で示す
。第２図（ａ）に示すように、一対となるマンガン亜鉛
フェライト製コア材のうち第一のフェライトコア材２０
１のギャップ形成面に１８％硅素、８２％鉄よりなるタ
ーゲットを用いて、１％の空気を添加したアルゴンガス
雰囲気中でスパッタリング法によりバリヤー薄膜として
鉄珪素合金薄膜２０２を膜厚０．１μｍで形成する。引
続キ雰囲気ガスをアルゴンのみにして上記鉄珪素合金薄
膜２０２上に、１１％硅素、７％アルミニウム、８２％
鉄からなるターゲットを用いたスノくツタリング法によ
りセンダスト薄膜２０３を２．８μｍ形成する。鉄珪素
合金薄膜２０２とセンダスト薄膜２０３とは、同一装置
内で連続的に形成するのが望ましい。
次に第２図（ｂ）に示すように、第二のフェライトコア
材２０４のギャップ形成面には非磁性ギャップ材となる
二酸化硅素膜２０５を真空蒸着などのＰＶＤ法、あるい
はＣＶＤ法を用いて、所定のギャップ長と同等の膜厚で
形成する。
材２０４のギャップ形成面には非磁性ギャップ材となる
二酸化硅素膜２０５を真空蒸着などのＰＶＤ法、あるい
はＣＶＤ法を用いて、所定のギャップ長と同等の膜厚で
形成する。
更に、前記第一のフェライトコア材２０１と第二のフェ
ライトコア材２０４とをギャップ面で突き合わし、両者
を各々の接合温度に適した軟化温度を有するガラス２０
６により６００℃のガラス接合温度で接合しく第２図（
Ｃ））、この後、スライシング加工により、個々のへラ
ドコア２０９に切断し、最後にコイル２１０を巻き、本
発明によるＭＩＧ方式磁気ヘッドが完成する。（第２図
（ｄ））以上の実施例により形成した場合、鉄珪素合金
薄膜とフェライトコア材との境界面における加工中の剥
離の発生率が従来の方法と比較して著しく減少した。
ライトコア材２０４とをギャップ面で突き合わし、両者
を各々の接合温度に適した軟化温度を有するガラス２０
６により６００℃のガラス接合温度で接合しく第２図（
Ｃ））、この後、スライシング加工により、個々のへラ
ドコア２０９に切断し、最後にコイル２１０を巻き、本
発明によるＭＩＧ方式磁気ヘッドが完成する。（第２図
（ｄ））以上の実施例により形成した場合、鉄珪素合金
薄膜とフェライトコア材との境界面における加工中の剥
離の発生率が従来の方法と比較して著しく減少した。
（実施例２）
実施例１とほぼ同じ形成工程で、空気の添加量を０％か
ら２．５％の範囲で変化させて鉄珪素合金薄膜を形成し
該合金薄膜上にセンダスト薄膜を積層した。鉄珪素合金
薄膜とフェライトコア材との境界の密着性は、前記フェ
ライトコア材と同じ材質の基板上に、本実施例の形成方
法で、鉄珪素合金薄膜とセンダスト薄膜を積層したもの
を、前記ガラス接合温度と同じ６００℃で熱処理後、引
っかき法を用いて評価した。針に荷重をかけ膜表面を引
っかき、膜に亀裂が入った荷重で比較した。
ら２．５％の範囲で変化させて鉄珪素合金薄膜を形成し
該合金薄膜上にセンダスト薄膜を積層した。鉄珪素合金
薄膜とフェライトコア材との境界の密着性は、前記フェ
ライトコア材と同じ材質の基板上に、本実施例の形成方
法で、鉄珪素合金薄膜とセンダスト薄膜を積層したもの
を、前記ガラス接合温度と同じ６００℃で熱処理後、引
っかき法を用いて評価した。針に荷重をかけ膜表面を引
っかき、膜に亀裂が入った荷重で比較した。
第３図（ａ）にその結果を示す。図中実線は本実施例の
形成方法で成膜された積層膜の結果を示している。本実
施例の形成方法により成膜された積層膜が、−０，１％
から２％の範囲で、従来の、即ち空気の添加量が０％の
ものより剥がれにくいことがわかる。また、このバリヤ
ー薄膜の抗磁力Ｈｃを測定したところ、第３図（ｂ）に
示すように空気の添加量が０．１％から２％の範囲では
Ｈｃは小さくなっていた。これは酸素原子がバリヤー薄
膜の粒成長を抑制し、結晶が微細化されたものと考えら
れる。
形成方法で成膜された積層膜の結果を示している。本実
施例の形成方法により成膜された積層膜が、−０，１％
から２％の範囲で、従来の、即ち空気の添加量が０％の
ものより剥がれにくいことがわかる。また、このバリヤ
ー薄膜の抗磁力Ｈｃを測定したところ、第３図（ｂ）に
示すように空気の添加量が０．１％から２％の範囲では
Ｈｃは小さくなっていた。これは酸素原子がバリヤー薄
膜の粒成長を抑制し、結晶が微細化されたものと考えら
れる。
（実施例３）
実施例１とほぼ同じ形成工程で、空気に替えて酸素ガス
をアルゴンガスに０％から１，５％添加して鉄珪素合金
薄膜を形成した。実施例２と同様センダスト膜を積層し
、熱処理を施した後引っかき法で鉄珪素合金薄膜とフェ
ライトコア材との境界の密着性を評価した。第４図（ａ
）に結果を示す。酸素ガスの添加量が０．１％から１％
の範囲で密着性の向上がみられた。バリヤー薄膜のＨｅ
に関しても、該範囲で減少した（第４図（ｂ）参照）。
をアルゴンガスに０％から１，５％添加して鉄珪素合金
薄膜を形成した。実施例２と同様センダスト膜を積層し
、熱処理を施した後引っかき法で鉄珪素合金薄膜とフェ
ライトコア材との境界の密着性を評価した。第４図（ａ
）に結果を示す。酸素ガスの添加量が０．１％から１％
の範囲で密着性の向上がみられた。バリヤー薄膜のＨｅ
に関しても、該範囲で減少した（第４図（ｂ）参照）。
以上の説明の様に本発明は、従来のＭＩＧ方式磁気ヘッ
ドの作動ギャップ部に用いられていた鉄珪素合金薄膜に
なるバリヤー薄膜を形成する際に、空気または酸素ガス
をアルゴンガスに添加して雰囲気ガスとして使用するこ
とで、鉄珪素合金薄膜とフェライトコアとの境界の密着
性が良く、従来の方式でおきていた加工中の剥離も著し
く減少する。
ドの作動ギャップ部に用いられていた鉄珪素合金薄膜に
なるバリヤー薄膜を形成する際に、空気または酸素ガス
をアルゴンガスに添加して雰囲気ガスとして使用するこ
とで、鉄珪素合金薄膜とフェライトコアとの境界の密着
性が良く、従来の方式でおきていた加工中の剥離も著し
く減少する。
さらに鉄珪素合金膜の）（ｅも小さくする効果は犬で、
今後、ＭＩＧ方式磁気ヘッドの普及が画期的に促進され
るものである。
今後、ＭＩＧ方式磁気ヘッドの普及が画期的に促進され
るものである。
なお、以上の本実施例では、いわゆる［片ＭＩＧ方式」
の構造について説明したが、一対のフェライトコアのそ
れぞれのギャップ形成面にバリヤー薄膜およびセンダス
ト薄膜を積層した「両ＭＩＧ方式」の構造に対しても適
用可能である。
の構造について説明したが、一対のフェライトコアのそ
れぞれのギャップ形成面にバリヤー薄膜およびセンダス
ト薄膜を積層した「両ＭＩＧ方式」の構造に対しても適
用可能である。
第１図は本発明によるＭＩＧ方式磁気ヘッドの作動ギャ
ップ部の一実施例を示す要部断面図、第２図（ａ）〜（
ｄ）は本発明によるＭＩＧ方式磁気ヘッドを形成するた
めの工程例を示す工程図、第３図（ａ）、（ｂ）はそれ
ぞれ雰囲気ガスに空気を添加してバリヤー薄膜を形成し
たときの空気の添加量によるバリヤー薄膜とフェライト
コア材の境界の密着性の変化、バリヤー薄膜のＨｃの変
化を示したグラフ、第４図（ａ）、 （ｂ）はそれぞれ
バリヤー薄膜を形成する際の雰囲気ガスに酸素を添加し
たときの酸素の添加量カバリヤー薄膜とフェライトコア
材の境界の密着性、バリヤー薄膜の）（ｃに及ぼす影響
を示したグラフ、第５図は従来のＭＩＧ方式磁気ヘッド
の作動ギャップ部の要部断面図である。 １０１．１０４．５０１．５０４・・・・・・フェライ
０２． ０３． ０５． ０６、 トコア、 ５０２・・・・・・バリヤー薄膜、 ５０３・・・・・・センダスト薄膜、 ５０５・・・・・・ギャップ材、 ５０６・・・・・・接合ガラス。 第１図 １０６、将合力゛ラス 第２図 （ｃ） （ｄ） ←１１じ玉募榛電≧１叢 峰−）Ｈ 第４図 （（１） Ａｒ１ス（−ブ丁する促υ１〃スの添ヵロｊＬ−（’／
、）第４図 （ｂ） 第５図
ップ部の一実施例を示す要部断面図、第２図（ａ）〜（
ｄ）は本発明によるＭＩＧ方式磁気ヘッドを形成するた
めの工程例を示す工程図、第３図（ａ）、（ｂ）はそれ
ぞれ雰囲気ガスに空気を添加してバリヤー薄膜を形成し
たときの空気の添加量によるバリヤー薄膜とフェライト
コア材の境界の密着性の変化、バリヤー薄膜のＨｃの変
化を示したグラフ、第４図（ａ）、 （ｂ）はそれぞれ
バリヤー薄膜を形成する際の雰囲気ガスに酸素を添加し
たときの酸素の添加量カバリヤー薄膜とフェライトコア
材の境界の密着性、バリヤー薄膜の）（ｃに及ぼす影響
を示したグラフ、第５図は従来のＭＩＧ方式磁気ヘッド
の作動ギャップ部の要部断面図である。 １０１．１０４．５０１．５０４・・・・・・フェライ
０２． ０３． ０５． ０６、 トコア、 ５０２・・・・・・バリヤー薄膜、 ５０３・・・・・・センダスト薄膜、 ５０５・・・・・・ギャップ材、 ５０６・・・・・・接合ガラス。 第１図 １０６、将合力゛ラス 第２図 （ｃ） （ｄ） ←１１じ玉募榛電≧１叢 峰−）Ｈ 第４図 （（１） Ａｒ１ス（−ブ丁する促υ１〃スの添ヵロｊＬ−（’／
、）第４図 （ｂ） 第５図
Claims (2)
- （１）一対のフェライトコアのギャップ形成面に、鉄硅
素合金薄膜からなるバリヤー薄膜とセンダスト薄膜と非
磁性ギャップ材とを挾持させた構造のＭＩＧ方式磁気ヘ
ッドにおいて、前記バリヤー薄膜には、酸素原子が固溶
していることを特徴とするＭＩＧ方式磁気ヘッド。 - （２）一対のフェライトコアのギャップ形成面に、鉄硅
素合金薄膜からなるバリヤー薄膜とセンダスト薄膜と非
磁性ギャップ材とを挾持させた構造のＭＩＧ方式磁気ヘ
ッドにおいて、 前記バリヤー薄膜を形成する際に、０．１％から２％の
空気、または０．１％から１％の酸素ガスをアルゴンに
添加したものを雰囲気ガスとして用いることを特徴とす
るＭＩＧ方式磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7571490A JPH03276406A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | Ｍｉｇ方式磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7571490A JPH03276406A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | Ｍｉｇ方式磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03276406A true JPH03276406A (ja) | 1991-12-06 |
Family
ID=13584194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7571490A Pending JPH03276406A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | Ｍｉｇ方式磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03276406A (ja) |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP7571490A patent/JPH03276406A/ja active Pending
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