JPH0338534A - 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 - Google Patents
弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物Info
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- JPH0338534A JPH0338534A JP1171265A JP17126589A JPH0338534A JP H0338534 A JPH0338534 A JP H0338534A JP 1171265 A JP1171265 A JP 1171265A JP 17126589 A JP17126589 A JP 17126589A JP H0338534 A JPH0338534 A JP H0338534A
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- azeotropic
- methylene chloride
- fluoroethane
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は1代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組成物に関するものである。
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組成物に関するものである。
[従来の技術1
弗素化炭化水素系化合物(以下単にフロンという)は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して1.1.2−)リクロロー1.2.2−トリフルオ
ロエタン(R113)が、発泡剤としてトリクロロモノ
・フルオロメタン(R11)が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン(R12)が使われてい
る。
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して1.1.2−)リクロロー1.2.2−トリフルオ
ロエタン(R113)が、発泡剤としてトリクロロモノ
・フルオロメタン(R11)が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン(R12)が使われてい
る。
[発明が解決しようとする課題]
化学的に特に安定なR11,R12、R113は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに代わり、オゾン層
を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに代わり、オゾン層
を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、1.1−ジクロロ−1−フルオロエタン(R
141b、沸点32℃)、及びメチレンクロライド(沸
点39.8℃)とからなる弗素化炭化水素系共沸及び擬
共沸組成物に関するものである。本発明の組成物は共沸
組成が存在し、特に洗浄溶剤として従来のR113単体
より洗浄力が高いため、R113代替として極めて有用
なものである。
141b、沸点32℃)、及びメチレンクロライド(沸
点39.8℃)とからなる弗素化炭化水素系共沸及び擬
共沸組成物に関するものである。本発明の組成物は共沸
組成が存在し、特に洗浄溶剤として従来のR113単体
より洗浄力が高いため、R113代替として極めて有用
なものである。
更に、リサイクルしても組成の変動が少ないこと、又、
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある。
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある。
本発明の組成物の混合比は8141bが75〜94重量
%、及びメチレンクロライドが6〜25重量%である擬
共沸組成、好ましくはR141bが87.5重量%、及
びメチレンクロライドが12.5重量%である共沸組成
である。
%、及びメチレンクロライドが6〜25重量%である擬
共沸組成、好ましくはR141bが87.5重量%、及
びメチレンクロライドが12.5重量%である共沸組成
である。
本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン。
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン。
イソペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキサン
、ヘプタン、イソへブタン、2.3−ジメチルブタン、
シクロペンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアル
コール、S−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、l、4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、trans−1,2−ジクロロエチレン、 cis
−1,2−ジクロロエチレン、2−ブロモプロパン等の
ハロゲン化炭化水素類、その他、1,1.2−トリクロ
ロ−2,2−ジフルオロエタン(R122)等の本発明
以外のフロン類等を適宜添加することができる。
、ヘプタン、イソへブタン、2.3−ジメチルブタン、
シクロペンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアル
コール、S−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、l、4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、trans−1,2−ジクロロエチレン、 cis
−1,2−ジクロロエチレン、2−ブロモプロパン等の
ハロゲン化炭化水素類、その他、1,1.2−トリクロ
ロ−2,2−ジフルオロエタン(R122)等の本発明
以外のフロン類等を適宜添加することができる。
本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のR113より
高い溶解力を有するため好適である。
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のR113より
高い溶解力を有するため好適である。
溶剤の具体的な用途としては、フラックス。
グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤。
塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス。
プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤
等を挙げることができる。
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤
等を挙げることができる。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
[実施例]
以下に本発明の実施例を示す。
実施例1
下記の組成からなる溶剤混合物1000 gを蒸留フラ
スコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった。
スコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった。
(組成) (重量%)R141b
90メチレンクロライド
lOその結果、留出温度27.5℃にて200
gの留分を得た。このものをガスクロマトグラフで測定
した結果、次の組成であった。
90メチレンクロライド
lOその結果、留出温度27.5℃にて200
gの留分を得た。このものをガスクロマトグラフで測定
した結果、次の組成であった。
(組成) (重量%)R141b
87.5メチレンクロライド
12,5実施例2 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス(タムラAL−4.
タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電気炉で2分間
焼成後、本発明の組成物に5分間浸漬した。比較例とし
てR113についても同様の試験を行なった。
87.5メチレンクロライド
12,5実施例2 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス(タムラAL−4.
タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電気炉で2分間
焼成後、本発明の組成物に5分間浸漬した。比較例とし
てR113についても同様の試験を行なった。
本発明の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第1表に示す。
を第1表に示す。
第1表
0:良好に除去できる ○:はぼ良好Δ:微量残存
×:かなり残存実施例3 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。
×:かなり残存実施例3 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。
5O5−304のテストピース(25mlIIx 30
mmX 2mm厚)を機械油(CQ−30,日本石油■
製)中に浸漬した後、本発明の組成物中に5分間浸漬し
た。比較例としてR113についても同様の試験を行な
った。
mmX 2mm厚)を機械油(CQ−30,日本石油■
製)中に浸漬した後、本発明の組成物中に5分間浸漬し
た。比較例としてR113についても同様の試験を行な
った。
本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
2表に示す。
2表に示す。
第2表
0:良好に除去できる ○:はぼ良好△:微量残存
×:かなり残存[発明の効果] 本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンが有している優れた特性を満足しながら、代
替フロンとして使用できるとともに1、従来のフロンと
同様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要
しない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われてい
るR 113よりもフラックスや油等の溶解除去性に優
れるためR113に代わる洗浄溶剤として最適である。
×:かなり残存[発明の効果] 本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンが有している優れた特性を満足しながら、代
替フロンとして使用できるとともに1、従来のフロンと
同様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要
しない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われてい
るR 113よりもフラックスや油等の溶解除去性に優
れるためR113に代わる洗浄溶剤として最適である。
Claims (4)
- (1)1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンとメチレ
ンクロライドからなる弗素化炭化水素系共沸組成物。 - (2)1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン87.5
重量%,及びメチレンクロライド12.5重量%からな
る請求項1に記載の組成物。 - (3)1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンとメチレ
ンクロライドからなる弗素化炭化水素系擬共沸組成物。 - (4)1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン75〜9
4重量%,及びメチレンクロライド6〜25重量%から
なる請求項3に記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1171265A JP2738034B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1171265A JP2738034B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0338534A true JPH0338534A (ja) | 1991-02-19 |
| JP2738034B2 JP2738034B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=15920123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1171265A Expired - Fee Related JP2738034B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2738034B2 (ja) |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP1171265A patent/JP2738034B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2738034B2 (ja) | 1998-04-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |