JPH0327331A - 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 - Google Patents
弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物Info
- Publication number
- JPH0327331A JPH0327331A JP1159464A JP15946489A JPH0327331A JP H0327331 A JPH0327331 A JP H0327331A JP 1159464 A JP1159464 A JP 1159464A JP 15946489 A JP15946489 A JP 15946489A JP H0327331 A JPH0327331 A JP H0327331A
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- Japan
- Prior art keywords
- composition
- azeotropic
- fluorocarbon
- fluorinated hydrocarbon
- difluoroethane
- Prior art date
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【産業上の利用分野］
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組戒物に関するものである． ［従来の技術］ 弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して１，１．２−トリクロロ−１．２．２− トリフル
オロエタン（ Ｒ １１３ ）が、発泡剤としてトリク
ロロモノフルオロメタン（Ｒｌｌ）が、プロベラントや
冷媒としてジクロロジフルオロメタン（ Ｒ １２ ）
が使われている． ［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ １１， Ｒ １２、Ｒ １１３
は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのこと
から、これら従来のフロンの使用規制が実施されること
となった．このため、これらの従来のフロンに代わり、
オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行な
われている． 本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである． 【課題を解決するための手段】 本発明は、１，１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオ
ロエタン（Ｒ１２２，沸点７１．９℃），及び１，１．
１− ｝リクロロエタン（沸点７４℃）とからなる弗素
化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物に関するものである
．本発明の組成物は共沸組成が存在し、特に洗浄溶剤と
して従来のＲ１１３単体より洗浄力が高いため、Ｒ １
１３代替として極めて有用なものである． 更に、リサイクルしても組成の変動が少ないこと，又、
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある． 本発明の組成物の混合比はＲ １２２が４０〜８０重量
％，及び１，１．１− ｝リクロロエタンが２０〜６０
重量％であり、好ましくはＲ １２２が５６．９重量％
． 及ヒ１，１．１− ｝リクロロエタンが４３．１重
量％である共沸組成である． 本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる．例えば、溶剤としての用途
においては、ベンタン，イソペンタン，ヘキサン，イソ
ヘキサン，ネオヘキサン，ヘブタン，イソへブタン，２
．３−ジメチルブタン，シクロベンタン等の炭化水素類
、ニトロメタン，ニトロエタン，ニトロプロパン等のニ
トロアルカン類、ジエチルアミン，トリエチルアミン，
イソブロビルア与冫，プチルアミン，イソブチルアミン
等のアミン類、メタノール，エタノール，ｎ−プロビル
アルコール，ｌ−プロビルアルコール，ｎ−ブチルアル
コール，１−ブチルアルコール，Ｓ−ブチルアルコール
．ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセロ
ソルブ，テトラヒドロフラン．１，４−ジオキサン等の
エーテル類、アセトン，メチルエチルケトン，メチルブ
チルケトン等のケトン類、酢酸エチル，酢酸プロビル，
酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン，ｔｒａｎ
ｓ−１． ２−ジクロロエチレン， ｃＬｓ−１．２−
ジクロロエチレン，２−ブロモブロバン等のハロゲン化
炭化水素類、その他、１．１−ジクロロ−２． ２．
２−トリフルオロエタン（ Ｒ １２３ ）等の本発明
以外のフロン類等を適宜添加することができる． 本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のＲ １１３よ
り高い溶解力を有するため好適である。 溶剤の具体的な用途としては、フラックス，グリース，
油，ワックス，インキ等の除去剤，塗料用溶剤，抽出剤
、ガラス，セラミックス，プラスチック，ゴム，金属製
各種物品，特にＩＣ部品，電気機器，精密機械，光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。 洗浄方法としては、手拭き，浸漬，スプレー揺動，超音
波洗浄，蒸気洗浄等を採用すればよい．
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組戒物に関するものである． ［従来の技術］ 弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して１，１．２−トリクロロ−１．２．２− トリフル
オロエタン（ Ｒ １１３ ）が、発泡剤としてトリク
ロロモノフルオロメタン（Ｒｌｌ）が、プロベラントや
冷媒としてジクロロジフルオロメタン（ Ｒ １２ ）
が使われている． ［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ １１， Ｒ １２、Ｒ １１３
は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのこと
から、これら従来のフロンの使用規制が実施されること
となった．このため、これらの従来のフロンに代わり、
オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行な
われている． 本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである． 【課題を解決するための手段】 本発明は、１，１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオ
ロエタン（Ｒ１２２，沸点７１．９℃），及び１，１．
１− ｝リクロロエタン（沸点７４℃）とからなる弗素
化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物に関するものである
．本発明の組成物は共沸組成が存在し、特に洗浄溶剤と
して従来のＲ１１３単体より洗浄力が高いため、Ｒ １
１３代替として極めて有用なものである． 更に、リサイクルしても組成の変動が少ないこと，又、
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある． 本発明の組成物の混合比はＲ １２２が４０〜８０重量
％，及び１，１．１− ｝リクロロエタンが２０〜６０
重量％であり、好ましくはＲ １２２が５６．９重量％
． 及ヒ１，１．１− ｝リクロロエタンが４３．１重
量％である共沸組成である． 本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる．例えば、溶剤としての用途
においては、ベンタン，イソペンタン，ヘキサン，イソ
ヘキサン，ネオヘキサン，ヘブタン，イソへブタン，２
．３−ジメチルブタン，シクロベンタン等の炭化水素類
、ニトロメタン，ニトロエタン，ニトロプロパン等のニ
トロアルカン類、ジエチルアミン，トリエチルアミン，
イソブロビルア与冫，プチルアミン，イソブチルアミン
等のアミン類、メタノール，エタノール，ｎ−プロビル
アルコール，ｌ−プロビルアルコール，ｎ−ブチルアル
コール，１−ブチルアルコール，Ｓ−ブチルアルコール
．ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセロ
ソルブ，テトラヒドロフラン．１，４−ジオキサン等の
エーテル類、アセトン，メチルエチルケトン，メチルブ
チルケトン等のケトン類、酢酸エチル，酢酸プロビル，
酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン，ｔｒａｎ
ｓ−１． ２−ジクロロエチレン， ｃＬｓ−１．２−
ジクロロエチレン，２−ブロモブロバン等のハロゲン化
炭化水素類、その他、１．１−ジクロロ−２． ２．
２−トリフルオロエタン（ Ｒ １２３ ）等の本発明
以外のフロン類等を適宜添加することができる． 本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のＲ １１３よ
り高い溶解力を有するため好適である。 溶剤の具体的な用途としては、フラックス，グリース，
油，ワックス，インキ等の除去剤，塗料用溶剤，抽出剤
、ガラス，セラミックス，プラスチック，ゴム，金属製
各種物品，特にＩＣ部品，電気機器，精密機械，光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。 洗浄方法としては、手拭き，浸漬，スプレー揺動，超音
波洗浄，蒸気洗浄等を採用すればよい．
以下に本発明の実施例を示す．
実施例１
下記の組成からなる溶剤混合物１０００ ｇを蒸留フラ
スコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった． （組成） （重量％）Ｒ １２２
Ｇ５１，１．１−トリクロロ
エタン ３５その結果、留出温度６５℃にて
２００ｇの留分を得た．このもの．をガスクロマトグラ
フで測定した結果、次の組成であった。 （組成） （重量％）Ｒ １２２
５６．９１， ｌ， １− ト
リクロロエタン ４３．１実施例２ 本発明の組或物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４，
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の組成物に５分間浸漬した．比較例とし
てＲ １１３についても同様の試験を行なった． 本発明の組或物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第１表に示す． 第１表 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好Δ：微量残存
×：かなり残存実施例３ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった． ＳＯＳ−３０４のテストビース（２５ｎ＋ｍＸ ３０ｍ
ｍＸ ２ｍｍ厚）を機械油（ＣＱ−３０，日本石油■製
）中に浸漬した後、本発明の組或物中に５分間浸漬した
．比較例としてＲ １１３についても同様の試験を行な
った． 本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
２表に示す。 第２表 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好Δ：微量残存
×：かなり残存
スコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった． （組成） （重量％）Ｒ １２２
Ｇ５１，１．１−トリクロロ
エタン ３５その結果、留出温度６５℃にて
２００ｇの留分を得た．このもの．をガスクロマトグラ
フで測定した結果、次の組成であった。 （組成） （重量％）Ｒ １２２
５６．９１， ｌ， １− ト
リクロロエタン ４３．１実施例２ 本発明の組或物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４，
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の組成物に５分間浸漬した．比較例とし
てＲ １１３についても同様の試験を行なった． 本発明の組或物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第１表に示す． 第１表 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好Δ：微量残存
×：かなり残存実施例３ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった． ＳＯＳ−３０４のテストビース（２５ｎ＋ｍＸ ３０ｍ
ｍＸ ２ｍｍ厚）を機械油（ＣＱ−３０，日本石油■製
）中に浸漬した後、本発明の組或物中に５分間浸漬した
．比較例としてＲ １１３についても同様の試験を行な
った． 本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
２表に示す。 第２表 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好Δ：微量残存
×：かなり残存
本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンが有して−いる優れた特性を満足しながら、
代替フロンとして使用できるとともに、従来のフロンと
同様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要
しない等の利点がある．又、溶剤としてよく使われてい
るＲ １１３よりもフラックスや油等の溶解除去性に優
れるためＲ １１３に代わる洗浄溶剤として最適である
。
来のフロンが有して−いる優れた特性を満足しながら、
代替フロンとして使用できるとともに、従来のフロンと
同様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要
しない等の利点がある．又、溶剤としてよく使われてい
るＲ １１３よりもフラックスや油等の溶解除去性に優
れるためＲ １１３に代わる洗浄溶剤として最適である
。
Claims (4)
- （１）１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエ
タンと１，１，１−トリクロロエタンからなる弗素化炭
化水素系共沸組成物。 - （２）１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエ
タン５６．９重量％、及び１，１，１−トリクロロエタ
ン４３．１重量％からなる請求項１に記載の組成物。 - （３）１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエ
タンと１，１，１−トリクロロエタンからなる弗素化炭
化水素系擬共沸組成物。 - （４）１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエ
タン４０〜８０重量％、及び１，１，１−トリクロロエ
タン２０〜６０重量％からなる請求項３に記載の組成物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1159464A JPH0327331A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1159464A JPH0327331A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0327331A true JPH0327331A (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=15694337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1159464A Pending JPH0327331A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0327331A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5356335A (en) * | 1991-07-05 | 1994-10-18 | Taikisha, Ltd. | Pressure gradient control system |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP1159464A patent/JPH0327331A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5356335A (en) * | 1991-07-05 | 1994-10-18 | Taikisha, Ltd. | Pressure gradient control system |
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