JPH0338533A - 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 - Google Patents
弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物Info
- Publication number
- JPH0338533A JPH0338533A JP1171264A JP17126489A JPH0338533A JP H0338533 A JPH0338533 A JP H0338533A JP 1171264 A JP1171264 A JP 1171264A JP 17126489 A JP17126489 A JP 17126489A JP H0338533 A JPH0338533 A JP H0338533A
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- Japan
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- composition
- azeotropic
- methylene chloride
- trifluoroethane
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組成物に関するものである。
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組成物に関するものである。
［従来の技術］
弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して！、１．２−トリクロロー１，２．２− トリフル
オロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロロモ
ノフルオロメタン（Ｒ１１）が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン（Ｒ１２）が使われてい
る。
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して！、１．２−トリクロロー１，２．２− トリフル
オロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロロモ
ノフルオロメタン（Ｒ１１）が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン（Ｒ１２）が使われてい
る。
［発明が解決しようとする課題］
化学的に特に安定なＲ１１，Ｒ１２、Ｒ１１３は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに代わり、オゾン層
を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに代わり、オゾン層
を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は、１．１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオ
ロエタン（Ｒ１２３，沸点２７．６℃）、及びメチレン
クロライド（沸点３９．８℃）とからなる弗素化炭化水
素系共沸及び擬共沸組成物に関するものである。本発明
の組成物は共沸組成が存在し、特に洗浄溶剤として従来
の８１１３単体より洗浄力が高いため、Ｒ１１３代替と
して極めて有用なものである。
ロエタン（Ｒ１２３，沸点２７．６℃）、及びメチレン
クロライド（沸点３９．８℃）とからなる弗素化炭化水
素系共沸及び擬共沸組成物に関するものである。本発明
の組成物は共沸組成が存在し、特に洗浄溶剤として従来
の８１１３単体より洗浄力が高いため、Ｒ１１３代替と
して極めて有用なものである。
更に、リサイクルしても組成の変動が少ないこと、又、
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある。
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある。
本発明の組成物の混合比はＲ１２３が７０〜９９重量％
、及びメチレンクロライドが１〜３０重量％である擬共
沸組成、好ましくはＲ１２３が９２．６重量％、及びメ
チレンクロライドが７．４重量％である共沸組成である
。
、及びメチレンクロライドが１〜３０重量％である擬共
沸組成、好ましくはＲ１２３が９２．６重量％、及びメ
チレンクロライドが７．４重量％である共沸組成である
。
本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン。
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン。
イソペンタン、ヘキサン、イソヘキ廿ン、ネオヘキサン
、ヘプタン、イソへブタン、２．３−ジメチルブタン、
シクロペンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｉ−ブチルアル
コール、Ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、ｌ、４−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、 ｃｉｓ
−１，２−ジクロロエチレン、２−ブロモプロパン等の
ハロゲン化炭化水素類、その他、１，１．２−トリクロ
ロ−２，２−ジフルオロエタン（Ｒ１２２）等の本発明
以外のフロン類等を適宜添加することができる。
、ヘプタン、イソへブタン、２．３−ジメチルブタン、
シクロペンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｉ−ブチルアル
コール、Ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、ｌ、４−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、 ｃｉｓ
−１，２−ジクロロエチレン、２−ブロモプロパン等の
ハロゲン化炭化水素類、その他、１，１．２−トリクロ
ロ−２，２−ジフルオロエタン（Ｒ１２２）等の本発明
以外のフロン類等を適宜添加することができる。
本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のＲ１１３より
高い溶解力を有するため好適である。
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のＲ１１３より
高い溶解力を有するため好適である。
溶剤の具体的な用途としては、フラックス。
グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤。
塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス。
プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部品、
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤
等を挙げることができる。
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤
等を挙げることができる。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
［実施例１
以下に本発明の実施例を示す。
実施例１
下記の組成からなる溶剤混合物１０００ ｇを蒸留フラ
スコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった。
スコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった。
（組成） （重量％）Ｒ１２３９５
メチレンクロライド ５
その結果、留出温度２７．５℃にて２００ｇの留分を得
た。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、次
の組成であった。
た。このものをガスクロマトグラフで測定した結果、次
の組成であった。
（組成） （重量％）８１２３
９２．６メチレンクロライド
７．４実施例２ 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４．
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の組成物に５分間浸漬した。比較例とし
てＲ１１３についても同様の試験を行なった。
９２．６メチレンクロライド
７．４実施例２ 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４．
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の組成物に５分間浸漬した。比較例とし
てＲ１１３についても同様の試験を行なった。
本発明の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第１表に示す。
を第１表に示す。
第１表
０：良好に除去できる ○；はぼ良好△：微量残存
×：かなり残存実施例３ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。
×：かなり残存実施例３ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。
５ＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍＸ ３０ｍｍ
Ｘ ２ｍｍ厚）を機械油（ＣＱ−３０，日本石油■製）
中に浸漬した後、本発明の組成物中に５分間浸漬した。
Ｘ ２ｍｍ厚）を機械油（ＣＱ−３０，日本石油■製）
中に浸漬した後、本発明の組成物中に５分間浸漬した。
比較例としてＲ１１３についても同様の試験を行なった
。
。
本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
２表に示す。
２表に示す。
第２表
０：良好に除去できる
△：微量残存
Ｏ：はぼ良好
×：かなり残存
〔発明の効果］
本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンが有している優れた特性を満足しながら、代
替フロンとして使用できるとともに、従来のフロンと同
様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要し
ない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われている
Ｒ １１３よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れ
るためＲ１１３に代わる洗浄溶剤として最適である。
来のフロンが有している優れた特性を満足しながら、代
替フロンとして使用できるとともに、従来のフロンと同
様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要し
ない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われている
Ｒ １１３よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れ
るためＲ１１３に代わる洗浄溶剤として最適である。
Claims (4)
- （１）１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエ
タンとメチレンクロライドからなる弗素化炭化水素系共
沸組成物。 - （２）１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエ
タン９２．６重量％，及びメチレンクロライド７．４重
量％からなる請求項１に記載の組成物。 - （３）１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエ
タンとメチレンクロライドからなる弗素化炭化水素系擬
共沸組成物。 - （４）１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエ
タン７０〜９９重量％，及びメチレンクロライド１〜３
０重量％からなる請求項３に記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1171264A JPH0338533A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1171264A JPH0338533A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0338533A true JPH0338533A (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=15920105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1171264A Pending JPH0338533A (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0338533A (ja) |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP1171264A patent/JPH0338533A/ja active Pending
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