JPH0327329A - 弗素化炭化水素系溶剤組成物 - Google Patents
弗素化炭化水素系溶剤組成物Info
- Publication number
- JPH0327329A JPH0327329A JP1159462A JP15946289A JPH0327329A JP H0327329 A JPH0327329 A JP H0327329A JP 1159462 A JP1159462 A JP 1159462A JP 15946289 A JP15946289 A JP 15946289A JP H0327329 A JPH0327329 A JP H0327329A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- weight
- hexafluoro
- propanol
- fluorinated hydrocarbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系溶剤
組成物に関するものである． ［従来の技術］ 弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して１， １． ２− トリクロロー１，２．２− ト
リフルオロエタン（ Ｒ １１３ ）が、発泡剤として
トリクロロモノフルオロメタン（Ｒｌｌ）が、プロペラ
ントや冷媒としてジクロロジフルオロメタン（ Ｒ １
２ ）が使われている。 ［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ １１． Ｒ １２、Ｒ １１３
は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのこと
から、これら従来のフロンの使用規制が実施されること
となった．このため、これらの従来のフロンに代わり、
オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行な
われている． 本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである．
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系溶剤
組成物に関するものである． ［従来の技術］ 弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して１， １． ２− トリクロロー１，２．２− ト
リフルオロエタン（ Ｒ １１３ ）が、発泡剤として
トリクロロモノフルオロメタン（Ｒｌｌ）が、プロペラ
ントや冷媒としてジクロロジフルオロメタン（ Ｒ １
２ ）が使われている。 ［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ １１． Ｒ １２、Ｒ １１３
は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのこと
から、これら従来のフロンの使用規制が実施されること
となった．このため、これらの従来のフロンに代わり、
オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行な
われている． 本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである．
本発明は、１．１−ジクロロ−２． ２． ３， ３．
３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２５ｃａ ，
沸点５１．１ ’Ｃ）．１．３−ジクロロ−１．２．２
，３．３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２Ｓｃｂ
、沸点５６．１℃），及び １−クロロ−２． ２，
３． ３−テトラフルオロプロパン（ Ｒ ２４４ｃ
ａ，沸点 ５４℃》のいずれか１種と１， ｌ， １，
３，３．３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール（
６ＦＰ ，沸点５９℃）とからなる弗素化炭化水素系溶
剤組成物に関するものである． 本発明の組戒物は、特に洗浄溶剤として従来のＲ １１
３よりも洗浄力が大きいため、Ｒ １１３代替として極
めて有用なものである。 本発明の組成物のＲ ２２５ｃａと６ＦＰの混合比はＲ
２２５ｃａが６０〜９９重量％，及び６ＦＰが１〜４
０重量％であり、好ましくはＲ ２２５ｃａが７０〜９
０重量％，及び６ＦＰがｌＯ〜３０重量％である．本発
明の組或物のＲ ２２５ｃｂと６ＦＰの混合比はＲ ２
２５ｃｂが６０〜９９重量％，及び６ＦＰが１〜４０重
量％であり、好ましくはＲ ２２５ｃｂが７０〜９０重
量％，及び６ＦＰが１０〜３０重量％である．本発明の
組戒物のＲ ２４４ｃａと６ＦＰの混合比はＲ ２４４
ｃａが６０〜９９重量％，及び６ＦＰが１〜４０重量％
であり、好ましくはＲ ２４４ｃａが７０〜９０重量％
，及び６ＦＰが１０〜３０重量％である．本発明の組成
物には、用途に応じてその他の成分を更に添加混合する
ことができる．例えば、溶剤としての用途においては、
ペンタン，イソペンタン，ヘキサン，イソヘキサン，ネ
オヘキサン，ヘブタン，イソへブタン，２．３−ジメチ
ルブタン，シクロベンタン等の炭化水素類、ニトロメタ
ン，ニトロエタン，ニトロブロバン等のニトロアルカン
類、ジエチルアミン，トリエチルアミン，イソブロビル
アミン，プチルアミン，イソブチルアミン等のアミン類
、メタノール，エタノール．ｎ−プロビルアルコール，
ｌ−プロビルアルコール．ｎ−ブチルアルコール，ｉ−
ブチルアルコール，Ｓ−ブチルアルコール，ｔ−ブチル
アルコール等のアルコール類，メチルセロソルブ，テト
ラヒドロフラン，１．４−ジオキサン等のエーテル類、
アセトン，メチルエチルケトン，メチルブチルケトン等
のケトン類、酢酸エチル，酢酸プロビル．酢酸ブチル等
のエステル類、ジクロロメタン，ｔｒａｒｖ−１ ．
２−ジクロロエチレン， ｃｉｇ−１．２−ジクロロエ
チレン，２−ブロモブロバン等のハロゲン化炭化水素類
、その他、１．１−ジクロロ−１−フルオロエタン等の
本発明以外のフロン類等を適宜添加することができる． 本発明の弗素化炭化水素系溶剤組成物は、従来のフロン
と同様，熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき，特に
溶剤として用いた場合、・従来のＲ １１３より高い溶
解力を有するため好適である． 溶剤の具体的な用途としては、フラックス．グリース，
油．ワックス，インキ等の除去剤，塗料用溶剤，抽出剤
、ガラス，セラミックス，プラスチック，ゴム，金属製
各種物品，特にＩＣ部品，電気機器．精密機械，光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる．洗
浄方法としては、手拭き，浸漬，スプレー揺動，超音波
洗浄，蒸気洗浄等を採用すればよい． ［実施例】 以下に本発明の実施例を示す． 実施例１〜３ 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た．プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４，
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼或後、本発明の組成物中に５分間浸漬した．比較例と
してＲ１１３についても同様の試験を行なった．本発明
の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合いを第１
表に示す． 第１表 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好△：微量残存
×：かなり残存実施例４〜６ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった． ＳＯＳ−３０４のテストビース（ ２５ｍａ＋Ｘ ３０
ｍｍＸ ２ｍｍ厚）を機械油（ Ｃ Ｑ−３０日本石油
■製）中に浸漬した後、本発明の組成物中に５分間浸漬
した．比較例としてＲ １１３についても同様の試験を
行なった． 本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
２表に示す。 第２表 る．又、溶剤としてよく使われているＲ １１３よりも
フラックスや油等の溶解除去性に優れるためＲ １１３
に代わる洗浄溶剤として最適である． ０：良好に除去できる Ｏ：ほぼ良好Δ：微量残存
×：かなり残存
３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２５ｃａ ，
沸点５１．１ ’Ｃ）．１．３−ジクロロ−１．２．２
，３．３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２Ｓｃｂ
、沸点５６．１℃），及び １−クロロ−２． ２，
３． ３−テトラフルオロプロパン（ Ｒ ２４４ｃ
ａ，沸点 ５４℃》のいずれか１種と１， ｌ， １，
３，３．３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール（
６ＦＰ ，沸点５９℃）とからなる弗素化炭化水素系溶
剤組成物に関するものである． 本発明の組戒物は、特に洗浄溶剤として従来のＲ １１
３よりも洗浄力が大きいため、Ｒ １１３代替として極
めて有用なものである。 本発明の組成物のＲ ２２５ｃａと６ＦＰの混合比はＲ
２２５ｃａが６０〜９９重量％，及び６ＦＰが１〜４
０重量％であり、好ましくはＲ ２２５ｃａが７０〜９
０重量％，及び６ＦＰがｌＯ〜３０重量％である．本発
明の組或物のＲ ２２５ｃｂと６ＦＰの混合比はＲ ２
２５ｃｂが６０〜９９重量％，及び６ＦＰが１〜４０重
量％であり、好ましくはＲ ２２５ｃｂが７０〜９０重
量％，及び６ＦＰが１０〜３０重量％である．本発明の
組戒物のＲ ２４４ｃａと６ＦＰの混合比はＲ ２４４
ｃａが６０〜９９重量％，及び６ＦＰが１〜４０重量％
であり、好ましくはＲ ２４４ｃａが７０〜９０重量％
，及び６ＦＰが１０〜３０重量％である．本発明の組成
物には、用途に応じてその他の成分を更に添加混合する
ことができる．例えば、溶剤としての用途においては、
ペンタン，イソペンタン，ヘキサン，イソヘキサン，ネ
オヘキサン，ヘブタン，イソへブタン，２．３−ジメチ
ルブタン，シクロベンタン等の炭化水素類、ニトロメタ
ン，ニトロエタン，ニトロブロバン等のニトロアルカン
類、ジエチルアミン，トリエチルアミン，イソブロビル
アミン，プチルアミン，イソブチルアミン等のアミン類
、メタノール，エタノール．ｎ−プロビルアルコール，
ｌ−プロビルアルコール．ｎ−ブチルアルコール，ｉ−
ブチルアルコール，Ｓ−ブチルアルコール，ｔ−ブチル
アルコール等のアルコール類，メチルセロソルブ，テト
ラヒドロフラン，１．４−ジオキサン等のエーテル類、
アセトン，メチルエチルケトン，メチルブチルケトン等
のケトン類、酢酸エチル，酢酸プロビル．酢酸ブチル等
のエステル類、ジクロロメタン，ｔｒａｒｖ−１ ．
２−ジクロロエチレン， ｃｉｇ−１．２−ジクロロエ
チレン，２−ブロモブロバン等のハロゲン化炭化水素類
、その他、１．１−ジクロロ−１−フルオロエタン等の
本発明以外のフロン類等を適宜添加することができる． 本発明の弗素化炭化水素系溶剤組成物は、従来のフロン
と同様，熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき，特に
溶剤として用いた場合、・従来のＲ １１３より高い溶
解力を有するため好適である． 溶剤の具体的な用途としては、フラックス．グリース，
油．ワックス，インキ等の除去剤，塗料用溶剤，抽出剤
、ガラス，セラミックス，プラスチック，ゴム，金属製
各種物品，特にＩＣ部品，電気機器．精密機械，光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる．洗
浄方法としては、手拭き，浸漬，スプレー揺動，超音波
洗浄，蒸気洗浄等を採用すればよい． ［実施例】 以下に本発明の実施例を示す． 実施例１〜３ 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た．プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４，
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼或後、本発明の組成物中に５分間浸漬した．比較例と
してＲ１１３についても同様の試験を行なった．本発明
の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合いを第１
表に示す． 第１表 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好△：微量残存
×：かなり残存実施例４〜６ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった． ＳＯＳ−３０４のテストビース（ ２５ｍａ＋Ｘ ３０
ｍｍＸ ２ｍｍ厚）を機械油（ Ｃ Ｑ−３０日本石油
■製）中に浸漬した後、本発明の組成物中に５分間浸漬
した．比較例としてＲ １１３についても同様の試験を
行なった． 本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
２表に示す。 第２表 る．又、溶剤としてよく使われているＲ １１３よりも
フラックスや油等の溶解除去性に優れるためＲ １１３
に代わる洗浄溶剤として最適である． ０：良好に除去できる Ｏ：ほぼ良好Δ：微量残存
×：かなり残存
Claims (6)
- （１）１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタ
フルオロプロパン及び１，１，１，３，３，３−ヘキサ
フルオロ−２−プロパノールとからなる弗素化炭化水素
系溶剤組成物。 - （２）１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタ
フルオロプロパン６０〜９９重量％、及び１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール１〜４
０重量％からなる請求項１に記載の組成物。 - （３）１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタ
フルオロプロパン及び１，１，１，３，３，３−ヘキサ
フルオロ−２−プロパノールとからなる弗素化炭化水素
系溶剤組成物。 - （４）１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタ
フルオロプロパン６０〜９９重量％、及び１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール１〜４
０重量％からなる請求項３に記載の組成物。 - （５）１−クロロ−２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロパン及び１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−
２−プロパノールとからなる弗素化炭化水素系溶剤組成
物。 - （６）１−クロロ−２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロパン６０〜９９重量％、及び１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロ−２−プロパノール１〜４０重量％か
らなる請求項５に記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1159462A JPH0327329A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1159462A JPH0327329A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0327329A true JPH0327329A (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=15694294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1159462A Pending JPH0327329A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0327329A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06346096A (ja) * | 1993-05-07 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素化アルコール系洗浄剤 |
| JPH06346095A (ja) * | 1993-06-01 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素系洗浄溶剤組成物 |
| JP2008098616A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-04-24 | Fujifilm Corp | 基板用水切り剤、これを使用する水切り方法及び乾燥方法 |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP1159462A patent/JPH0327329A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06346096A (ja) * | 1993-05-07 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素化アルコール系洗浄剤 |
| JPH06346095A (ja) * | 1993-06-01 | 1994-12-20 | Agency Of Ind Science & Technol | フッ素系洗浄溶剤組成物 |
| JP2008098616A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-04-24 | Fujifilm Corp | 基板用水切り剤、これを使用する水切り方法及び乾燥方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0327328A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JP2734624B2 (ja) | 弗素化炭化水素系共沸様組成物 | |
| JPH0327329A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JP2734623B2 (ja) | 弗素化炭化水素系共沸様組成物 | |
| JPH0317034A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JPH0317033A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JP2737249B2 (ja) | 弗素化炭化水素系擬共沸混合物 | |
| JPH02207033A (ja) | フッ素化炭化水素系共沸及び擬共沸混合物 | |
| JPH032130A (ja) | 弗素化炭化水素系擬共沸混合物 | |
| JPH0317030A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JPH02311430A (ja) | 弗素化炭化水素系共沸組成物 | |
| JPH0317029A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JPH0317031A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JPH0317032A (ja) | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 | |
| JPH0331224A (ja) | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 | |
| JPH0399029A (ja) | 弗素化炭化水素系共沸組成物 | |
| JP2738034B2 (ja) | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 | |
| JPH02286632A (ja) | 弗素化炭化水素系共沸様組成物 | |
| JPH0327331A (ja) | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 | |
| JPH02209819A (ja) | １―クロロ―２，２，３，３―テトラフルオロプロパン系共沸及び擬共沸組成物 | |
| JPH0331222A (ja) | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 | |
| JPH02204448A (ja) | １―クロロ―２，２，３，３―テトラフルオロプロパン系共沸及び共沸様組成物 | |
| JPH0338533A (ja) | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 | |
| JPH02202830A (ja) | １，１―ジクロロ―２，２，３，３，３―ペンタフルオロプロパン系共沸及び擬共沸組成物 | |
| JPH0338535A (ja) | 弗素化炭化水素系擬共沸組成物 |