JPH04281202A - 複合型磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置にお
いて磁気ディスクに対して情報を記録再生する複合型磁
気ヘッド及びその製造方法に関する。詳しくは、エアー
ベアリング面を有するフローティングないし浮上形と称
される磁気ヘッド及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】浮上型磁気ヘッドは、磁性材料（例えば
Ｍｎ−Ｚｎフェライト）を用いてスライダとヘッドチッ
プ部とを一体に形成したモノリシックヘッドと、非磁性
材料（例えばＣａＴｉＯ３　、Ａｌ２　Ｏ３　−ＴｉＣ
）のスライダに磁性材料でできた磁気ヘッドチップを埋
め込んだコンポジットヘッドとに大別される。モノリシ
ックヘッドは図９に示す構成になっており、コンポジッ
トヘッドは図７に示す構成になっている。以下図７のコ
ンポジットヘッドを例にとって説明する。磁気ヘッドチ
ップ１がスライダ２に取り付けられ、スライダ２は２条
のエアーベアリング面３、４を有する。このコンポジッ
トヘッドではスライダ２のエアーベアリング面３に沿っ
て流れる空気流の出口端にスライダ長手方向のスリット
９が設けられており、このスリット９内に磁気ヘッドチ
ップ１が差し込まれ、ガラスで接着して埋められている
。磁気ヘッドチップ１は図８に示す構成となっており、
ガラス７で結合された１対のコア５、６を有し、コア５
、６の間に金属磁性薄膜１１を介在させると共にギャッ
プ８が形成されている。一方のコア５は直線的なＩ字型
であって、他方のコア６はＣ字型となっていて、中央に
巻線用の窓１０が設けられる。また磁気ヘッドチップ１
は、ディスクに対向する面がディスクのトラック幅と略
同一となるように突出される。なお、コア５、６はＭｎ
Ｏ、ＺｎＯ及びＦｅ２Ｏ３　を主体とするＭｎ−Ｚｎフ
ェライトで形成される。

【０００３】そして磁気ヘッドチップのギャップ８をデ
ィスクに対向させて、ディスクから生ずる磁気的変化を
ギャップ８により検知し、ディスクの記録情報を磁気ヘ
ッドが読み取ったり、逆にギャップ８から発生する磁束
の変化によりディスクに記録させたりしている。

【０００４】磁気記録の分野においては、記録の高密度
化に向けての検討が、記録媒体であるディスクと磁気ヘ
ッドとの両方から進められている。フェライトヘッドで
は、飽和磁束密度が５０００Ｇ程度であることから、媒
体を飽和させるのに十分なヘッド磁界を発生できない状
況になってきている。このため前記図８のようにＩコア
のＣコアへの接合面に、高飽和磁束密度を有する金属磁
性薄膜１１をスパッタリング法などにより付着させた磁
気ヘッドが用いられてきている。

【０００５】ところが、この磁気ヘッドチップ１は、フ
ェライトコア５と金属磁性薄膜１１との接合面で反応し
て非磁性の反応層が形成され、記録再生特性の劣化を招
く原因となってしまっている。即ち、図１０に示す如く
、ギャップ８による再生出力Ｅ１　のほかに前記反応層
が疑似ギャップとなり別の再生出力Ｅ２　が発生する。 そして、このために再生信号の周波数特性にうねりを生
じ、再生出力の低下などにより磁気ヘッドの性能の低下
を招いてしまうことがある。またコア５に直接、金属磁
性薄膜をスパッタリング等により被着させた場合、接合
強度が低く、金属磁性薄膜が剥れるという問題もあった
。

【０００６】前記金属磁性薄膜の接合強度を向上させる
ため、コアの接合面にスパッタリングでＣｒ層を形成し
、さらにＣｒ層の表面に金属磁性薄膜をスパッタリング
で形成するようにした磁気ヘッドも知られている。しか
しこの場合でもＣｒ層が疑似ギャップになるという問題
もあった。

【０００７】このＣｒ層が疑似ギャップとなることを防
止するために、Ｃｒを拡散させたものが提案されている
（特開平２−２７３３０５号）。すなわちコアの接合面
にスパッタリング等でＣｒ膜を形成し、Ｃｒとコアのフ
ェライト中の酸素とを反応させて、Ｃｒ層とフェライト
との間に３〜１００Åの酸化Ｃｒ層等を形成する。次い
でＣｒ層を酸化雰囲気に接触させることなくスパッタリ
ング等により、金属磁性薄膜（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
薄膜）をＣｒ層の表面に形成し、Ｃｒを金属磁性薄膜中
に拡散させている。このような場合でも、Ｃｒが拡散し
て非磁性層の厚さが薄くなるため疑似ギャップは抑えら
れるが、金属磁性薄膜の磁気特性を低下させるという問
題があった。

【０００８】また、Ｃｒ層が金属磁性薄膜に拡散して、
記録再生特性が劣化するのを防止するため、金属磁性薄
膜とフェライトコアとの付着力を強化するＣｒ層と、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金薄膜との間に拡散防止膜として厚
み５０〜２００ÅのＳｉＯ２、Ａｌ２　Ｏ３　の非磁性
酸化膜を介在形成したものが知られている（特開平１−
２６０６１５）。しかしこの場合、ＣｒがＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系薄膜へ拡散するのを防止できるが、Ｃｒ膜及び非
磁性酸化膜とが疑似ギャップ層として作用するという問
題があった。

【０００９】さらに、フェライトコアと金属磁性薄膜と
の接合面で熱膨張係数の差により、金属磁性薄膜の被着
初期層の磁気特性が劣化し、フェライトコアとの接合部
に磁気的な不連続が生じて、疑似ギャップとなるのを防
止しているものも知られている（特開昭６３−２７９４
０４）。すなわち無歪高平担度の強磁性酸化物表面（コ
ア表面）に、ｂｃｃ構造を有する強磁性のＦｅ、または
Ｆｅ系合金薄膜、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜の順に積層す
ると、下地のＦｅまたはＦｅ薄膜の結晶配向に沿ってＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜が形成され、初期層の結晶配向の乱
れが少なく、熱処理により容易に軟磁気特性が向上する
としている。なお、成膜の際のコア表面、薄膜の好まし
い条件としては、基板は４０Å以下の平坦な面を必要と
し、強磁性のＦｅまたはＦｅ系合金薄膜の厚みは０．１
〜０．５μｍ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金薄膜の厚みは０
．１〜１０μｍとしている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】前述したように磁気ヘ
ッドには、フェライトコア面にＣｒ層を形成し、そのＣ
ｒを金属磁性薄膜中に拡散させて、Ｃｒ層が疑似ギャッ
プ層として作用しないようにしたものがある。この場合
、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金薄膜の軟磁気特性を向上する
ために６５０℃前後でアニールするので、Ｃｒ層と金属
磁性薄膜との界面近傍が反応して磁気特性的に劣化層と
なり、逆に疑似ギャップになるという問題があった。 なお、Ｃｒ層と金属磁性薄膜との間に反応劣化層が生じ
ないように両者間にＳｉＯ２　等の拡散防止膜を形成し
たものがあるが、その場合にはＣｒ層と拡散防止膜が疑
似ギャップ層になってしまう。

【００１１】また無歪高平担度の磁気コア表面に、ｂｃ
ｃ構造のＦｅ又はＦｅ系合金薄膜を介して金属磁性薄膜
を付着させた磁気ヘッドは、コアと金属磁性薄膜との熱
膨張係数の差により、初期層の結晶配向に乱れが生じる
のを防止したものである。すなわち、前記のようにコア
表面と金属磁性合金薄膜との間に接合強度向上のために
Ｃｒ層を介在させるものとは、問題解決の前提を異にす
る考え方である。なおこの場合にはコアと、Ｆｅ膜との
接合部が反応して変質層となり、それが疑似ギャップと
なりやすく、かつ接合強度が不十分である。そこで本発
明は、磁気ヘッドのコア表面に接合強度向上のためのＣ
ｒ層を介在させ、さらにＦｅ膜を介在させることにより
Ｃｒ層からのＣｒの金属磁性薄膜への拡散による磁気特
性の劣化を抑制することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の複合型磁気ヘッ
ドは、磁気キャップを介して一対のフェライトコアを対
向して配置し、その少なくとも一方のコアの対向面に金
属磁性薄膜を被着させたもので、フェライトコア表面に
、Ｃｒリッチ層、Ｆｅリッチ層、金属磁性薄膜の順に積
層されていることを特徴とするものである。

【００１３】Ｃｒリッチ層の厚さは２０〜２００Å、Ｆ
ｅリッチ層の厚さは１５０〜１５００Åにするのが望ま
しいが、５００〜１０００Åであればより望ましい。ま
た、金属磁性薄膜は０．５〜２μｍの厚さにするのが望
ましい。Ｃｒリッチ層の厚さを前記範囲にしたのは２０
Åより小さいと接合強度の向上を図れず、２００Åより
大きくなると疑似ギャップになりやすくなるためである
。Ｆｅリッチ層の厚さを前記範囲にしたのは、１５０Å
より小さいとＣｒが金属磁性薄膜への拡散防止が不十分
で磁気ヘッド特性の改善の効果が見られない。また１５
００Åより厚いとＦｅ−Ａｌ−Ｓｉの軟磁気特性を低下
させるので好ましくない。

【００１４】金属磁性薄膜としては、通常センダストと
呼ばれるＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系磁性薄膜を使用でき、この
他パーマロイ系のＦｅ−Ｎｉ、高飽和磁束密度のＦｅ−
Ｓｉ薄膜、あるいはＦｅ−Ａｌ薄膜、あるいは高飽和磁
束密度、高透磁率アモルファス合金例えばＣｏ−Ｎｂ（
Ｔａ）−Ｚｒ系の薄膜をスパッタリングなどによって付
着生成させたものが好適である。これらの薄膜に２重量
％以下のＣｒあるいは貴金属元素を含有させてもよい。

【００１５】本発明の複合型磁気ヘッドの製造方法は、
ガラスにより結合される１対のフェライトコアのうち一
方のコアの結合面にＣｒを被着してＣｒ層を形成する工
程と、前記Ｃｒ層を反応ガス性雰囲気に接触させること
なくその表面にＦｅ層を被着する工程と、前記Ｆｅ層を
反応ガス性雰囲気に接触させることなくその表面にＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜を被着する工程と、Ｃｒ層のＣｒを
Ｆｅ層中に拡散させる熱処理工程と、一対のフェライト
コアをガラスで結合する工程とを含むものである。

【００１６】複合型磁気ヘッドの製造方法においては、
Ｃｒの拡散とガラスボンディングとを同一工程で行うの
が望ましい。Ｆｅ層の形成後に行う熱処理は、６４０〜
７３０℃に１０分〜２５分保持するのが望ましい。また
薄膜の被着の雰囲気とはＨ２Ｏ分圧とＯ２　分圧との和
が１０−１Ｐａ以上のものである。それぞれの薄膜の被
着のためのスパッタリングをする場合、全工程にわたっ
て、Ｈ２　Ｏ分圧とＯ２　分圧の和が１０−１Ｐａ未満
、望ましくは１０−２Ｐａ未満に保つことが良い。

【００１７】

【作用】フェライトの接合面に、Ｃｒ層、Ｆｅ層、磁性
合金磁石薄膜が順に積層されているので、Ｃｒ層のＣｒ
が熱処理によってＦｅ層に拡散し、一部のＣｒが金属磁
性薄膜に拡散するが磁気特性を劣化させるほどには拡散
することはなく、金属強磁性合金薄膜に変質層を生じさ
せることはない。そしてＣｒ層は一部がコア表面で酸化
反応してきわめて薄いＣｒ酸化層として境界部に残るが
、大部分はＦｅ層中に拡散するため、Ｃｒ層が疑似ギャ
ップとして作用することはない。またＦｅ層は磁性膜で
あるので、金属磁性薄膜の下地として介在させてＣｒを
拡散させても疑似ギャップとなることはない。このよう
にフェライトコアの接合面は、Ｃｒリッチ層、Ｆｅリッ
チ層を介して金属磁性薄膜が積層されることになり、金
属磁性薄膜の磁気特性を劣化させることなく、疑似ギャ
ップを大幅に低減でき、しかもＣｒリッチ層により接合
強度は大きなものとなる。

【００１８】

【実施例】本発明の磁気ヘッドの実施例を磁気コアを示
す図１と磁気ヘッドの磁気記録媒体への対向部を示す図
２（ａ）、（ｂ）とを参考にして説明する。この磁気ヘ
ッドを構成する磁性体のＩコア５とＣコア６はＭｎ−Ｚ
ｎフェライトで形成され、Ｉコア５の接合面に、厚さ２
０〜２００ÅのＣｒリッチ層２１と厚さ１５０〜１５０
０ÅのＦｅリッチ層２２とが順に積層されている。Ｃｒ
リッチ層２１は主にＣｒから、Ｆｅリッチ層２２は主に
Ｆｅからなり、さらに構成部材のＭｎ−Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆ
ｅ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉの各元素が相互に拡散している。 Ｃｒリッチ層２１には、Ｆｅリッチ層を介してフロント
ギャップ形成面からバックギャップ形成面に至るまでＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜２３が厚さ０．５〜２μｍで被着
され、そのＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜２３とコア６の間に
ギャップ８を有するようにガラス７で結合されている。 なお、図１、２は模式図であり、Ｃｒリッチ層２１、Ｆ
ｅリッチ層２２及びＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ層２３がある厚み
をもって示されているが、これらの厚みは２０〜１５０
０Åあるいは数μｍ以下であり、肉眼では識別できない
ものである。図２において、（ａ）は一方のコア面に金
属磁性薄膜を被着させた例であり、（ｂ）はＩコアとＣ
コアの両面にそれぞれＣｒリッチ層、Ｆｅリッチ層、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜をそれぞれ積層した例であり、そ
の場合Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜同志がガラスで結合され
ている。また本発明は、Ｍｎ−Ｚｎ多結晶フェライト等
を用いた図９のモノリシックヘッドに適用してもその効
果は大きい。

【００１９】次に上記磁気ヘッドの製造方法を説明する
。まずＩコア５とＣコア６とをＭｎ−Ｚｎフェライトを
用いて別々に作成する。次にスパッタリング装置にＩコ
ア５を入れ、Ｉコア５の接合面にＣｒを２０〜２００Å
の厚さにスパッタリングする。このスパッタリングの際
、おそらくはＣｒ原子がフェライト表面に衝突するエネ
ルギーにより、コア側のフェライト中の酸素とＣｒとが
反応して酸化Ｃｒ層が少なくとも一部形成される。Ｃｒ
層を形成した後、このＣｒ層を大気など酸化雰囲気に接
触させることなく、Ｃｒ層の上にＦｅを１５０〜１５０
０Åの厚さにスパッタリングする。次いでＦｅ層を大気
など酸化雰囲気に接触させることなく、Ｆｅ層の上にＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜２３を０．５〜２μｍの厚さとな
るようにスパッタリングする。この後、熱処理によりＣ
ｒ層を拡散させて消失させる。このときフェライトコア
とＣｒ層の境界のＣｒの酸化層も増えると考えられる。 この場合の熱処理温度は６４０〜７３０℃で１０分以上
の保持が好適である。これによりＣｒ層のＣｒがＦｅ層
に拡散され、Ｃｒリッチ層２１、Ｆｅリッチ層２２、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ層２３の順に積層されることになる。こ
のように磁性膜を付着したＩコア５は、ガラス７により
Ｃコア６に結合される。このガラスは、磁気ヘッドをス
ライダに固定するときに用いられるよりも軟化点の高い
ものを用いる。この理由は、磁気ヘッドをスライダに固
定するために加熱したときに、ＩコアとＣコアとを結合
しているガラス７が軟化しないようにするためである。

【００２０】本発明においては、Ｃｒ層の上にＦｅ層と
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ層とを形成した後、Ｃｒ拡散のためだ
けの熱処理を行わず、代わりにＩコア５とＣコア６とを
ガラスボンディングするために加熱するときに、Ｃｒ層
をＦｅ層に拡散させるようにしても良い。このようにす
ると熱処理工程が１つ減少する。コア同志をガラスボン
ディングする際の温度は６４０〜７３０℃が好適である
。ガラスボンディング時にＣｒの拡散を行う場合は、加
熱時間は好ましくは１０分以上、特に２０分以上とし、
Ｃｒを十分にＦｅ層に拡散させる。なお、Ｃコア６のＩ
コア５への接合面にも高透磁率の金属磁性薄膜を形成し
てもよい。

【００２１】本発明において用いられる好適なＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ系薄膜２３としては、重量％にてＡｌ：２〜１
０％、Ｓｉ：３〜１６％、残部実質的にＦｅであるもの
が挙げられる。Ａｌ：４〜８％、Ｓｉ：６〜１１％、残
部が実質的にＦｅであるものがとりわけ好適である。な
お、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｒｕをそれぞれ２％以下ずつ含んでい
ても、耐食性、耐摩耗性を向上させることができ好適で
ある。

【００２２】Ｉコア５とＣコア６の構成材料としてはＭ
ｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等が好適で
ある。Ｍｎ−Ｚｎフェライトの好ましい組成としては、
モル％でＭｎＯ：２５〜３７％、ＺｎＯ：８〜２３％、
Ｆｅ２　Ｏ３　：５１〜６０％が挙げられる。Ｉコアと
Ｃコアとを結合するためのガラスとしてはＳｉＯ２　−
ＰｂＯ−Ｒ２　Ｏ（Ｒはアルカル金属）系ガラスまたは
、ＳｉＯ２　−ＰｂＯ−Ｒ２　Ｏ−Ｂ２　Ｏ３　系ガラ
スがある。その組成を、次に例示する。このガラスは軟
化点が５６０〜５８０℃である。 　　　　ＳｉＯ２　‥‥２８〜４９ｗｔ％　　　　　　
　　Ｎａ２　Ｏ‥‥　　７〜１３ｗｔ％　　　　Ｂ２　
Ｏ３　‥‥　　５〜１５ｗｔ％　　　　　　　　ＰｂＯ
　　‥‥　　　　残部磁気ヘッドをスライダに接合する
ためのガラスの一例としては、ＰｂＯ−ＳｉＯ２　−Ａ
ｌ２　Ｏ３　−Ｂ２　Ｏ３　系ガラスがある。このガラ
スの組成の一例を次に示す。 　　　　ＰｂＯ‥‥‥‥７８〜８３ｗｔ％　　　　　　
ＳｉＯ２　‥‥　　６〜１３ｗｔ％　　　　Ａｌ２　Ｏ
３　‥‥　　３〜１０ｗｔ％　　　　　　Ｂ２　Ｏ３　
‥‥　　４〜１０ｗｔ％ＰｂＯを主成分としたこのガラ
スの軟化点は４１０〜４５０℃である。以下、製造の実
施例を参照しながら本発明についてさらに詳細に説明す
る。

【００２３】（実施例１）Ｉコア５を高性能排気系を有
するスパッタ装置内に配置する。この系を、以下の条件
まで排気した後、金属Ｃｒ（純度９９．９９％以上）と
、金属Ｆｅ（純度９９．９９％以上）とＦｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ合金の各ターゲットを使用してこれらの各薄膜を順次
形成する。排気特性はＨ２　Ｏ分圧＜１０−２Ｐａ、Ｏ
２　分圧＜１０−２Ｐａ、コアの温度３００℃にした。 またスパッタ条件は、スパッタ電力１ｋｗ、Ｃｒ膜厚１
００Å、Ｆｅ膜厚５００Å、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜厚１．
５μｍにした。さらにＩコアを６００℃の温度で３０分
間熱処理を施すことにより、Ｃｒ膜のＣｒを拡散させた
。この後、ＳｉＯ２　３５ｗｔ％、Ｂ２　Ｏ３　１０ｗ
ｔ％、Ｎａ２　Ｏ　　１０ｗｔ％、残部ＰｂＯからなる
組成を有し、軟化点５７０℃のガラスを用いてＩコアと
Ｃコアとを接合した。この加熱温度は７００℃、時間は
６０分、雰囲気はＮ２　である。

【００２４】図３は製造された磁気ヘッドの磁気記録媒
体との対向面の要部を拡大した金属組織写真である。図
３より、Ｃｒ膜、Ｆｅ膜、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜（センダ
スト膜）の初期形成膜厚に相当する部分で、おのおの異
なった積層構造を示していることがわかる。なお図３に
おいてフェライトはコア部分を表わす。図３の部分を走
査型電子顕微鏡で詳細に分析した結果を図４に示す。図
４からＣｒ膜はＣｒリッチ層に、Ｆｅ膜はＦｅリッチ層
になっていることが確認できる。更に、上記磁気ヘッド
について孤立波形を測定したところ図５に示すようにな
っており、疑似ギャップが生じていないことが分る。

【００２５】（実施例２）実施例１と同様にしてＦｅリ
ッチ層が１００Å、２００Å、５００Å、１２００Å、
１５００Åの各磁気ヘッドと、Ｆｅリッチ層を介在させ
ないで作成した比較例の磁気ヘッドについて、それぞれ
の再生出力とビットシフトを測定して図６に示した。図
６より再生出力は、Ｆｅ膜厚が２００Åから１５００Å
のものが比較例より大きいことがわかる。またビットシ
フトは、Ｆｅ膜厚が２００Åのものから１５００Åのも
のが比較例より低く、磁気ヘッド特性が良いことがわか
る。

【００２６】（実施例３）次に前記実施例１で作成した
Ｃｒ、Ｆｅ（厚さ５００Å）を下地にした磁気ヘッドと
、各種の比較例の磁気ヘッドとを作成して、それぞれの
金属磁性薄膜の付着力、疑似ギャップ、再生出力、ビッ
トシフトを測定して表１に示した。なお、付着力は引っ
掻き法により求めた。比較例の磁気ヘッドとしては、コ
アの接合面と金属磁性薄膜との間に介在させる下地材が
ないもの、Ｃｒを下地にしたもの、Ｃｒの拡散層を有す
るもの、Ｆｅを下地にしたもの、ＣｒとＳｉＯ２　とを
下地にしたものを使用した。表１でわかるように、付着
力に関しては本実施例と、Ｃｒを下地にした比較例が大
きい。これはＣｒを下地にすることにより酸化Ｃｒ層を
介してコアと強固に固着し、Ｆｅ層あるいは金属磁性薄
膜とも酸化Ｃｒ層を介して同様に強固に固着されるから
と考えられる。また疑似ギャップに関しては、本実施例
と、Ｃｒ拡散層を下地にした比較例とがほとんど生じず
望ましいことを確認できる。再生出力に関しては、本実
施例と、Ｃｒ下地にした比較例が２５０ｍＶ以上と望ま
しく、その中でも本実施例のものがより望ましい。さら
にビットシフトに関しては、本実施例が最も小さく、望
ましいことがわかる。

【００２７】

【表１】

【００２８】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドによれば、コアの接
合面と金属磁性薄膜との間にＣｒリッチ層とＦｅリッチ
層とを介在させているので、ＣｒがＦｅリッチ層に拡散
してもＦｅリッチ層が磁性を有するのでそれが疑似ギャ
ップとなることはなく、しかもＣｒリッチ層により接合
強度は大きなものとなり、さらにＣｒは金属磁性薄膜に
は磁気特性を劣化するほどには拡散されないので記録再
生特性の良い磁気ヘッドとなる。また本発明の磁気ヘッ
ドの製造方法によれば、コア接合面にＣｒ層、Ｆｅ層、
金属磁性薄膜を順に積層し、熱処理によりＣｒ層のＣｒ
を拡散させるので、Ｃｒ層が疑似ギャップとして残るこ
とはなく、しかもコア側にはＣｒ酸化層として結合性よ
く付着され、記録再生特性の良い磁気ヘッドを信頼性よ
く作成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドにおける磁気ヘッドチップ
の全体斜視図である。

【図２】磁気ヘッドの磁気記録媒体への対向部の２つの
例の部分斜視図である。

【図３】磁気ヘッドの磁気記録媒体との対向面を拡大し
た金属組織写真である。

【図４】磁気ヘッドの磁気記録媒体への対向面における
積層部の組成分析図である。

【図５】磁気ヘッドの出力波形図である。

【図６】磁気ヘッドの再生出力と、ビットシフトを示す
測定図である。

【図７】従来の磁気ヘッドの斜視図である。

【図８】従来の磁気ヘッドにおける磁気ヘッドチップの
斜視図である。

【図９】磁気ヘッドにおけるモノリシックヘッドの斜視
図である。

【図１０】従来の磁気ヘッドの出力波形を示す波形図で
ある。

【符号の説明】

５　　Ｉコア ６　　Ｃコア ８　　ギャップ １１　　金属磁性薄膜 ２１　　Ｃｒリッチ層 ２２　　Ｆｅリッチ層 ２３　　Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　磁気ギャップを介して一対のフェライ
   トコアを対向して配置し、その少なくとも一方のコアの
   対向面に金属磁性薄膜を被着させた磁気ヘッドにおいて
   、金属磁性薄膜を被着させる側のフェライトコアの面に
   、Ｃｒリッチ層、Ｆｅリッチ層、金属磁性薄膜の順に積
   層されていることを特徴とする複合型磁気ヘッド。
2. 【請求項２】　　Ｃｒリッチ層の厚さを２０〜２００Å
   、Ｆｅリッチ層の厚さを１５０〜１５００Åにしたこと
   を特徴とする請求項１に記載の複合型磁気ヘッド。
3. 【請求項３】　　金属磁性薄膜は、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系
   磁性薄膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載
   の複合型磁気ヘッド。
4. 【請求項４】　　ガラスにより結合される１対のフェラ
   イトコアのうち一方のコアの結合面にＣｒを被着してＣ
   ｒ層を形成する工程と、前記Ｃｒ層を反応ガス雰囲気に
   接触させることなくその表面に被着してＦｅ層を形成す
   る工程と、前記Ｆｅ層を反応ガス性雰囲気に接触させる
   ことなくその表面に被着してＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系薄膜を
   形成する工程と、Ｃｒ層のＣｒをＦｅ層中に拡散させる
   熱処理工程と、一対のフェライトコアをガラスで結合す
   る工程とを含むことを特徴とする複合型磁気ヘッドの製
   造方法。