JPH0448263U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0448263U JPH0448263U JP9143690U JP9143690U JPH0448263U JP H0448263 U JPH0448263 U JP H0448263U JP 9143690 U JP9143690 U JP 9143690U JP 9143690 U JP9143690 U JP 9143690U JP H0448263 U JPH0448263 U JP H0448263U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum evaporation
- observation window
- substrate
- viewing port
- raw material
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
第１図Ａ及びＢは本考案になる真空蒸着装置の
一実施例を示す図で、特にビユーイングポートを
示す図、第２図はビユーイングポートの観察窓に
付着・吸着する分子の程度を比較説明する図、第
３図は一般的な真空蒸着装置の概略断面図、第４
図Ａ及びＢは従来の真空蒸着装置のビユーイング
ポートを示す図である。 １……ビユーイングポート、２……観察窓、３
……ヒータ線（加熱手段）、４……枠体、１０…
…真空蒸着装置、１１……チヤンバ。
一実施例を示す図で、特にビユーイングポートを
示す図、第２図はビユーイングポートの観察窓に
付着・吸着する分子の程度を比較説明する図、第
３図は一般的な真空蒸着装置の概略断面図、第４
図Ａ及びＢは従来の真空蒸着装置のビユーイング
ポートを示す図である。 １……ビユーイングポート、２……観察窓、３
……ヒータ線（加熱手段）、４……枠体、１０…
…真空蒸着装置、１１……チヤンバ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 原料分子を基板に供給して、原料分子雰囲
気下で、結晶成長させる真空蒸着装置であつて、 前記基板が観察可能な観察窓を有するビユーイ
ングポートと、 前記ビユーイングポートの観察窓に設けた加熱
手段とからなることを特徴とする真空蒸着装置。 (2) ビユーイングポートの観察窓を介して、基
板に光を照射する手段を設けたことを特徴とする
請求項第１項記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9143690U JPH0448263U (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9143690U JPH0448263U (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448263U true JPH0448263U (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=31827066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9143690U Pending JPH0448263U (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0448263U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012184457A (ja) * | 2011-03-03 | 2012-09-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP9143690U patent/JPH0448263U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012184457A (ja) * | 2011-03-03 | 2012-09-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
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