JPH0449162B2 - - Google Patents
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- JPH0449162B2 JPH0449162B2 JP28463885A JP28463885A JPH0449162B2 JP H0449162 B2 JPH0449162 B2 JP H0449162B2 JP 28463885 A JP28463885 A JP 28463885A JP 28463885 A JP28463885 A JP 28463885A JP H0449162 B2 JPH0449162 B2 JP H0449162B2
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- Japan
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- magnetic
- groove
- metal magnetic
- magnetic head
- metal
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、特に高保持力記録媒体との組み合
わせに適した磁気ヘツドの製造方法に関するもの
である。
わせに適した磁気ヘツドの製造方法に関するもの
である。
磁気記録技術において、近年高密度記録の要求
から高保持力記録媒体が使用されるようになつ
た。高保持力媒体に信号を記録するには、従来磁
気ヘツドに用いられてきたフエライトでは不充分
で、このためより高Bsを有する金属磁性材料、
例えばセンダスト、Co系アモルフアス合金等が
用いられるようになつた。
から高保持力記録媒体が使用されるようになつ
た。高保持力媒体に信号を記録するには、従来磁
気ヘツドに用いられてきたフエライトでは不充分
で、このためより高Bsを有する金属磁性材料、
例えばセンダスト、Co系アモルフアス合金等が
用いられるようになつた。
ここで、ヘツドの量産性の点から、このような
金属磁性材料をスパツタ等の手法によりブロツク
材に被着し主たる磁気回路を構成した磁気ヘツド
が考案されている。その一例として第6図に、特
開昭59−142716号公報に示された従来の磁気ヘツ
ドの斜視図を示す。図において、1a,1bは非
磁性セラミツクブロツクであり、2a,2bはス
パツタなどの手法により、1a,1bに被着され
たセンダスト、Co系アモルフアス合金等の金属
磁性薄膜であい、それぞれ第1、第2の磁性体を
形成している。3a,3bは溝うめ部材で、溶材
による充填又はスパツタ法による被着などの方法
で充填されたものであり、一般には溶融充填され
たガラスである。4はSiO2等の非磁性ギヤツプ
材、5はコイル用溝であり、コイル用溝5の深さ
Dは金属磁性薄膜2a,2bは完全に分断しない
ような深さになつている。なお、コイルは省略す
る。第7図は上記の磁気ヘツドを記録媒体摺動面
よりみたものである。第1,第2の磁性体である
金属磁性薄膜2a,2bはそれぞれほぼV字状の
断面形状をしており、V字状の底部の幅で記録媒
体のトラツク幅Twを規制し、そのV字状の金属
磁性薄膜2a,2bの底部でギヤツプ材4を介し
て互いに突き合わされて、磁気回路を構成してい
る。なお、図中Aはギヤツプ形成面である。ここ
で、非磁性セラミツクブロツク1a,1bの全部
または一部をフエライト等の磁性材で構成して磁
気抵抗を減らすこともできる。ただし、フエライ
トが記録媒体摺動面に露出した構造の場合はフエ
ライト特有の摺動ノイズが増える恐れがある。
金属磁性材料をスパツタ等の手法によりブロツク
材に被着し主たる磁気回路を構成した磁気ヘツド
が考案されている。その一例として第6図に、特
開昭59−142716号公報に示された従来の磁気ヘツ
ドの斜視図を示す。図において、1a,1bは非
磁性セラミツクブロツクであり、2a,2bはス
パツタなどの手法により、1a,1bに被着され
たセンダスト、Co系アモルフアス合金等の金属
磁性薄膜であい、それぞれ第1、第2の磁性体を
形成している。3a,3bは溝うめ部材で、溶材
による充填又はスパツタ法による被着などの方法
で充填されたものであり、一般には溶融充填され
たガラスである。4はSiO2等の非磁性ギヤツプ
材、5はコイル用溝であり、コイル用溝5の深さ
Dは金属磁性薄膜2a,2bは完全に分断しない
ような深さになつている。なお、コイルは省略す
る。第7図は上記の磁気ヘツドを記録媒体摺動面
よりみたものである。第1,第2の磁性体である
金属磁性薄膜2a,2bはそれぞれほぼV字状の
断面形状をしており、V字状の底部の幅で記録媒
体のトラツク幅Twを規制し、そのV字状の金属
磁性薄膜2a,2bの底部でギヤツプ材4を介し
て互いに突き合わされて、磁気回路を構成してい
る。なお、図中Aはギヤツプ形成面である。ここ
で、非磁性セラミツクブロツク1a,1bの全部
または一部をフエライト等の磁性材で構成して磁
気抵抗を減らすこともできる。ただし、フエライ
トが記録媒体摺動面に露出した構造の場合はフエ
ライト特有の摺動ノイズが増える恐れがある。
第6図、第7図に示した従来の磁気ヘツドの一
般的な製造方法を工程順に第8図イ〜ヘに示す。
まず第8図イに示したようにセラミツクブロツク
1上に複数本のほぼV字状の凹部、即ち溝9と、
これにほぼ直交するコイル用溝5を堀る工程であ
る。なおV字状の溝9はコイル用溝5より深くな
けえばならない。次に第8図ロに示すようにセラ
ミツクブロツク1上の溝加工面に金属磁性材料を
スパツタ等の手法により被着し、第1、第2の磁
性体となる金属磁性薄膜2を形成する。続いて第
8図ハに示すように金属磁性薄膜2に非磁性の溝
うめ部材3を充填し、かつ金属磁性薄膜2の所望
のトラツク幅Twをギヤツプ形成面Aまで研削、
研磨して露出させる工程を施す。次に第8図ニに
示したように所望のトラツク幅Twが露出したギ
ヤツプ形成面AにSiO2等の非磁性ギヤツプ材4
をスパツタ、蒸着などの方法により被着した後、
第8図ホに示すように、コイル用溝5の不要な部
材を除去し、一点鎖線Bで切断し、一対のコアブ
ロツク半体を得る。続いて第8図ヘに示したよう
に、得られたコアブロツク半体をギヤツプ形成面
Aで突き合わせ接合する工程、および一点鎖線
C,C′で切断1個の磁気ヘツドを得る。なお、一
点鎖線C,C′はギヤツプ形成面Aに対し所望のア
ジマス角をつけて切断してもよい。
般的な製造方法を工程順に第8図イ〜ヘに示す。
まず第8図イに示したようにセラミツクブロツク
1上に複数本のほぼV字状の凹部、即ち溝9と、
これにほぼ直交するコイル用溝5を堀る工程であ
る。なおV字状の溝9はコイル用溝5より深くな
けえばならない。次に第8図ロに示すようにセラ
ミツクブロツク1上の溝加工面に金属磁性材料を
スパツタ等の手法により被着し、第1、第2の磁
性体となる金属磁性薄膜2を形成する。続いて第
8図ハに示すように金属磁性薄膜2に非磁性の溝
うめ部材3を充填し、かつ金属磁性薄膜2の所望
のトラツク幅Twをギヤツプ形成面Aまで研削、
研磨して露出させる工程を施す。次に第8図ニに
示したように所望のトラツク幅Twが露出したギ
ヤツプ形成面AにSiO2等の非磁性ギヤツプ材4
をスパツタ、蒸着などの方法により被着した後、
第8図ホに示すように、コイル用溝5の不要な部
材を除去し、一点鎖線Bで切断し、一対のコアブ
ロツク半体を得る。続いて第8図ヘに示したよう
に、得られたコアブロツク半体をギヤツプ形成面
Aで突き合わせ接合する工程、および一点鎖線
C,C′で切断1個の磁気ヘツドを得る。なお、一
点鎖線C,C′はギヤツプ形成面Aに対し所望のア
ジマス角をつけて切断してもよい。
従来の磁気ヘツドは、以上のように構成、製造
されていたが、このような磁気ヘツドを長時間使
用した場合、磁気ヘツドの摩耗、特に偏摩耗が起
こり、これが記録再生特性に重大な影響を与える
という問題点があることが判つた。というのは一
般に非磁性材3a,3bは金属磁性薄膜2a,2
bに比べて摩耗し易い。この事は、特にギヤツプ
形成面A上での磁気ヘツドと媒体との当り(スペ
ーシング)が記録再生特性と深い係りがあること
を考えると問題である。このような非磁性材3
a,3bの偏摩耗を防止する方法としては、非磁
性材3a,3bに金属磁性薄膜2a,2bとほぼ
同等な硬度(摩耗性能)を有する材料を選択すれ
ばよいわけであるが、非磁性材3a,3bには充
填できる材料でなくてはならない。一般には非磁
性材3a,3bにはガラスが用いられているが、
ガラスは硬度が高いものは、溶融温度も高くなる
傾向がある。従つて、金属磁性薄膜2a,2bの
特性を劣化させない許容温度内で、適切な硬度を
もつガラスを選択することは困難になつてくると
いう問題点があつた。特に金属磁性薄膜2a,2
bがアモルフアス合金の場合は深刻である。
されていたが、このような磁気ヘツドを長時間使
用した場合、磁気ヘツドの摩耗、特に偏摩耗が起
こり、これが記録再生特性に重大な影響を与える
という問題点があることが判つた。というのは一
般に非磁性材3a,3bは金属磁性薄膜2a,2
bに比べて摩耗し易い。この事は、特にギヤツプ
形成面A上での磁気ヘツドと媒体との当り(スペ
ーシング)が記録再生特性と深い係りがあること
を考えると問題である。このような非磁性材3
a,3bの偏摩耗を防止する方法としては、非磁
性材3a,3bに金属磁性薄膜2a,2bとほぼ
同等な硬度(摩耗性能)を有する材料を選択すれ
ばよいわけであるが、非磁性材3a,3bには充
填できる材料でなくてはならない。一般には非磁
性材3a,3bにはガラスが用いられているが、
ガラスは硬度が高いものは、溶融温度も高くなる
傾向がある。従つて、金属磁性薄膜2a,2bの
特性を劣化させない許容温度内で、適切な硬度を
もつガラスを選択することは困難になつてくると
いう問題点があつた。特に金属磁性薄膜2a,2
bがアモルフアス合金の場合は深刻である。
この発明は、以上のような問題点を解消するた
めになされたもので、適切な硬度をもつ材料の選
択の範囲が広がりギヤツプ形成面付近での偏摩耗
が少なく、磁気ヘツドと記録媒体の当たりを改善
し、安定した記録再生特性の得られる磁気ヘツド
の製造方法を提供することを目的としている。
めになされたもので、適切な硬度をもつ材料の選
択の範囲が広がりギヤツプ形成面付近での偏摩耗
が少なく、磁気ヘツドと記録媒体の当たりを改善
し、安定した記録再生特性の得られる磁気ヘツド
の製造方法を提供することを目的としている。
この発明に係る磁気ヘツドの製造方法は、ブロ
ツク材のV字状溝の上面に金属磁性材料を被着し
て第1磁性体であるV字状金属磁性材膜を形成す
る工程、そのV字状金属磁性膜膜の上面に溝うめ
部材を充填する工程、上記ブロツク材および金属
磁性膜の一部を研磨した上記金属磁性膜を露出さ
せてギヤツプ形成面を形成する工程を施すように
したものである。
ツク材のV字状溝の上面に金属磁性材料を被着し
て第1磁性体であるV字状金属磁性材膜を形成す
る工程、そのV字状金属磁性膜膜の上面に溝うめ
部材を充填する工程、上記ブロツク材および金属
磁性膜の一部を研磨した上記金属磁性膜を露出さ
せてギヤツプ形成面を形成する工程を施すように
したものである。
この発明においては、従来の磁気ヘツドが、V
字状の金属磁性薄膜の内側はその金属磁性薄膜が
被着されるブロツク材で、外側は充填される溝う
め部材であつたに対し、逆にV字状の金属磁性薄
膜の外側が金属磁性薄膜が被着されるブロツク材
で、内側が溝うめ部材としたので、最も重要とな
るギヤツプ形成面付近の非磁性材が金属磁性薄膜
が被着されるブロツク材となり、材料の選択の範
囲を大幅に広めることができ、偏摩耗の少ない材
料を選択することができる。
字状の金属磁性薄膜の内側はその金属磁性薄膜が
被着されるブロツク材で、外側は充填される溝う
め部材であつたに対し、逆にV字状の金属磁性薄
膜の外側が金属磁性薄膜が被着されるブロツク材
で、内側が溝うめ部材としたので、最も重要とな
るギヤツプ形成面付近の非磁性材が金属磁性薄膜
が被着されるブロツク材となり、材料の選択の範
囲を大幅に広めることができ、偏摩耗の少ない材
料を選択することができる。
第1図はこの発明の一実施例の磁気ヘツドの製
造方法により得られた磁気ヘツドの斜視図であ
り、第2図はその記録媒体の摺動面より見た平面
図である。図において、ブロツク材1a,1bと
溝うめ部材3a,3bは従来の磁気ヘツドと位置
が入れ替わつている。67は2つのコアブロツク
半体を接合するための接着溝で、一般にガラスを
溶融充填すればよい。従来の磁気ヘツドの場合、
溝うめ部材3a,3bは2つのコアブロツク半体
を接合する接着材の役割もなしてきたが、この発
明の一実施例においては接合部が大部分非磁性セ
ラミツクブロツク1a,1bで突き合わされてい
るので、このような接着溝6,7を設けている。
なお、接着溝6は、この場合コイル溝5の一部を
用いたが、専用の溝を設けてもよい。またトラツ
ク幅方向に沿つた溝でなくとも、媒体走行方向に
沿つた溝でもよい。
造方法により得られた磁気ヘツドの斜視図であ
り、第2図はその記録媒体の摺動面より見た平面
図である。図において、ブロツク材1a,1bと
溝うめ部材3a,3bは従来の磁気ヘツドと位置
が入れ替わつている。67は2つのコアブロツク
半体を接合するための接着溝で、一般にガラスを
溶融充填すればよい。従来の磁気ヘツドの場合、
溝うめ部材3a,3bは2つのコアブロツク半体
を接合する接着材の役割もなしてきたが、この発
明の一実施例においては接合部が大部分非磁性セ
ラミツクブロツク1a,1bで突き合わされてい
るので、このような接着溝6,7を設けている。
なお、接着溝6は、この場合コイル溝5の一部を
用いたが、専用の溝を設けてもよい。またトラツ
ク幅方向に沿つた溝でなくとも、媒体走行方向に
沿つた溝でもよい。
ここでコイル用溝5は、金属磁性膜2a,2b
で閉ループが形成されるように設けられなければ
ならない。
で閉ループが形成されるように設けられなければ
ならない。
次にこの発明の一実施例の磁気ヘツドの製造方
法を工程順に第3図イ〜ヘに示す。
法を工程順に第3図イ〜ヘに示す。
まず、第3図イに示したようにセラミツクブロ
ツク1上に複数個のほぼV字状の凹部、即ち溝9
を堀る。次に第3図ロに示したように、セラミツ
クブロツク1上の溝9加工面に金属磁性材料をス
パツタ等の手法により被着して第1、第2の磁性
膜となるV字状金属磁性膜2を形成する。次に第
3図ハに示すようにV字状金属磁性膜2の内側に
溝うめ部材3を充填し、ブロツク材1側からブロ
ツク材1および金属磁性膜2の一部を研削・研磨
して、所定のトラツク幅のTwの金属磁性膜2を
露出させギヤツプ形成面Aを形成すると共に不要
な溝うめ部材3を例えば一点鎖線A′まで研削し
て所望の厚みA−A′を得る。なお、溝うめ部材
3は磁性材でも非磁性でも構わない。またその充
填方法としては溶材を溶かし充填する方法や、ス
パツタ法による被着などの方法が考えられる。
ツク1上に複数個のほぼV字状の凹部、即ち溝9
を堀る。次に第3図ロに示したように、セラミツ
クブロツク1上の溝9加工面に金属磁性材料をス
パツタ等の手法により被着して第1、第2の磁性
膜となるV字状金属磁性膜2を形成する。次に第
3図ハに示すようにV字状金属磁性膜2の内側に
溝うめ部材3を充填し、ブロツク材1側からブロ
ツク材1および金属磁性膜2の一部を研削・研磨
して、所定のトラツク幅のTwの金属磁性膜2を
露出させギヤツプ形成面Aを形成すると共に不要
な溝うめ部材3を例えば一点鎖線A′まで研削し
て所望の厚みA−A′を得る。なお、溝うめ部材
3は磁性材でも非磁性でも構わない。またその充
填方法としては溶材を溶かし充填する方法や、ス
パツタ法による被着などの方法が考えられる。
次に第3図ニにハの上下を逆転させて示したよ
うに、ギヤツプ形成面AにSiO2等のギヤツプ材
4をスパツタ、蒸着等の手法により被着し、第3
図ホに示したようにコイル用溝5、接着溝7を堀
り、一点鎖線Bで切断し、一対のコアブロツク半
体を得る。続いて第3図ヘに示したように、一対
のコアブロツク半体をギヤツプ形成面Aで突き合
わせ接合し、一点鎖線C,C′を切断して1個の磁
気ヘツドを得る。なお、ギヤツプ形成面Aに適当
なアジマス角をつけて切断してもよい。
うに、ギヤツプ形成面AにSiO2等のギヤツプ材
4をスパツタ、蒸着等の手法により被着し、第3
図ホに示したようにコイル用溝5、接着溝7を堀
り、一点鎖線Bで切断し、一対のコアブロツク半
体を得る。続いて第3図ヘに示したように、一対
のコアブロツク半体をギヤツプ形成面Aで突き合
わせ接合し、一点鎖線C,C′を切断して1個の磁
気ヘツドを得る。なお、ギヤツプ形成面Aに適当
なアジマス角をつけて切断してもよい。
ここで、従来の磁気ヘツドでは、金属磁性薄膜
2を被着するセラミツクブロツク1は非磁性材で
も磁性材でもよかつたが、ここでは、少なくとも
ギヤツプ形成面A付近即ち、トラツク幅規制部分
では非磁性材でなければならない。
2を被着するセラミツクブロツク1は非磁性材で
も磁性材でもよかつたが、ここでは、少なくとも
ギヤツプ形成面A付近即ち、トラツク幅規制部分
では非磁性材でなければならない。
第4図イ、第5図イは、それぞれ他の実施例に
よる磁気ヘツドを示し上記の点を考慮した磁性材
と非磁性材の複合ブロツクを用いて得られた磁気
ヘツドの斜視図で、第4図イにおいて、非磁性材
1a,1bはギヤツプ深さ程度までで、それより
奥部はフエライト等の磁性材8a,8bで構成さ
れている点が特徴である。第5図イでは、非磁性
材1a,1bはギヤツプ形成面A付近だけであと
はフエライト等の磁性材で構成されている点が特
徴である。第4図ロ、第5図ロはそれぞれ第4図
イ、第5図イの磁気ヘツドを得るための磁性材8
と非磁性材1の複合ブロツクを示したものであ
る。この複合ブロツクを第3図イ〜第3図ヘの工
程で加工していけばよい。なお、この場合磁気抵
抗が減り、磁気ヘツドの記録再生効率の向上をは
かることができる。このようにすると、コイル用
溝5は必ずしも金属磁性薄膜2a,2bで閉ルー
プが形成されるようにする必要はない。
よる磁気ヘツドを示し上記の点を考慮した磁性材
と非磁性材の複合ブロツクを用いて得られた磁気
ヘツドの斜視図で、第4図イにおいて、非磁性材
1a,1bはギヤツプ深さ程度までで、それより
奥部はフエライト等の磁性材8a,8bで構成さ
れている点が特徴である。第5図イでは、非磁性
材1a,1bはギヤツプ形成面A付近だけであと
はフエライト等の磁性材で構成されている点が特
徴である。第4図ロ、第5図ロはそれぞれ第4図
イ、第5図イの磁気ヘツドを得るための磁性材8
と非磁性材1の複合ブロツクを示したものであ
る。この複合ブロツクを第3図イ〜第3図ヘの工
程で加工していけばよい。なお、この場合磁気抵
抗が減り、磁気ヘツドの記録再生効率の向上をは
かることができる。このようにすると、コイル用
溝5は必ずしも金属磁性薄膜2a,2bで閉ルー
プが形成されるようにする必要はない。
また、上記実施例においてコイル溝5は磁気ヘ
ツドの中央部を貫通するものとしたが、磁気ヘツ
ド底部まで貫きぬけていて、コイルを挿入した後
磁性片を接合して金属磁性薄膜2a,2bと磁性
片で閉ループを形成するようにしてもよく、この
場合、コイルの装着が簡単である。
ツドの中央部を貫通するものとしたが、磁気ヘツ
ド底部まで貫きぬけていて、コイルを挿入した後
磁性片を接合して金属磁性薄膜2a,2bと磁性
片で閉ループを形成するようにしてもよく、この
場合、コイルの装着が簡単である。
上記実施例の製法により得られた磁気ヘツドの
V字状の金属磁性薄膜2の内側の溝うめ部材の摩
耗であるが、磁気ヘツドのトラツク幅方向の両側
部分は、おおむね適当な硬度をもつ金属磁性薄膜
2とセラミツクブロツクでガードされた構成とな
つているため、偏摩耗は起こりにくい。
V字状の金属磁性薄膜2の内側の溝うめ部材の摩
耗であるが、磁気ヘツドのトラツク幅方向の両側
部分は、おおむね適当な硬度をもつ金属磁性薄膜
2とセラミツクブロツクでガードされた構成とな
つているため、偏摩耗は起こりにくい。
なお、上記実施例において2つのコアブロツク
半体の第1,第2の磁性体が共に記録媒体摺動面
からみてほぼ同じV字状の金属磁性膜であつた
が、必ずしも同一形状である必要はなく、また上
記コアブロツク半体に、ギヤツプ材を介してコイ
ル、第2の金属磁性薄膜等を薄膜化技術により形
成した構成でも構わない。
半体の第1,第2の磁性体が共に記録媒体摺動面
からみてほぼ同じV字状の金属磁性膜であつた
が、必ずしも同一形状である必要はなく、また上
記コアブロツク半体に、ギヤツプ材を介してコイ
ル、第2の金属磁性薄膜等を薄膜化技術により形
成した構成でも構わない。
この発明は以上説明したとおり、V字状の溝を
有するブロツク材を形成し、そのブロツク材のV
字状溝の上面に金属磁性膜を被着するものである
ので、適切な硬度をもつ材料の選択の範囲が広が
り、偏摩耗が少なくなり、磁気ヘツドの記録媒体
の当たりがよい。安定した記録再生特性の得られ
る磁気ヘツドの製造方法が得られるという効果が
ある。
有するブロツク材を形成し、そのブロツク材のV
字状溝の上面に金属磁性膜を被着するものである
ので、適切な硬度をもつ材料の選択の範囲が広が
り、偏摩耗が少なくなり、磁気ヘツドの記録媒体
の当たりがよい。安定した記録再生特性の得られ
る磁気ヘツドの製造方法が得られるという効果が
ある。
第1図はこの発明の一実施例の磁気ヘツドの製
造方法により得られた磁気ヘツドの斜視図、第2
図は第1図に示した磁気ヘツドの摺動面を示す平
面図、第3図イ〜ヘはこの発明の一実施例の磁気
ヘツドの製造方法を工程順に示す図で、イ,ホ,
ヘは斜視図、ロ,ハ,ニは表面図である。第4図
イは複合ブロツクを用いたこの発明の他の実施例
により得られた磁気ヘツドの斜視図、第4図ロは
第4図イで用いられる複合ブロツク材を示す斜視
図、第5図イは、別の複合ブロツク材を用いたこ
の発明のさらに他の実施例により得られた磁気ヘ
ツドの斜視図、第5図ロは第5図イで用いられる
複合ブロツク材を示す斜視図、第6図は従来の製
法による磁気ヘツドの斜視図、第7図は第6図に
示した磁気ヘツドの摺動面を示す平面図、第8図
イ〜ヘは従来の磁気ヘツドの製法を工程順に示し
た図で、イ,ホ,ヘは斜視図、ロ,ハ,ニは表面
図である。 1……ブロツク材、2……金属磁性膜、3……
溝うめ部材、4……ギヤツプ材、9……V字状凹
部。なお図中同一符号は同一又は相当部分を示
す。
造方法により得られた磁気ヘツドの斜視図、第2
図は第1図に示した磁気ヘツドの摺動面を示す平
面図、第3図イ〜ヘはこの発明の一実施例の磁気
ヘツドの製造方法を工程順に示す図で、イ,ホ,
ヘは斜視図、ロ,ハ,ニは表面図である。第4図
イは複合ブロツクを用いたこの発明の他の実施例
により得られた磁気ヘツドの斜視図、第4図ロは
第4図イで用いられる複合ブロツク材を示す斜視
図、第5図イは、別の複合ブロツク材を用いたこ
の発明のさらに他の実施例により得られた磁気ヘ
ツドの斜視図、第5図ロは第5図イで用いられる
複合ブロツク材を示す斜視図、第6図は従来の製
法による磁気ヘツドの斜視図、第7図は第6図に
示した磁気ヘツドの摺動面を示す平面図、第8図
イ〜ヘは従来の磁気ヘツドの製法を工程順に示し
た図で、イ,ホ,ヘは斜視図、ロ,ハ,ニは表面
図である。 1……ブロツク材、2……金属磁性膜、3……
溝うめ部材、4……ギヤツプ材、9……V字状凹
部。なお図中同一符号は同一又は相当部分を示
す。
Claims (1)
- 1 V字状の溝を有するブロツク材を形成する工
程、上記ブロツク材ののV字状溝の上面に金属磁
性材料を被着して金属磁性膜を形成する工程、該
金属磁性膜の上面に溝うめ部材を充填する工程、
上記ブロツク材と上記金属磁性膜におけるV字状
底部とを研磨し、該V字状底部を所定のトラツク
幅に露出させてギヤツプ形成面を形成する工程を
備えたことを特徴とする磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28463885A JPS62141614A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28463885A JPS62141614A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62141614A JPS62141614A (ja) | 1987-06-25 |
| JPH0449162B2 true JPH0449162B2 (ja) | 1992-08-10 |
Family
ID=17681060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28463885A Granted JPS62141614A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62141614A (ja) |
-
1985
- 1985-12-16 JP JP28463885A patent/JPS62141614A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62141614A (ja) | 1987-06-25 |
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