JPH0555925B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、特に高保持力記録媒体との組み合
わせ適した磁気へツドの製造方法に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

磁気記録技術において、近年高密度記録の要求
から高保持力記録媒体が使用されるようになつ
た。高保持力記録媒体に信号を記録するには、従
来磁気ヘツドに用いられてきたフエライトでは不
充分で、このためより高Bsを有する金属磁性材
料、例えばセンダスト、Co系アモルフアス合金
等が用いられるようになつた。

ここで、ヘツドの量産性の点から、このような
金属磁性材料をスパツタ等の手法によりブロツク
材に披着し主たる磁気回路を構成した磁気ヘツド
が考案されている。その一例として第８図に、特
開昭59−142716号公報に示された従来の磁気ヘツ
ドの斜視図を示す。図において、１ａ，１ｂは非
磁性セラミツクブロツクであり、２ａ，２ｂはス
パツタなどの手法により１ａ，１ｂに披着された
センダスト、Co系アモルフアス合金等の金属磁
性薄膜であり、それぞれ第１、第２の磁性体を形
成している。３ａ，３ｂは溝うめ部材で、溶材に
よる充填又はスパツタ法による披着などの方法で
充填されたものであり、一般には溶融充填された
ガラスである。４はSiO₂等の非磁性ギヤツプ材、
５はコイル溶溝であり、コイル用溝の深さＤは金
属磁性薄膜２ａ，２ｂを完全に分断しないような
深さになつている。なお、コイルは省略する。第
９図は上記の磁気ヘツドを記録媒体摺動面よりみ
たものである。第１、第２の磁性体である金属磁
性薄膜２ａ，２ｂはそれぞれほぼＹ字状の断面形
状をしており、Ｖ字状の底部の記録媒体のトラツ
ク幅Twを規制し、そのＶ字状の金属磁性薄膜２
ａ，２ｂの底部でギヤツプ材４を介して互いに突
き合わされて、磁気回路を構成している。なお、
図中Ａはギヤツプ形成面である。ここで、非磁性
セラミツクブロツク１ａ，１ｂの全部または一部
をフエライト等の磁性材で構成して磁気抵抗を減
らすこともできる。ただし、フエライトが記録媒
体摺動面に露出した構造の場合はフエライト特有
の摺動ノイズは増える恐れがある。

第８図、第９図に示した従来の磁気ヘツドの一
般的な製造方法に工程順に第１０図イ〜ヘに示
す。まず第１０図イに示したようにセラミツクブ
ロツク１上に複数本のＶ字状の凹部、即ち溝１０
と、これにほぼ直交するコイル用溝５を掘る工程
である。なおＶ字状の溝１０はコイル用溝５より
深くなければならない。次に第１０図ロに示すよ
うにセラミツクブロツク１上の溝加工面に金属磁
性薄膜２をスパツタ等の手法により披着する。続
いて第１０図ハに示すように金属磁性薄膜２に非
磁性の溝うめ部材３を充填し、かつ金属磁性薄膜
２の所望のトラツク幅Twギヤツプ形成面Ａまで
溝うめ部材３側を研削、研磨して露出させる工程
を施す。次に第１０図ニに示したように所望のト
ラツク幅Twが露出したギヤツプ形成面ＡにSiO₂
等の非磁性ギヤツプ材４をスパツタ、蒸着などの
方法により被着した後、第１０図ホは、コイル用
溝５の不要な部材を除去し、一点鎖線Ｂで切除
し、一対のコアブロツク半体を得る。続いて第１
０図ヘに示したように、得られたコアブロツク半
体をギヤツプ形成面Ａで突き合わせ接合する工
程、および一点鎖線Ｃ，C′で切断して１個の磁気
ヘツドを得る。なお、一点鎖線Ｃ，C′はギヤツプ
形成面Ａに対し所望のアジマス角をつけて切断し
てもよい。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の磁気ヘツドは、以上のように構成、製造
されていたが、第１０図ハの金属磁性薄膜２を所
望のトラツク幅Twまで、ギヤツプ形成面Ａに露
出させる工程において、ブロツク材１基準面から
のＶ字上凹部１０の加工位置及びブロツク材の加
工厚み精度など研磨の具合によつてトラツク幅
Twが変化するため加工寸法精度をだすのが困難
であるという問題点があつた。

第１１図、第１２図は、例えば特開昭58−
155513号公報で示され、ギヤツプ形成面Ａと、金
属磁性薄膜２ａ，２ｂがなるべく90°に近い角度
で交わるように工夫したものであるが、トラツク
幅Twが小さくなるとセラミツクブロツク１ａ，
１ｂのギヤツプ形成面Ａ付近が細くなるため、加
工上欠ける等の問題点があつた。

また、第１１図、第１２図のような構成の場
合、トラツク幅Twは、金属磁性薄膜２ａ，２ｂ
の膜厚でほぼ決まつてくるため、成膜時の膜厚制
御を正しく行なわなければならない、20〜30μｍ
厚みの薄膜形成をトラツク幅精度（±１〜2μｍ）
で行なうことはきわめて困難であるという問題点
があつた。

さらに、上記のような従来の磁気ヘツドを長時
間使用した場合、磁気ヘツドの磨耗、特に偏磨耗
が起こり、これが記録再生特性に重大な影響を与
えるという問題点があることが判つた。というの
は一般に非磁性材３ａ，３ｂは金属磁性薄膜２
ａ，２ｂに比べ磨耗し易い。この事は、特にギヤ
ツプ形成面Ａ上での磁気ヘツドと媒体との当り
（スペーシング）が記録再生特性と深い係りがあ
ることを考えると問題である。このような非磁性
材３ａ，３ｂの偏磨耗を防止する方法としては、
非磁性材３ａ，３ｂに金属磁性薄膜２ａ，２ｂと
ほぼ同等な硬度（磨耗性能）を有する材料を選択
すればよいわけであるが、非磁性材３ａ，３ｂは
充填できる材料でなくてはならない。一般には非
磁性材３ａ，３ｂにはガラスが用いられている
が、ガラスは硬度が高いものは、溶融温度も高く
なる傾向がある。従つて、金属磁性薄膜２ａ，２
ｂの特性を劣化させない許容温度内で、適切な硬
度をもつガラスを選択することは困難になつてく
るという問題点があつた。特に金属磁性薄膜２
ａ，２ｂがアモルフアス合金の場合は深刻であ
る。

この発明は、かかる問題点を解決するためにな
されたもので、金属磁性膜のトラツク幅の加工寸
法精度が容易にだせ、量産性があり、しかも適切
な硬度をもつ材料の選択の範囲が広がりギヤツプ
形成面付近での偏磨耗が少なく、磁気ヘツドと記
録媒体の当たりを改善し、安定した記録再生特性
の得られる磁気ヘツドの製造方法を提供すること
を目的としている。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る磁気ヘツドの製造方法は、底部
の幅がトラツク幅に対応したＹ字状の溝を有する
ブロツク材を形成する工程、上記ブロツク材のＹ
字状溝の上面に金属磁性材料を被着してＹ字状金
属磁性膜を形成する工程、該Ｙ字状金属磁性膜の
上面に溝うめ部材を充填する工程、および上記ブ
ロツク材を研磨し、該Ｙ字状金属磁性膜底部を露
出させてギヤツプ形成面を形成する工程を備えた
ものである。

〔作用〕

この発明においては、底部の幅がトラツク幅に
対応したＹ字状の溝を有するブロツク材を形成
し、このＹ字状溝の上面に金属磁性材料を披着し
てＹ字状金属磁性膜を形成し、ブロツク材、即ち
Ｙ字状の金属磁性膜の底部側を研磨するようにし
たので、トラツク幅が規則が金属磁性膜が披着さ
れるブロツク材にＹ字状の溝加工を施す際に決定
でき、以後の加工精度にはほとんど依存しないの
で、加工寸法精度を容易にだせる。さらに、従来
の磁気ヘツドが、Ｖ字状の金属磁性薄膜の内側は
その金属磁性薄膜が披着されるブロツク材で、外
側は充填される溝うめ部材であつたのに対し、逆
にＹ字状の金属磁性膜の外側が金属磁性膜が披着
されるブロツク材で、内側が溝うめ部材としたの
で、最も重要となるギヤツプ形成面付近の非磁性
材が金属磁性薄膜が披着されるブロツク材とな
り、材料の選択の範囲を大幅に広めることがで
き、偏磨耗の少ない材料を選択することができ
る。

〔実施例〕

第１図はこの発明の一実施例の磁気ヘツドの製
造方法により得られた磁気ヘツドの斜視図、第２
図は上記の磁気ヘツドを記録媒体摺動面よりみた
平面図である。図において、１ａ，１ｂは第１、
第２の磁性体である金属磁性薄膜２ａ，２ｂが披
着される非磁性セラミツクブロツク、３ａ，３ｂ
は金属磁性薄膜２ａ，２ｂ上に充填される溝うめ
部材で、非磁性体でも磁性体でも構わない。６，
７は２つのコアブロツク半体を接合するための接
着溝で一般にガラスが溶融充填される。なお接着
溝６はコイル用溝５の一部を用いたが、別の専用
の溝を設けてもよい。また接着溝６，７はトラツ
ク幅方向に沿つた溝でなくとも媒体走行方向に沿
つた溝でもよい。ここでコイル用溝５は金属磁性
膜２ａ，２ｂで閉ループが形成されるように設け
られなければならない。

なお、記録媒体摺動面からみてほぼＹ字状の断
面形状を有し、第１、第２の磁性体である金属磁
性膜２ａ，２ｂは、それぞれのＹ字状の磁性体の
底部の幅で記録媒体のトラツク幅を規制し、その
Ｙ字状磁性体の底部に非磁性ギヤツプ材４を介し
て互いに突き合わされている。ここで、トラツク
幅Twの規制は、非磁性セラミツクブロツク１
ａ，１ｂにほぼＹ字状の凹部、即ち溝を掘る工程
でなされ、例えば溝を掘る工程で用いる溝加工用
ホイールの幅で、トラツク幅を規制する。

次にこの発明の一実施例の磁気ヘツドの製造方
法を工程順に第３図イ〜ヘに示す。

まず、第３図イに示したように、セラミツクブ
ロツク１上に複数本のほぼＹ字状の溝９を掘る。
ここで溝９の底部の幅がトラツク幅になるように
する。この場合、溝９を掘つた時、Ｙ字状溝９の
幅がトラツク幅Twになるような溝加工用ホイー
ルを使つて加工する。次に第３図ロに示したよう
にセラミツクブロツク１上の溝９加工面すなわち
Ｙ字状溝の上面に、金属磁性材料をスパツタ等の
手法により被着して第１、第２の磁性体となるＹ
字状金属磁性膜２を形成する。ここで金属磁性膜
２の膜厚、Ｙ字状の溝９の底部をほぼうめる厚さ
であればよく、厳密な膜厚制御を行なう必要がな
い。次に第３図ハに示したようにＹ字状金属磁性
膜２の内側に溝うめ部材３を充填した後、ブロツ
ク材を研削・研磨してトラツク幅Twの金属性膜
２を露出させ、ギヤツプ形成面Ａを形成すると共
に、不要な溝うめ部材３を一点鎖A′まで研削す
る。なお、溝うめ部材３は磁性材でも非磁性でも
構わない。またその充填方法としては溶材を溶か
し充填する方法や、スパツタ法による被着などの
方法が考えられる。ここで、ギヤツプ形成面でま
で研磨する際、研磨具合、すなわち厚み精度に多
少のバラツキがあつても所定のトラツク幅Twが
得られる。従つてほぼＹ字状溝９の底部、即ちト
ラツク幅に対応した部分の長さは研磨の際のバラ
ツキより長めにとつておけばよいことになる。

次に第３図ニにハの上下を逆転させて示したよ
うに、ギヤツプ形成面ＡにSiO₂等のギヤツプ材
４をスパツタ、蒸着等の手法により被着し、第３
図ホに示したようにコイル用溝５、接着溝７を掘
り、一点鎖線Ｂで切断し、一対のコアブロツク半
体を得る。続いて第３図ヘに示したように、一対
のコアブロツク半体をギヤツプ形成面Ａで突き合
わせ接合し、一点鎖線Ｃ，C′で切断して１個の磁
気ヘツドを得る。なお、ギヤツプ形成面Ａに適当
なアジマス角をつけて切断してもよい。

ここで、従来の磁気ヘツドでは、金属磁性薄膜
２を被着するセラミツクブロツク１は非磁性材で
も磁性材でもよかつたが、ここでは、少なくとも
ギヤツプ形成面Ａ付近即ち、トラツク幅規制部分
では非磁性材でなければならない。

第４図イ、第５図イは、それぞれこの発明の他
の実施例による、上記の点を考慮した磁性材と非
磁性材の複合ブロツク材を用いて得られた磁気ヘ
ツドの斜視図で、第４図イにおいて、非磁性材１
ａ，１ｂはギヤツプ深さまでで、それより奥部は
フエライト等の磁性材８ａ，８ｂで構成されてい
る点が特徴である。第５図イでは、非磁性材１
ａ，１ｂはギヤツプ形成面Ａ付近だけであとはフ
エライト等の磁性材で構成されている点が特徴で
ある。第４図ロ、第５図ロはそれぞれ第４図イ、
第５図イの磁気ヘツドを得るための磁性材８と非
磁性材１の複合ブロツク材を示したものである。
この複合ブロツク材を第３図イ〜第３図ヘの工程
で加工していけばよい。なお、この場合磁気抵抗
が減り、磁気ヘツドの記録再生効率の向上をはか
ることができる。このようにすると、コイル用溝
５は必ずしも金属磁性薄膜２ａ，２ｂで閉ループ
が形成されるようにする必要はない。

なお、ブロツク材１に形成されるＹ字状の溝９
は、第６図イ〜ニに示すように、Ｙ字状の底部の
トラツク幅に対応した部分以外は曲線でもよく、
またトラツク中心線Ｅに対し左右非対称でもよ
い。またＹ字状の溝９の底部の先端部分は、第７
図イ〜ニに示したように、ギヤツプ形成面Ａに対
し平行でなくてもよく、曲線でもよい。これは特
に金属磁性膜２が集積構成のときに有効である。

また、上記実施例においてコイル線５は磁気ヘ
ツドの中央部を貫通するものとしたが、磁気ヘツ
ド底部まで貫きぬけていて、コイルを挿入した後
磁性片を接合して金属磁性薄膜２ａ，２ｂと上記
磁性片で閉ループを形成するようにしてもよく、
この場合、コイルの装着が簡単である。

上記実施例の製法により得られた磁気ヘツドの
Ｙ字状の金属磁性薄膜２の内側の溝うめ部材の磨
耗であるが、磁気ヘツドのトラツク幅方向の両側
部分は、おおむね適当な硬度をもつ金属磁性薄膜
２とセラミツクブロツクでガードされた構成とな
つているため、偏磨耗は起こりにくい。

また、上記実施例ではギヤツプ形成面Ａ付近の
非磁性材は全部がブロツク材の場合で示したが、
記録媒体摺動面に２つのコアブロツク半体を接合
する接合部材、例えば接合用ガラスが露出したも
のでもよく、またブロツク材として接合用ガラス
を用いてもかまわない。なぜならブロツク材とし
て用いられるガラスは溝うめ部材として用いられ
る時のように溶融充填しなくてもよいので、溶融
温度が高くてもよく、硬度の高いガラスを選ぶこ
とができるからである。

なお、上記実施例において２つのコアブロツク
半体の第１、第２の磁性体が共に記録媒体摺動面
からみてほぼ同じＹ字状の金属磁性膜であつた
が、必ずしも同一形状である必要はなく、また上
記コアブロツク半体に、ギヤツプ材を介してコイ
ル、第２の金属磁性薄膜等を薄膜化技術により形
成した構成でも構わない。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したとおり、底部の幅がト
ラツク幅に対応したＹ字状の溝を有するブロツク
材を形成する工程、上記ブロツク材のＹ字状溝の
上面に金属磁性材料を披着してＹ字状金属磁性膜
を形成する工程、該Ｙ字状金属磁性膜の上面に溝
うめ部材を充填する工程、および上記ブロツク材
を研磨し、該Ｙ字状金属磁性膜底部を露出させて
ギヤツプ形成面を形成する工程を備えたので、ト
ラツク幅の規制がＹ字状の溝をブロツク材に形成
する際に決定でき、トラツク幅精度のよい磁気ヘ
ツドを容易に得ることができると共に、Ｙ字状金
属磁性膜の両外側がブロツク材で構成されること
になるので、適切な硬度をもつ材料の選択の範囲
が広がり、偏磨耗が少なくなり、磁気ヘツドの記
録媒体の当たりがよい。安定した記録再生特性の
得られる磁気ヘツドの製造方法が得られるという
効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の磁気ヘツドの製
造方法により得られた磁気ヘツドの斜視図、第２
図は第１図に示した磁気ヘツドの記録媒体摺動面
を示す平面図、第３図イ〜ヘはこの発明の一実施
例の磁気ヘツドの製造方法を工程順に示す図で、
イ，ホ，ヘは斜視図、ロ，ハ，ニは表面図であ
る。第４図イは複合ブロツクを用いたこの発明の
他の実施例により得られた磁気ヘツドの斜視図、
第４図ロは第４図イで用いられる複合ブロツク材
を示す斜視図、第５図イは、別の複合ブロツク材
を用いたこの発明のさらに他の実施例により得ら
れた磁気ヘツドの斜視図、第５図ロは第５図イで
用いられる複合ブロツク材を示す斜視図、第６図
はこの発明のさらに他の実施例に係るＹ字状溝の
形状を示す表面図、第７図はこの発明のさらに他
の実施例に係るＹ字状溝の底部の先端部分の形状
を示す表面図、第８図は従来の製法による磁気ヘ
ツドの斜視図、第９図は第８図に示した磁気ヘツ
ドの記録媒体摺動面を示す平面図、第１０図イ〜
ヘは従来の磁気ヘツドの製法を工程順に示した図
で、イ，ホ，ヘは斜視図、ロ，ハ，ニは表面図で
ある。第１１図、第１２図はそれぞれ従来の他の
磁気ヘツドの記録媒体摺動面を示す平面図であ
る。 １……セラミツクブロツク材、２……金属磁性
膜、３……溝うめ部材、４……ギヤツプ材、９…
…Ｙ字状溝。なお、図中同一符号は同一又は相当
部分を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 底部の幅がトラツク幅に対応したＹ字状の溝
   を有するブロツク材を形成する工程、上記ブロツ
   ク材のＹ字状溝の上面に金属磁性材料を被着して
   Ｙ字状金属磁性膜を形成する工程、該Ｙ字状金属
   磁性膜の上面に溝うめ部材を充填する工程、およ
   び上記ブロツク材を研磨し、該Ｙ字状金属磁性膜
   底部を露出させてギヤツプ形成面を形成する工程
   を備えたことを特徴とする磁気ヘツドの製造方
   法。 ２ トラツク幅の規制が、金属磁性膜が被着され
   るブロツク材にほぼＹ字状の溝を堀り凹部を形成
   する溝加工用ホイールの幅でなされる特許請求の
   範囲第１項記載の磁気ヘツドの製造方法。 ３ ブロツク材は、記録媒体摺動面からみて、少
   なくともトラツク幅規制部分が非磁性体になつて
   いる構造の磁性体と非磁性体の複合ブロツク材で
   ある特許請求の範囲第１項または第２項記載の磁
   気ヘツドの製造方法。