JPH0458820B2 - - Google Patents
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- JPH0458820B2 JPH0458820B2 JP12847187A JP12847187A JPH0458820B2 JP H0458820 B2 JPH0458820 B2 JP H0458820B2 JP 12847187 A JP12847187 A JP 12847187A JP 12847187 A JP12847187 A JP 12847187A JP H0458820 B2 JPH0458820 B2 JP H0458820B2
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
[産業上の利用分野]
本発明は二軸配向ポリエステルフイルムに関
し、更に詳しくは特定の球状シリコン樹脂粒子と
テレフタル酸金属塩またはアルキレンテレフタレ
ート成分(及びリン成分)を含む金属塩の粒子と
からなる滑剤が添加され、耐削れ性、滑り性に優
れ、更に耐スクラツチ性の改善された二軸配向ポ
リエステルフイルムに関する。 [従来技術] ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表さ
れる二軸配向ポリエステルフイルムは、その優れ
た物理的、化学的特性の故に、広い用途に用いら
れ、例えば磁気テープ用、コンデンサー用、写真
用、包装用、OHP用等に用いられている。 二軸配向ポリエステルフイルムにおいては、そ
の滑り性や耐削れ性がフイルムの製造工程および
各用途における加工工程の作業性の良否、さらに
はその製品品質の良否を左右する大きさ要因とな
つている。これらが不足すると、例えば二軸配向
ポリエステルフイルム表面に磁性層を塗布し、磁
気テープとして用いる場合には、磁性層塗布時に
おけるコーテイングロールとフイルム表面との摩
擦が激しく、またこれによるフイルム表面の摩耗
も激しく、極端な場合にはフイルム表面へのし
わ、擦り傷等が発生する。また磁性層塗布後のフ
イルムをスリツトしてオーデイオ、ビデオまたは
コンピユーター用テープ等に加工した後でも、リ
ールやカセツト遠からの引き出し、巻き上げその
他の操作の際に、多くのガイド部、再生ヘツド等
との間で摩耗が著しく生じ、擦り傷、歪の発生、
さらにはポリエステルフイルム表面削れ等による
白粉状物質を析出させる結果、磁気記録信号の欠
落、即ちドロツプアウトの大きな原因となること
が多い。 一般にフイルムの滑り性の改良には、フイルム
表面凹凸を付与することによりガイドロール等と
の間の接触面積を減少せしめる方法が採用されて
おり、大別して(i)フイルム原料に用いる高分子の
触媒残渣から不活性の微粒子を析出せしめる方法
と、(ii)不活性の無機微粒子を添加せしめる方法が
用いられている。これら原料高分子中の微粒子
は、その大きさが大きい程、滑り性の改良効果が
大であるのが一般的であるが、磁気テープ、特に
ビデオ用のごとき精密用途には、その粒子が大き
いこと自体がドロツプアウト等の欠点発生の原因
ともなり得るため、フイルム表面の凹凸は出来る
だけ微細である必要があり、これら相反する特性
を同時に満足すべき要求がなされているのが現状
である。 従来、フイルムの易滑性を向上させる方法とし
て、フイルム基質である芳香族ポリエステルに酸
化ケイ素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、タル
ク、クレイ、焼成カオリン等の無機質粒子を添加
する方法(例えば特開昭54−57562号公報参照)
又は芳香族ポリエステルを製造する重合系内で、
カルシウム、リチウムあるいはリンを含む微粒子
を析出せしめる方法が提案されている(特公昭52
−32914号公報参照)。フイルム化した際、芳香族
ポリエステルに不活性の上記微粒子はフイルム表
面に突起を生成し、この突起はフイルムの滑り性
を向上させる。 しかしながら、微粒子による突起によつて、フ
イルムの滑り性を改善する方法は、突起が一方で
はフイルム表面の平坦性を阻害することとなる本
質的な問題点を孕んでいる。 これらの相反する平坦性と易滑性とを解決せん
とする試みとして、比較的大粒径の微粒子と比較
的小粒径の微粒との複合微粒子系を利用する手段
が提案されている。 米国特許第3821156号明細書は0.5〜30μmの炭
酸カルシウム微粒子0.02〜0.1重量%と0.01〜1.0μ
mのシリカ又は水和アルミナシリケート0.01〜
0.5重量%との組合せを開示している。 米国特許3884870号明細書は約0.5〜30μmの炭
酸カルシウム、焼成ケイ酸アルミニウム、水和ケ
イ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸
カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、アルミ
ナ、硫酸バリウム、マイカ、ケイソウ土等の不活
性微粒子約0.002〜0.018重量%を、約0.01〜約
1.0μmのシリカ、炭酸カルシウム、焼成ケイ酸カ
ルシウム、水和ケイ酸カルシウム、リン酸カルシ
ウム、アルミナ、硫酸バリウム、硫酸マグネシウ
ム、ケイソウ土等の不活性微粒子約0.3〜2.5重量
%との併用を開示している。 米国特許第3980611号明細書は粒径1.0μm以下、
1〜2.5μmおよび2.5μm以上の3種の粒径グレー
ドのリン酸カルシウム微粒子を組合せて全量ppm
以下で芳香族ポリエステルに添加することを開示
している。 特公昭55−41648号公報(特開昭53−71154号公
報)は1.2〜2.5μmの微粒子0.22〜1.0重量%と1.8
〜10μmの微粒子0.003〜0.25重量%との組合せで
あつて、該微粒子が周期律表の第、および
族の元素の酸化物又は無機塩であることを提案し
ている。 特公昭55−40929号公報(特開昭52−11908号公
報)は、3〜6μmの不活性無機微粒子0.01〜0.08
重量%と1〜2.5μmの不活性無機微粒子0.08〜0.3
重量%との組合せであつて、粒径の異なるこれら
の微粒子の全量が0.1〜0.4重量%であり且つ小さ
い粒径の微粒子に対する大きい粒径の微粒子の割
合が0.1〜0.7である混合粒子を開示している。 特開昭52−78953号公報は10〜1000μmの不活
性粒子0.01〜0.5重量%と0.5〜15μmの炭酸カルシ
ウム0.11〜0.5重量%と含有する二軸配向ポリエ
ステルフイルムを開示している。特開昭52−
78953号公報には、10〜1000μmの不活性粒子と
して炭酸カルシウム以外の種々の無機質物質が一
般記載の中に列記されている。しかしながら、こ
の公報には通常10〜1000mμの微粒子として入手
できるシリカあるいはクレーを無機質物質として
用いた具体例が開示されているにすぎない。 [発明の目的] 本発明の目的は表面平坦性、易滑性、耐削れ性
及び耐スクラツチ性に極めて優れた二軸配向ポリ
エステルフイルムを提供することにある。 本発明の他の目的は、フイルム表面にシリコン
樹脂微粒子、及びテレフタル酸金属塩またはアル
キレンテレフタレート成分を含む金属塩の粒子に
由来する多数の微細な突起を有し且つ表面平坦
性、易滑性、耐削れ性及び耐スクラツチに極めて
優れた二軸配向ポリエステルフイルムを提供する
ことにある。 発明のさらに他の目的および利点は以下の説明
から明らかとなろう。 [発明の構成・効果] 本発明によれば、本発明の上記目的及び利点
は、第1に、 ()芳香族ポリエステル、 ()(a) 下記式(A) RxSiO2-(x/2) ……(A) ここで、Rは炭素数1〜7の炭化水素基で
あり、そしてxは1〜1.2の数である で表わされる組成を有し、 (b) 下記式(B) f=v/D3 ……(B) ここで、vは粒子1個当りの平均体積(μ
m3)であり、そしてDは粒子の平均最大粒径
(μm)である で定義される体積形状係数(f)が0.4より大きくそ
してπ/6以下であり、そして (c) 0.01〜4μmの平均粒径を有するシリコン樹
脂微粒子0.005〜2.0重量%(対芳香族ポリエ
ステル)、及び () 0.05〜5μmの平均粒径を有する、テレフタ
ル酸金属塩またはアルキレンテレフタレート成
分を含む金属塩の粒子0.005〜2.0重量%(対芳
香族ポリエステル)を緊密混合した組成物から
成る二軸配向ポリエステルフイルムによつて達
成される。 第1図はフイルムの摩擦係数(μk)を測定す
る装置の概略図である。 本発明における芳香族ポリエステルとは、芳香
族ジカルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリ
コールを主たるグリコール成分とするポリエステ
ルである。かかる芳香族ポリエステルは実質的に
線状であり、そしてフイルム形成性特に溶融成形
によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカルボ
ン酸としては、例えばテレフタル酸、ナフタレン
ジカルボン酸、イソフタル酸、ジフエノキシエタ
ンジカルボン酸、ジフエニルジカルボン酸、ジフ
エニルエーテルジカルボン酸、ジフエニスルホン
ジカルボン酸、ジフエニルケトンジカルボン酸、
アンスラセンジカルボン酸等を挙げることができ
る。脂肪族グリコールとしては、例えばエチレン
グリコール、トリメチレングリコール、テトラメ
チレングリコール、ペンタメチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール、デメチレグリコール
等の如き炭素数2〜10のポリメチレングリコール
あるいはシクロヘサンジメタノールの如き脂環族
ジオール等を挙げることができる。 本発明において、芳香族ポリエステルとしては
例えばアルキレンテレフタレート及び/又はアル
キレンフタレートを主たる構成成分とするものが
好ましく用いられる。 かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレートはもちろんのこと、例えば全ジカルボ
ン酸成分の80モル%以上がテレフタル酸及び/又
は2,6−ナフタレンジカルボン酸であり、全グ
リコール成分の80モル%以上がエチレングリコー
ルである共重合体が好ましい。その際全酸成分の
20モル%以下はテレフタル酸及び/又は2,6−
ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカル
ボン酸であることができ、また例えばアジピン
酸、セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸;シ
クロヘキサン−1,4−ジカルボン酸の如き脂環
族ジカルボン酸等であることができる。また、全
グリコール成分の20モル%以下は、エチレングリ
コール以外の上記グリコールであることができ、
あるいは例えばハイドロキノン、レゾルシン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)プロパ
ン等の如き芳香族ジオール;1,4−ジヒドロジ
メチルベンゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオ
ル;ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、ポリテトラメチレングリコール等の如
きポリアルキレングリコール(ポリオキシアルキ
レングリコール)等であることもできる。 また、本発明でおける芳香族ポリエステルに
は、例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキ
シ酸;ω−ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オ
キシ酸等のオキシカルボン酸に由来する成分を、
ジカルボン酸成分およびオキシカルボン酸成分の
総量に対し20モル%以下で共重合或は結合するも
のも包含される。 さらに本発明における芳香族ポリエステルには
実質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に
対し2モル%以下の量で、3官能以上のポリカル
ボン酸又はポリヒドロキシ化合物、例えばトリメ
リツト酸、ペンタエリンリトール等を共重合した
ものも包含される。 上記芳香族ポリエステルは、それ自体公知であ
り、且つそれ自体公知の方法で製造することがで
きる。 上記芳香族ポリエステルとしては、o−クロロ
フエノール中の溶液として35℃で測定して求め固
有粘度が約0.4〜約0.9のものが好ましい。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、そ
のフイルム表面の平坦性を定義するRaの後記説
明から明らかなとおり、フイルム表面に多数の微
細な突起を有している。 それらの多数の微細な突起は本発明によれば芳
香族ポリエステル中に分散して含有される多数の
実質的に不活性な固体微粒子を由来する。 本発明において、シリコン樹脂微粒子()
は、下記式(A) RxSiO2-(x/2) ……(A) ここで、Rは炭素数1〜7の炭化水素基であ
り、そしてxは1〜1.2の数である で表わされる組成を有する。 上記式(A)におけるRは炭素数1〜7の炭化水素
基であり、例えば炭素数1〜7のアルキル基、フ
エニル素あるいはトリル基が好ましい。炭素数1
〜7のアルキル基は直鎖状であつても分岐鎖状で
あつてもよく、例えばメチル、エチル、n−プロ
ピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチ
ル、tert−ブリル、n−ペンチル、n−ヘプチル
等をあげることができる。 これらのうち、Rとしてはメチルおよびフエニ
ルが好ましく、就中メチルが特に好ましい。 上記式(A)におけるxは1〜1.2の数である。上
記式(A)においてxが1であるとき、下記式(A)は下
記式(A−)1 RSiO1.5 ……(A−)1 ここで、Rの定義は上記に同じである で表わすことができる。 上記式(A−)1の組成は、シリコン樹脂の三次
元重合体鎖構造における下記構造部分; に由来するものである。 また、上記式(A)においてxが1.2であるとき、
上記式(A)は下記式(A−)2 R1.2SiO1.4 ……(A−)2 ここで、Rの定義は上記に同じである で表わすことができる。 上記式(A−)2の組成は、上記(A−)1の構造
0.8モルと下記式(A)′ R2SiO ……(A)′ ここで、Rの定義は上記に同じである で表わされる構造0.2モルとから成ると理解する
ことができる。 上記式(A)′は、シリコン樹脂の三次元重合体鎖
における下記構造部分; に由来する。 以上の説明から理解されるように、本発明の上
記式(A)の組成は、例えば上記式(A−)1の構造の
みから実質的になるか、あるいは上記式(A−)1
の構造と上記式(A−)2の構造が適当な割合でラ
ンダムに結合した状態で共存する構造から成るこ
とがわかる。 本発明におけるシリコン樹脂微粒子は、好まし
くは上記式(A)において、xが1〜1.1の間の値を
有する。 また、本発明におけるシリコン樹脂微粒子
()は、下記式(B) f=v/D3 ……(B) ここで、vは粒子1個当りの平均体積(μm3)
であり、そしてDは粒子の平均最大粒径(μm)
である で定義される体積形成係数(f)が0.4より大きくそ
してπ/6以下であるものである。 上記定義において、Dの粒子の平均粒径は粒子
を横切る任意の直線が粒子の周囲と交差する2点
の間の距離のうち最大の長さを持つ距離を云うも
のと理解すべきである。 本発明におけるシリコン樹脂微粒子の好ましい
fの値は0.44〜π/6であり、のり好ましいfの
値は0.48〜π/nである。fの値はπ/nである
粒子は真球である。下限よりも小さいf値を持つ
シリコン樹脂微粒子の使用ではフイルム表面諸特
性の制御が極めて困難となる。 本発明で用いるシリコン樹脂微粒子は、さら
に、0.01〜4μmの平均粒径を有している。平均粒
径が0.01μmよりも小さい粒子を使用した場合に
は、滑り性よ耐削れ性の向上効果が不充分であ
り、一方平均粒径が4μmより大きい粒子を使用
した場合には平面平坦性の十分でないフイルムし
か得られない。 平均粒径は好ましくは0.05〜3μmの値にある。 ここに言う平均粒径とは、ストークスの式に基
づいて算出された等価球径粒度分布の積算50%点
における径であると理解される。 本発明で用いるシリコン樹脂微粒子は、例え
ば、下記式 RSi(OR′)3 ここで、Rは炭素数1〜7の炭化水素基であ
り、そしてR′は低級アルキル基である で表わされるトリアルコキシシランまたはこの部
分加水分解縮合物を、アンモニアあるいはメチル
アミン、ジメチルアミン、エチレンジアミン等の
如きアミンの存在下、撹拌下に、加水分解および
縮合せしめることによつて製造できる。上記出発
原料を使用する上記方法によれば、上記式(A−)
1で表わされる組成を持つシリコン樹脂粒子を製
造することができる。 また、上記方法において、例えば下記式 R2Ri(OR′)2 ここで、RおよびR′の定義は上記に同じであ
る で表わされるジアルコキシシラを上記トリアルコ
キシシランと一緒に併用し、上記方法に従えば、
上記式(A−)2で表わされる組名を持つシリコン
樹脂粒子を製造することができる。 本発明で用いるシリコン樹脂微粒子は、下記式 γ=D25/D75 ……(C) ここで、γは粒径比であり、D25は粒子の積算
重量が全体の重量の25%であるときの粒径であ
り、そしてD75は微粒子の積算重量が全体の重量
の75%であるときの粒径である、但し積算重量の
割合は大きい粒径の方から測定するものとする。 で表わされる粒径比(γ)が好ましくは1〜1.4
の範囲にあるものである。この粒径比は更に好ま
しくは1〜1.3の範囲にあり、特に好ましくは1
〜1.15の範囲にある。 本発明において芳香族ポリエステル中に分散含
有させるテレフタル酸金属塩またはアルキレンテ
レフタレート成分を含む金属塩の粒子(以下、金
属塩粒子と言うことがある)()は平均粒径が
0.05〜5μm、好ましくは0.1〜3μm、更に好まし
くは0.3〜2μmである。この平均粒子が0.05μm未
満では、滑り性や、耐削れ性の向上効果が不充分
であり、好ましくない。また平均粒径が5μmを
超えるとフイルム表面が粗れすぎて、好ましくな
い。 かかる金属塩粒子()の具体例としては、 等を例示できる。金属塩粒子を形成する金属とし
ては、アルカリ金属アルカリ土類等が好ましく例
示される。金属塩粒子()は、その製法によつ
て限定されることはない。代表例としては、テレ
フタル酸カルシウム粒子の製造例について述べる
と、塩化カルシウム水溶液にテレフタル酸水溶液
を加えてテレフタル酸カルシウムを析出させ、該
テレフタル酸カルシウムを分離、水洗、乾燥し、
次いで無水のテレフタル酸カルシウムをグリコー
ル例えばエチレングリコール等に分散させてスラ
リーし、更に該スラリーを常法の粒度調整処理例
えば粉砕処理、分級処理等にかけて所定の平均粒
径のテレフタル酸カルシウムを分散させたグリコ
ールスラリーを得ることができる。また、エチレ
ンテレフタレート成分、或はこれとリン成分を含
む金属塩の粒子は内部析出粒子を製造する公知の
方法によつて製造することができるが、この粒子
製造は本発明におけるポリエステルを製造する系
とは別の系で行なう必要がある。 本発明のフイルムを形成する芳香族ポリエステ
ル()とシリコン樹脂微粒子()、及びテレ
フタル酸金属塩又はアルキレンテレフタレート成
分を含む金属塩の粒子()との緊密な混合物
は、該微粒子()を0.005〜2.0重量%(芳香族
ポリエステルに対し)を含有している。該微粒子
()の量が0.005重量%未満では、フイルムの滑
り性や耐削れ性の向上効果が不充分であり、一方
2.0重量%を超えるとフイルムの平坦性が低下す
る。該微粒子()の量は0.01〜0.5重量%(芳
香族ポリエステルに対し)が好ましい。 更に金属塩粒子()の量は0.005〜2.0重量%
(芳香族ポリエステルに対し)とする必要があり、
好ましくは0.01〜1.0重量%、更に好ましくは0.05
〜0.5重量%である。この添加量が0.005重量%未
満では、滑り性や耐削れ性、耐スクラツチ性の向
上効果が不充分となり、一方、2.0重量%を越え
るとフイルムの切断が多発し、好ましくない。 本発明で使用する上記シリコン樹脂微粒子
()は、上記の如く、ポリエステルフイルムに
表面平坦性、滑り性および耐削れ性を付与する。
特に、優れた耐削れ性を与える理由として、本発
明者の研究によれば、該シリコン樹脂微粒子がそ
れが混合されている芳香族ポリエステルと非常に
親和性が大きいことによることが明らかとされ
た。 すなわち、該シリコン樹脂微粒子を含有する本
発明のフイルムの表面をイオンエツチングしてフ
イルム中のシリコン樹脂微粒子を暴露させ、走査
型電子顕微鏡にて表面を観察すると、シリコン樹
脂微粒子の周囲方面が芳香族ポリエステル基質と
実質的に接触している状態、換言すれば該周囲表
面と芳香族ポリエステル基質との間にボイドがほ
とんどあるいは全く看られない状態が観察される
のである。 本発明のフイルムは、上記のようにして、走査
型電子顕微鏡にて、40個の微粒子周辺を観察する
と、その16個(40%)以上が上記ボイドを有さな
いものが実質的に全てを占め、20個(50%)以上
が上記ボイドを有さないものはその大部分であ
り、さらに24個(60%)以上が上記ボイドを有さ
ないものは主たる割合を占める。 また、本発明のフイルムの上記シリコン樹脂微
粒子が芳香族ポリエステル基質と大きい親和性を
有することを、別の尺度である後に定義するボイ
ド比(粒子の長径対ボイドの長径の比)で評価す
ると、本発明のフイルムはボイド比が1.0〜1.1で
あるものが実質的に全てであり、さらに1.0〜
1.08であるものはその大部分であり、さらに1.0
〜1.05であるものはその主たる部分を占めること
が明らかとなつた。 ボイドが少なく、そしてボイド比が1.0に近い
本発明の二軸配向ポリエステルフイムは特に耐削
れ性に優れている。特に、高倍率に延伸され、ヤ
ング率が高められた高強力ポリエステルフイルム
についてもボイドがほとんどないものがある。こ
のことはシリコン樹脂微粒子と芳香族ポリエステ
ルの接着が優れていることを表わしている。 一般的に芳香族ポリエステルと不活性粒子(滑
剤)とは親和性がない。このため溶融製膜したポ
リエテル未延伸フイルムを二軸延伸すると、該微
粒子と芳香族ポリエステルの境界に剥離が生じ、
該微粒子の囲りにボイドが形成されるのが普通で
ある。このボイドは、微粒子が大きいほど、形状
が球形に近いほど、また微粒子が単一粒子が変形
しにくいほど、そしてまた未延伸フイルムを延伸
する際に延伸面積倍率が大きいほど、また低温で
行うほど大きくなる傾向がある。このボイドは、
大きくなればなる程突起の形状がゆるやかな形と
なるので摩擦係数を高くすることとにより、それ
と共に繰り返し使用時に生じた二軸配向ポリエス
テルフイルムのボイドの脱落を起し、耐久性を低
下させる、また削れ粉発生の原因となつている。 このような従来の無機不活性滑剤の場合には、
該滑剤周辺のボイド量は、かなり大きく、高強力
ポリエステルフイルムにおいてはこのボイドは更
に大きくなり、その結果磁気テープのカレンダー
工程等、加工工程で耐削れ性が劣るのが常であ
る。 本発明で用いる上記シリコン樹脂微粒子は上記
の如く芳香族ポリエステル基質と親和性が大き
く、このため粒子周辺にボイドが発生する頻度が
少ない。そのため、粒子が大きくなるにつれて一
般に大きくなるボイドを発生する頻度を、上記シ
リコン樹脂微粒子を使用する場合には小さく抑え
ることができるため、本発明によれば比較的大粒
子としてシリコン樹脂微粒子を用い、それと一緒
にボイドの発生する割合が少ないテレフタル酸金
属塩又はアルキレンテレフタレート成分を含む金
属塩の粒子を併用するから、2種類の粒子を用い
る利点を有しつつ、走行性、耐摩耗性、耐疲労
性、電気絶縁性および透明性に優れたフイルムを
提供しうる。更に、その粒径分布が極めてシヤー
プであるシリコン樹脂微粒子の使用によりポリエ
ステルフイルムの表面に形成された突起の分布は
極めて均一性が高く、突起の高さのそろつたポリ
エステルフイルムを提供し得る。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムを製造
する際に、シリコン樹脂微粒子及び金属塩粒子を
芳香族ポリエステルと緊密に混合するにはこれら
の微粒子を、芳香族ポリエステルの重合前又は重
合中に重合釜中で、重合終了後ペレタイズすると
き押出機中で、あるいはシート状に溶融押出しす
る際押出機中で、該芳香族ポリエステルと十分に
混練すればよい。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、例
えば、融点(Tm:℃)ないし(Tm+70)℃の
温度で芳香族ポリエステルを溶押して固有粘度
0.35〜0.9dl/gの未延伸フイルムを得、該未延伸
フイルムを一軸方向(縦方向又は横方向)に
(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(但し、Tg:
芳香族ポリエスルのガラス転移温度)で2.5〜5.0
倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直角方
向(一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸
は横方向となる)にTg(℃)−(Tg+70)℃の温
度で2.5〜5.0倍の倍率で延伸することで製造でき
る。この場合、面積延伸倍率は9〜22倍、更には
12〜22倍にするのが好ましい。延伸手段は同時二
軸延伸、逐次二軸延伸のいずれでも良い。 更に、二軸配向フイルムは、(Tg+70)℃〜
Tm(℃)の温度で熱固定することができる。例
えばポリエチレンテレフタレートフイルムについ
ては190〜230℃で熱固定することが好ましい。熱
固定時間は例えば1〜60秒である。 ポリエステルフイルムの厚みは、1〜100μm、
更には1〜50μm、特に1〜25μmが好ましい。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、走
行時の摩擦係数が小さく、操作性が大変良好であ
る。またこのフイルムを磁気テープのベースとし
て用いると、磁気記録再生装置(ハードウエア)
の走行部分との接触摩擦によるベースフイルムの
削れが極めて少なく、耐久性が良好である。 更に、本発明の二軸配向ポリエステルフイルム
はフイルム形成時において巻き性が良好であり、
かつ巻き皺が発生しにくく、その上スリツト段階
において寸法安定的にシヤープに切断されるとい
う長所がある。 以上のフイルム製品としての長所と、フイルム
形成時の長所との組合せによつて、本発明のフイ
ルムは、特に、高級グレードの磁気用用途分野の
ベースフイルムとして極めて有用であり、またそ
の製造も容易で安定に生産できる利点を持つ。本
発明の二軸配向ポリエステルフイルムは高級グレ
ードの磁気記録媒体例えばマイクロ記録材、コン
パクト化あるいは高密度化したフロツピーデイス
ク製品、オーデイオ及びビデオ等の長時間録画用
の超薄物、高密度記録磁気フイルム、高品質画像
記録再生用の磁気記録フイルム例えばメタルや蒸
着磁気記録材等のベースフイルムとして好適であ
る。 それ故、本発明によれば、上記本発明の二軸配
向ポリエステルフイルムの片側又は両面に磁性層
を設けた磁気記録媒体が同様に提供される。 磁性層および磁性層をベースフイルム上に設け
る方法はそれ自体公知であり、本発明においても
公知の磁性層およびそれを設ける方法を採用する
ことができる。 例えば磁性層をベースフイルム上に磁性塗料を
塗布する方法によつて設ける場合には、磁性層に
用いられる強磁性粉体としてγ−Fe2O3、Co含有
のγ−Fe3O4、Co含有のFe3O4、CrO2、バリウム
フエライド等、公知の強磁性体が使用できる。 磁性粉体と共に使用されるバインダーとして
は、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂又はこれらの混合物である。これらの樹脂し
ては例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポ
リウレタンエラストマー等があげられる。 磁性塗料は、さらに研磨剤(例えばα−Al2O3
等)、導電剤(例えばカーボンブラツク等)、分散
剤(例えばレシチン等)、潤滑剤(例えばn−ブ
チルステアレート、レシチン酸等)、硬化剤(例
えばエポキシ樹脂等)及び溶媒(例えばメチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン
等)等を含有することができる。 磁性層を、ベースフイルム上に金属薄膜を形成
させる方法によつて設ける場合には、それ自体公
知の真空蒸着法、スパツタ法、イオンプレーテイ
ング法、C.V.D(Chemical Vapour Depsition)
法、無電解メツキ法等の方法を採用することがで
きる。金属として鉄、コバルト、ニツケル、およ
びそれらの合金(例えばCo−Ni合金、Co−Ni−
Fe合金、Co−Cr合金、Co−N合金等があげられ
る。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、上
述の磁気記録媒体の他に種々の用途に用いること
ができる。例えば、コンデンサー用、包装用、蒸
着用等の用途に有用である。 なお本発明における種々の物性値および特性は
以下の如くして測定されたものであり且つ定義さ
れる。 (1) 粒子の平均粒径(DP) 島津製作所製CP−50型セントリフユグルパ
ーテイクル サイズ アナライザー
(Centrifugal Particle Size Analyser)を用
いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算
出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線
から、50マスパーセントに相当する粒径を読み
取り、この値を上記平均粒径とする(Book「粒
度測定技術」日刊工業新聞社発行、1975年、
頁、242〜247参照)。 (2) 粒子の粒度の分布(γ) 粒子の平均粒径の測定において得られた遠心
沈降曲線を基に、各粒径の粒子とその存在量と
の積算曲線を算出して描き、粒径の大きい方か
ら積算した粒子の積算重量が25マスパーセント
に相当する粒径(D25)と、粒子の積算重量が
75マスパーセントに相当する粒径(D75)を読
みとり、前者の値を後者の値で除し(D25/
D75)、各々の粒子の粒度分布比(γ)を算出
する。 (3) フイルムの走行摩擦係数(μk) 第1図に示した装置を用いて下記のようにし
て測定する。第1図中、1は巻出しリール、2
はテンシヨンコントローラ、3,5,6,8,
9および11はフリーローラー、4はテンシヨ
ン検出機(入口)、7はステンレス網SUS304
製の固定棒(外径5mmφ)、10はテンシヨン
検出機(出口)、12はガイドオーラー、13
は巻取りリールをそれぞれ示す。 温度20℃、湿度60%の環境で、巾1/2インチ
に裁断したフイルムを7の固定棒(表面粗さ
0.3μm)に角度θ=(152/181)πラジアン
(152°)で接触させて毎分200cmの速さで移動
(摩擦)させる。入口テンシヨンT1が35gとな
るようにテンシヨンコントローラー2を調整し
た時の出口テンシヨン(T2:g)をフイルム
が90m走行したのちに出口テンシヨン検出機で
検出し、次式で走行摩耗係数μkを算出する。 μk=(2.303/θ)log(T2/T1) =0.868log(T2/35) (4) フイルム表面の平坦性 CLA(Center Line Averag:中心線平坦粗
さ)をJIS B 0601に準じて測定する。東京精
密社(株)製の触針式表面粗さ計
(SURFCOM3B)を用いて、針の半径2μ、荷
重0.07gの条件下にチヤート(フイルム表面粗
さ曲線)をかかせ、得られるフイルム表面粗さ
曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分
を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸
として、縦倍率の方向をY軸として、粗さ曲線
Y=f(x)で表わしたとき、次の式で与えられる
値(Ra:μm)をフイルム表面の平坦性とし
て定義する。 Ra=I/L∫L p|f(x)|dx 本発明では、基準長を0.25mmとして8個測定
し、値の大きい方から3個除いた5個の平均値
としてRaを表わす。 (5) 削れ性 ベースフイルムの走行面の削れ性を5段をミ
ニスーパーカレンダーを使用して評価する。カ
レンダーはナイロンロールとスチールロールの
5段カレンダーであり、処理温度は80℃、フイ
ルムにかかる線圧は200Kg/cm、フイルムスピ
ードは50m/分で、フイルムを全長2000m走行
させた時点でカレンダーのトツプローラーに付
着する汚れで、ベースフイルムの削れ性を評価
する。 <5段階判定> ◎ ナイロンロールの汚れ全くなし ○ ナイロンロールの汚れはほとんどなし × ナイロンロールが汚れる ×× ナイロンオールがひどく汚れる (6) ボイド比 試料フイルム小片を走査型電子顕微鏡用試料
台に固定し、日本電子(株)製スパツタリング装置
(JFC−1100型イオンスパツターリング装置)
を用いて、フイルム表面を下記条件にてイオン
エツチング処理を施す。ベンジヤー内に上記試
料台を設置し、約10-3Torrの真空状態まで真
空度を上げ電圧0.25kV、電流12.5mAにて約10
分間イオンエツチングを実施する。更に同装置
にてフイルム表面に金スパツターを施し、約
200Å程度の金薄膜層を形成し、走査型電子顕
微鏡を用いて例えば1万〜3万倍の倍率にて測
定を行う。尚、ボイドは粒径0.3μm以上の滑剤
につてのみ測定を行なう。 (7) 固有粘度[η] o−クロロフエノールを溶媒として用い、35
℃で測定した値、単位は100c.c./gである。 (8) 体積形状係数(f) 走査型電子顕微鏡により粒子の写真を例えば
5000倍で10視野撮影し、例えば画素解析処理装
置ルーゼツクス500(日本レギユレーター製)を
用い、最大径の平均値を各視野毎に測定し、更
に、10視野の平均値を求め、Dとする。 測定法の上記1項で求めた、粒子の平均粒径
dより、粒子の平均体積{V=(π/6)d3}
を求め、形状係数fを次式により算出する。 f=v/D3 式中、vは粒子1個当りの平均体積(μm3)
Dは粒子の平均最大粒径(μm)を表わす。 [実施例] 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。 比較例 1〜9 ジメチルエテレフタレートとエチレングリコー
ルとを、エステル交換触媒として酢酸マンガン
を、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、更に滑剤として第1表に示す添
加粒子を添加して、常法により重合し、固有粘度
(オルソクロロフエノール、35℃)0.62のポリエ
チレンテレフタレートを得た。 このポリエチレンテレフタレートのペレツトを
170℃で3時間乾燥押出機ホツパーに供給し、溶
融温度280〜300℃で溶融し、この溶融ポリマーを
1mmのスリツト状ダイを通して表面仕上げ0.3s程
度、表面温度20℃の回転冷却ドラム上に押出し、
200μmの未延伸フイルムを得た。 このようにして得られた未延伸フイルムを75℃
にて予熱し、更に低速、高速のロール間で15mm上
方より900℃の表面温度の1Rヒーター1本にて加
熱して3.6倍に延伸し、急冷し、続いてステンタ
ーに供給し、105℃にて横方向に3.7倍に延伸し
た。得られた二軸配向フイルムを205℃の温度で
5秒熱固定し、厚み15μmの熱固定二軸配向フイ
ルムを得た。 このフイルムの特性を第1表に示す。 なお、ここで用いたテレフタル酸カルシウム粒
子は次の方法で調製した。 10wt%の塩化カルシウム水溶液中に5wt%のテ
レフタル酸ナトリウム水溶液を加えてテレフタル
酸カルシウムの白色沈澱物を生成させた。このテ
レフタル酸カルシウムを分離、水洗後200℃で加
熱し、無水塩とした。このテレフタル酸カルシウ
ム無水塩をボールミルで粉砕後、エチレングリコ
ールに分散させてスラリーとし、次いで分級し、
所定の粒径のテレフタル酸カルシウムグリコール
スラリーを得た。
し、更に詳しくは特定の球状シリコン樹脂粒子と
テレフタル酸金属塩またはアルキレンテレフタレ
ート成分(及びリン成分)を含む金属塩の粒子と
からなる滑剤が添加され、耐削れ性、滑り性に優
れ、更に耐スクラツチ性の改善された二軸配向ポ
リエステルフイルムに関する。 [従来技術] ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表さ
れる二軸配向ポリエステルフイルムは、その優れ
た物理的、化学的特性の故に、広い用途に用いら
れ、例えば磁気テープ用、コンデンサー用、写真
用、包装用、OHP用等に用いられている。 二軸配向ポリエステルフイルムにおいては、そ
の滑り性や耐削れ性がフイルムの製造工程および
各用途における加工工程の作業性の良否、さらに
はその製品品質の良否を左右する大きさ要因とな
つている。これらが不足すると、例えば二軸配向
ポリエステルフイルム表面に磁性層を塗布し、磁
気テープとして用いる場合には、磁性層塗布時に
おけるコーテイングロールとフイルム表面との摩
擦が激しく、またこれによるフイルム表面の摩耗
も激しく、極端な場合にはフイルム表面へのし
わ、擦り傷等が発生する。また磁性層塗布後のフ
イルムをスリツトしてオーデイオ、ビデオまたは
コンピユーター用テープ等に加工した後でも、リ
ールやカセツト遠からの引き出し、巻き上げその
他の操作の際に、多くのガイド部、再生ヘツド等
との間で摩耗が著しく生じ、擦り傷、歪の発生、
さらにはポリエステルフイルム表面削れ等による
白粉状物質を析出させる結果、磁気記録信号の欠
落、即ちドロツプアウトの大きな原因となること
が多い。 一般にフイルムの滑り性の改良には、フイルム
表面凹凸を付与することによりガイドロール等と
の間の接触面積を減少せしめる方法が採用されて
おり、大別して(i)フイルム原料に用いる高分子の
触媒残渣から不活性の微粒子を析出せしめる方法
と、(ii)不活性の無機微粒子を添加せしめる方法が
用いられている。これら原料高分子中の微粒子
は、その大きさが大きい程、滑り性の改良効果が
大であるのが一般的であるが、磁気テープ、特に
ビデオ用のごとき精密用途には、その粒子が大き
いこと自体がドロツプアウト等の欠点発生の原因
ともなり得るため、フイルム表面の凹凸は出来る
だけ微細である必要があり、これら相反する特性
を同時に満足すべき要求がなされているのが現状
である。 従来、フイルムの易滑性を向上させる方法とし
て、フイルム基質である芳香族ポリエステルに酸
化ケイ素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、タル
ク、クレイ、焼成カオリン等の無機質粒子を添加
する方法(例えば特開昭54−57562号公報参照)
又は芳香族ポリエステルを製造する重合系内で、
カルシウム、リチウムあるいはリンを含む微粒子
を析出せしめる方法が提案されている(特公昭52
−32914号公報参照)。フイルム化した際、芳香族
ポリエステルに不活性の上記微粒子はフイルム表
面に突起を生成し、この突起はフイルムの滑り性
を向上させる。 しかしながら、微粒子による突起によつて、フ
イルムの滑り性を改善する方法は、突起が一方で
はフイルム表面の平坦性を阻害することとなる本
質的な問題点を孕んでいる。 これらの相反する平坦性と易滑性とを解決せん
とする試みとして、比較的大粒径の微粒子と比較
的小粒径の微粒との複合微粒子系を利用する手段
が提案されている。 米国特許第3821156号明細書は0.5〜30μmの炭
酸カルシウム微粒子0.02〜0.1重量%と0.01〜1.0μ
mのシリカ又は水和アルミナシリケート0.01〜
0.5重量%との組合せを開示している。 米国特許3884870号明細書は約0.5〜30μmの炭
酸カルシウム、焼成ケイ酸アルミニウム、水和ケ
イ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸
カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、アルミ
ナ、硫酸バリウム、マイカ、ケイソウ土等の不活
性微粒子約0.002〜0.018重量%を、約0.01〜約
1.0μmのシリカ、炭酸カルシウム、焼成ケイ酸カ
ルシウム、水和ケイ酸カルシウム、リン酸カルシ
ウム、アルミナ、硫酸バリウム、硫酸マグネシウ
ム、ケイソウ土等の不活性微粒子約0.3〜2.5重量
%との併用を開示している。 米国特許第3980611号明細書は粒径1.0μm以下、
1〜2.5μmおよび2.5μm以上の3種の粒径グレー
ドのリン酸カルシウム微粒子を組合せて全量ppm
以下で芳香族ポリエステルに添加することを開示
している。 特公昭55−41648号公報(特開昭53−71154号公
報)は1.2〜2.5μmの微粒子0.22〜1.0重量%と1.8
〜10μmの微粒子0.003〜0.25重量%との組合せで
あつて、該微粒子が周期律表の第、および
族の元素の酸化物又は無機塩であることを提案し
ている。 特公昭55−40929号公報(特開昭52−11908号公
報)は、3〜6μmの不活性無機微粒子0.01〜0.08
重量%と1〜2.5μmの不活性無機微粒子0.08〜0.3
重量%との組合せであつて、粒径の異なるこれら
の微粒子の全量が0.1〜0.4重量%であり且つ小さ
い粒径の微粒子に対する大きい粒径の微粒子の割
合が0.1〜0.7である混合粒子を開示している。 特開昭52−78953号公報は10〜1000μmの不活
性粒子0.01〜0.5重量%と0.5〜15μmの炭酸カルシ
ウム0.11〜0.5重量%と含有する二軸配向ポリエ
ステルフイルムを開示している。特開昭52−
78953号公報には、10〜1000μmの不活性粒子と
して炭酸カルシウム以外の種々の無機質物質が一
般記載の中に列記されている。しかしながら、こ
の公報には通常10〜1000mμの微粒子として入手
できるシリカあるいはクレーを無機質物質として
用いた具体例が開示されているにすぎない。 [発明の目的] 本発明の目的は表面平坦性、易滑性、耐削れ性
及び耐スクラツチ性に極めて優れた二軸配向ポリ
エステルフイルムを提供することにある。 本発明の他の目的は、フイルム表面にシリコン
樹脂微粒子、及びテレフタル酸金属塩またはアル
キレンテレフタレート成分を含む金属塩の粒子に
由来する多数の微細な突起を有し且つ表面平坦
性、易滑性、耐削れ性及び耐スクラツチに極めて
優れた二軸配向ポリエステルフイルムを提供する
ことにある。 発明のさらに他の目的および利点は以下の説明
から明らかとなろう。 [発明の構成・効果] 本発明によれば、本発明の上記目的及び利点
は、第1に、 ()芳香族ポリエステル、 ()(a) 下記式(A) RxSiO2-(x/2) ……(A) ここで、Rは炭素数1〜7の炭化水素基で
あり、そしてxは1〜1.2の数である で表わされる組成を有し、 (b) 下記式(B) f=v/D3 ……(B) ここで、vは粒子1個当りの平均体積(μ
m3)であり、そしてDは粒子の平均最大粒径
(μm)である で定義される体積形状係数(f)が0.4より大きくそ
してπ/6以下であり、そして (c) 0.01〜4μmの平均粒径を有するシリコン樹
脂微粒子0.005〜2.0重量%(対芳香族ポリエ
ステル)、及び () 0.05〜5μmの平均粒径を有する、テレフタ
ル酸金属塩またはアルキレンテレフタレート成
分を含む金属塩の粒子0.005〜2.0重量%(対芳
香族ポリエステル)を緊密混合した組成物から
成る二軸配向ポリエステルフイルムによつて達
成される。 第1図はフイルムの摩擦係数(μk)を測定す
る装置の概略図である。 本発明における芳香族ポリエステルとは、芳香
族ジカルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリ
コールを主たるグリコール成分とするポリエステ
ルである。かかる芳香族ポリエステルは実質的に
線状であり、そしてフイルム形成性特に溶融成形
によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカルボ
ン酸としては、例えばテレフタル酸、ナフタレン
ジカルボン酸、イソフタル酸、ジフエノキシエタ
ンジカルボン酸、ジフエニルジカルボン酸、ジフ
エニルエーテルジカルボン酸、ジフエニスルホン
ジカルボン酸、ジフエニルケトンジカルボン酸、
アンスラセンジカルボン酸等を挙げることができ
る。脂肪族グリコールとしては、例えばエチレン
グリコール、トリメチレングリコール、テトラメ
チレングリコール、ペンタメチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール、デメチレグリコール
等の如き炭素数2〜10のポリメチレングリコール
あるいはシクロヘサンジメタノールの如き脂環族
ジオール等を挙げることができる。 本発明において、芳香族ポリエステルとしては
例えばアルキレンテレフタレート及び/又はアル
キレンフタレートを主たる構成成分とするものが
好ましく用いられる。 かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレートはもちろんのこと、例えば全ジカルボ
ン酸成分の80モル%以上がテレフタル酸及び/又
は2,6−ナフタレンジカルボン酸であり、全グ
リコール成分の80モル%以上がエチレングリコー
ルである共重合体が好ましい。その際全酸成分の
20モル%以下はテレフタル酸及び/又は2,6−
ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカル
ボン酸であることができ、また例えばアジピン
酸、セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸;シ
クロヘキサン−1,4−ジカルボン酸の如き脂環
族ジカルボン酸等であることができる。また、全
グリコール成分の20モル%以下は、エチレングリ
コール以外の上記グリコールであることができ、
あるいは例えばハイドロキノン、レゾルシン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)プロパ
ン等の如き芳香族ジオール;1,4−ジヒドロジ
メチルベンゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオ
ル;ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、ポリテトラメチレングリコール等の如
きポリアルキレングリコール(ポリオキシアルキ
レングリコール)等であることもできる。 また、本発明でおける芳香族ポリエステルに
は、例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキ
シ酸;ω−ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オ
キシ酸等のオキシカルボン酸に由来する成分を、
ジカルボン酸成分およびオキシカルボン酸成分の
総量に対し20モル%以下で共重合或は結合するも
のも包含される。 さらに本発明における芳香族ポリエステルには
実質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に
対し2モル%以下の量で、3官能以上のポリカル
ボン酸又はポリヒドロキシ化合物、例えばトリメ
リツト酸、ペンタエリンリトール等を共重合した
ものも包含される。 上記芳香族ポリエステルは、それ自体公知であ
り、且つそれ自体公知の方法で製造することがで
きる。 上記芳香族ポリエステルとしては、o−クロロ
フエノール中の溶液として35℃で測定して求め固
有粘度が約0.4〜約0.9のものが好ましい。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、そ
のフイルム表面の平坦性を定義するRaの後記説
明から明らかなとおり、フイルム表面に多数の微
細な突起を有している。 それらの多数の微細な突起は本発明によれば芳
香族ポリエステル中に分散して含有される多数の
実質的に不活性な固体微粒子を由来する。 本発明において、シリコン樹脂微粒子()
は、下記式(A) RxSiO2-(x/2) ……(A) ここで、Rは炭素数1〜7の炭化水素基であ
り、そしてxは1〜1.2の数である で表わされる組成を有する。 上記式(A)におけるRは炭素数1〜7の炭化水素
基であり、例えば炭素数1〜7のアルキル基、フ
エニル素あるいはトリル基が好ましい。炭素数1
〜7のアルキル基は直鎖状であつても分岐鎖状で
あつてもよく、例えばメチル、エチル、n−プロ
ピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチ
ル、tert−ブリル、n−ペンチル、n−ヘプチル
等をあげることができる。 これらのうち、Rとしてはメチルおよびフエニ
ルが好ましく、就中メチルが特に好ましい。 上記式(A)におけるxは1〜1.2の数である。上
記式(A)においてxが1であるとき、下記式(A)は下
記式(A−)1 RSiO1.5 ……(A−)1 ここで、Rの定義は上記に同じである で表わすことができる。 上記式(A−)1の組成は、シリコン樹脂の三次
元重合体鎖構造における下記構造部分; に由来するものである。 また、上記式(A)においてxが1.2であるとき、
上記式(A)は下記式(A−)2 R1.2SiO1.4 ……(A−)2 ここで、Rの定義は上記に同じである で表わすことができる。 上記式(A−)2の組成は、上記(A−)1の構造
0.8モルと下記式(A)′ R2SiO ……(A)′ ここで、Rの定義は上記に同じである で表わされる構造0.2モルとから成ると理解する
ことができる。 上記式(A)′は、シリコン樹脂の三次元重合体鎖
における下記構造部分; に由来する。 以上の説明から理解されるように、本発明の上
記式(A)の組成は、例えば上記式(A−)1の構造の
みから実質的になるか、あるいは上記式(A−)1
の構造と上記式(A−)2の構造が適当な割合でラ
ンダムに結合した状態で共存する構造から成るこ
とがわかる。 本発明におけるシリコン樹脂微粒子は、好まし
くは上記式(A)において、xが1〜1.1の間の値を
有する。 また、本発明におけるシリコン樹脂微粒子
()は、下記式(B) f=v/D3 ……(B) ここで、vは粒子1個当りの平均体積(μm3)
であり、そしてDは粒子の平均最大粒径(μm)
である で定義される体積形成係数(f)が0.4より大きくそ
してπ/6以下であるものである。 上記定義において、Dの粒子の平均粒径は粒子
を横切る任意の直線が粒子の周囲と交差する2点
の間の距離のうち最大の長さを持つ距離を云うも
のと理解すべきである。 本発明におけるシリコン樹脂微粒子の好ましい
fの値は0.44〜π/6であり、のり好ましいfの
値は0.48〜π/nである。fの値はπ/nである
粒子は真球である。下限よりも小さいf値を持つ
シリコン樹脂微粒子の使用ではフイルム表面諸特
性の制御が極めて困難となる。 本発明で用いるシリコン樹脂微粒子は、さら
に、0.01〜4μmの平均粒径を有している。平均粒
径が0.01μmよりも小さい粒子を使用した場合に
は、滑り性よ耐削れ性の向上効果が不充分であ
り、一方平均粒径が4μmより大きい粒子を使用
した場合には平面平坦性の十分でないフイルムし
か得られない。 平均粒径は好ましくは0.05〜3μmの値にある。 ここに言う平均粒径とは、ストークスの式に基
づいて算出された等価球径粒度分布の積算50%点
における径であると理解される。 本発明で用いるシリコン樹脂微粒子は、例え
ば、下記式 RSi(OR′)3 ここで、Rは炭素数1〜7の炭化水素基であ
り、そしてR′は低級アルキル基である で表わされるトリアルコキシシランまたはこの部
分加水分解縮合物を、アンモニアあるいはメチル
アミン、ジメチルアミン、エチレンジアミン等の
如きアミンの存在下、撹拌下に、加水分解および
縮合せしめることによつて製造できる。上記出発
原料を使用する上記方法によれば、上記式(A−)
1で表わされる組成を持つシリコン樹脂粒子を製
造することができる。 また、上記方法において、例えば下記式 R2Ri(OR′)2 ここで、RおよびR′の定義は上記に同じであ
る で表わされるジアルコキシシラを上記トリアルコ
キシシランと一緒に併用し、上記方法に従えば、
上記式(A−)2で表わされる組名を持つシリコン
樹脂粒子を製造することができる。 本発明で用いるシリコン樹脂微粒子は、下記式 γ=D25/D75 ……(C) ここで、γは粒径比であり、D25は粒子の積算
重量が全体の重量の25%であるときの粒径であ
り、そしてD75は微粒子の積算重量が全体の重量
の75%であるときの粒径である、但し積算重量の
割合は大きい粒径の方から測定するものとする。 で表わされる粒径比(γ)が好ましくは1〜1.4
の範囲にあるものである。この粒径比は更に好ま
しくは1〜1.3の範囲にあり、特に好ましくは1
〜1.15の範囲にある。 本発明において芳香族ポリエステル中に分散含
有させるテレフタル酸金属塩またはアルキレンテ
レフタレート成分を含む金属塩の粒子(以下、金
属塩粒子と言うことがある)()は平均粒径が
0.05〜5μm、好ましくは0.1〜3μm、更に好まし
くは0.3〜2μmである。この平均粒子が0.05μm未
満では、滑り性や、耐削れ性の向上効果が不充分
であり、好ましくない。また平均粒径が5μmを
超えるとフイルム表面が粗れすぎて、好ましくな
い。 かかる金属塩粒子()の具体例としては、 等を例示できる。金属塩粒子を形成する金属とし
ては、アルカリ金属アルカリ土類等が好ましく例
示される。金属塩粒子()は、その製法によつ
て限定されることはない。代表例としては、テレ
フタル酸カルシウム粒子の製造例について述べる
と、塩化カルシウム水溶液にテレフタル酸水溶液
を加えてテレフタル酸カルシウムを析出させ、該
テレフタル酸カルシウムを分離、水洗、乾燥し、
次いで無水のテレフタル酸カルシウムをグリコー
ル例えばエチレングリコール等に分散させてスラ
リーし、更に該スラリーを常法の粒度調整処理例
えば粉砕処理、分級処理等にかけて所定の平均粒
径のテレフタル酸カルシウムを分散させたグリコ
ールスラリーを得ることができる。また、エチレ
ンテレフタレート成分、或はこれとリン成分を含
む金属塩の粒子は内部析出粒子を製造する公知の
方法によつて製造することができるが、この粒子
製造は本発明におけるポリエステルを製造する系
とは別の系で行なう必要がある。 本発明のフイルムを形成する芳香族ポリエステ
ル()とシリコン樹脂微粒子()、及びテレ
フタル酸金属塩又はアルキレンテレフタレート成
分を含む金属塩の粒子()との緊密な混合物
は、該微粒子()を0.005〜2.0重量%(芳香族
ポリエステルに対し)を含有している。該微粒子
()の量が0.005重量%未満では、フイルムの滑
り性や耐削れ性の向上効果が不充分であり、一方
2.0重量%を超えるとフイルムの平坦性が低下す
る。該微粒子()の量は0.01〜0.5重量%(芳
香族ポリエステルに対し)が好ましい。 更に金属塩粒子()の量は0.005〜2.0重量%
(芳香族ポリエステルに対し)とする必要があり、
好ましくは0.01〜1.0重量%、更に好ましくは0.05
〜0.5重量%である。この添加量が0.005重量%未
満では、滑り性や耐削れ性、耐スクラツチ性の向
上効果が不充分となり、一方、2.0重量%を越え
るとフイルムの切断が多発し、好ましくない。 本発明で使用する上記シリコン樹脂微粒子
()は、上記の如く、ポリエステルフイルムに
表面平坦性、滑り性および耐削れ性を付与する。
特に、優れた耐削れ性を与える理由として、本発
明者の研究によれば、該シリコン樹脂微粒子がそ
れが混合されている芳香族ポリエステルと非常に
親和性が大きいことによることが明らかとされ
た。 すなわち、該シリコン樹脂微粒子を含有する本
発明のフイルムの表面をイオンエツチングしてフ
イルム中のシリコン樹脂微粒子を暴露させ、走査
型電子顕微鏡にて表面を観察すると、シリコン樹
脂微粒子の周囲方面が芳香族ポリエステル基質と
実質的に接触している状態、換言すれば該周囲表
面と芳香族ポリエステル基質との間にボイドがほ
とんどあるいは全く看られない状態が観察される
のである。 本発明のフイルムは、上記のようにして、走査
型電子顕微鏡にて、40個の微粒子周辺を観察する
と、その16個(40%)以上が上記ボイドを有さな
いものが実質的に全てを占め、20個(50%)以上
が上記ボイドを有さないものはその大部分であ
り、さらに24個(60%)以上が上記ボイドを有さ
ないものは主たる割合を占める。 また、本発明のフイルムの上記シリコン樹脂微
粒子が芳香族ポリエステル基質と大きい親和性を
有することを、別の尺度である後に定義するボイ
ド比(粒子の長径対ボイドの長径の比)で評価す
ると、本発明のフイルムはボイド比が1.0〜1.1で
あるものが実質的に全てであり、さらに1.0〜
1.08であるものはその大部分であり、さらに1.0
〜1.05であるものはその主たる部分を占めること
が明らかとなつた。 ボイドが少なく、そしてボイド比が1.0に近い
本発明の二軸配向ポリエステルフイムは特に耐削
れ性に優れている。特に、高倍率に延伸され、ヤ
ング率が高められた高強力ポリエステルフイルム
についてもボイドがほとんどないものがある。こ
のことはシリコン樹脂微粒子と芳香族ポリエステ
ルの接着が優れていることを表わしている。 一般的に芳香族ポリエステルと不活性粒子(滑
剤)とは親和性がない。このため溶融製膜したポ
リエテル未延伸フイルムを二軸延伸すると、該微
粒子と芳香族ポリエステルの境界に剥離が生じ、
該微粒子の囲りにボイドが形成されるのが普通で
ある。このボイドは、微粒子が大きいほど、形状
が球形に近いほど、また微粒子が単一粒子が変形
しにくいほど、そしてまた未延伸フイルムを延伸
する際に延伸面積倍率が大きいほど、また低温で
行うほど大きくなる傾向がある。このボイドは、
大きくなればなる程突起の形状がゆるやかな形と
なるので摩擦係数を高くすることとにより、それ
と共に繰り返し使用時に生じた二軸配向ポリエス
テルフイルムのボイドの脱落を起し、耐久性を低
下させる、また削れ粉発生の原因となつている。 このような従来の無機不活性滑剤の場合には、
該滑剤周辺のボイド量は、かなり大きく、高強力
ポリエステルフイルムにおいてはこのボイドは更
に大きくなり、その結果磁気テープのカレンダー
工程等、加工工程で耐削れ性が劣るのが常であ
る。 本発明で用いる上記シリコン樹脂微粒子は上記
の如く芳香族ポリエステル基質と親和性が大き
く、このため粒子周辺にボイドが発生する頻度が
少ない。そのため、粒子が大きくなるにつれて一
般に大きくなるボイドを発生する頻度を、上記シ
リコン樹脂微粒子を使用する場合には小さく抑え
ることができるため、本発明によれば比較的大粒
子としてシリコン樹脂微粒子を用い、それと一緒
にボイドの発生する割合が少ないテレフタル酸金
属塩又はアルキレンテレフタレート成分を含む金
属塩の粒子を併用するから、2種類の粒子を用い
る利点を有しつつ、走行性、耐摩耗性、耐疲労
性、電気絶縁性および透明性に優れたフイルムを
提供しうる。更に、その粒径分布が極めてシヤー
プであるシリコン樹脂微粒子の使用によりポリエ
ステルフイルムの表面に形成された突起の分布は
極めて均一性が高く、突起の高さのそろつたポリ
エステルフイルムを提供し得る。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムを製造
する際に、シリコン樹脂微粒子及び金属塩粒子を
芳香族ポリエステルと緊密に混合するにはこれら
の微粒子を、芳香族ポリエステルの重合前又は重
合中に重合釜中で、重合終了後ペレタイズすると
き押出機中で、あるいはシート状に溶融押出しす
る際押出機中で、該芳香族ポリエステルと十分に
混練すればよい。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、例
えば、融点(Tm:℃)ないし(Tm+70)℃の
温度で芳香族ポリエステルを溶押して固有粘度
0.35〜0.9dl/gの未延伸フイルムを得、該未延伸
フイルムを一軸方向(縦方向又は横方向)に
(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(但し、Tg:
芳香族ポリエスルのガラス転移温度)で2.5〜5.0
倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直角方
向(一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸
は横方向となる)にTg(℃)−(Tg+70)℃の温
度で2.5〜5.0倍の倍率で延伸することで製造でき
る。この場合、面積延伸倍率は9〜22倍、更には
12〜22倍にするのが好ましい。延伸手段は同時二
軸延伸、逐次二軸延伸のいずれでも良い。 更に、二軸配向フイルムは、(Tg+70)℃〜
Tm(℃)の温度で熱固定することができる。例
えばポリエチレンテレフタレートフイルムについ
ては190〜230℃で熱固定することが好ましい。熱
固定時間は例えば1〜60秒である。 ポリエステルフイルムの厚みは、1〜100μm、
更には1〜50μm、特に1〜25μmが好ましい。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、走
行時の摩擦係数が小さく、操作性が大変良好であ
る。またこのフイルムを磁気テープのベースとし
て用いると、磁気記録再生装置(ハードウエア)
の走行部分との接触摩擦によるベースフイルムの
削れが極めて少なく、耐久性が良好である。 更に、本発明の二軸配向ポリエステルフイルム
はフイルム形成時において巻き性が良好であり、
かつ巻き皺が発生しにくく、その上スリツト段階
において寸法安定的にシヤープに切断されるとい
う長所がある。 以上のフイルム製品としての長所と、フイルム
形成時の長所との組合せによつて、本発明のフイ
ルムは、特に、高級グレードの磁気用用途分野の
ベースフイルムとして極めて有用であり、またそ
の製造も容易で安定に生産できる利点を持つ。本
発明の二軸配向ポリエステルフイルムは高級グレ
ードの磁気記録媒体例えばマイクロ記録材、コン
パクト化あるいは高密度化したフロツピーデイス
ク製品、オーデイオ及びビデオ等の長時間録画用
の超薄物、高密度記録磁気フイルム、高品質画像
記録再生用の磁気記録フイルム例えばメタルや蒸
着磁気記録材等のベースフイルムとして好適であ
る。 それ故、本発明によれば、上記本発明の二軸配
向ポリエステルフイルムの片側又は両面に磁性層
を設けた磁気記録媒体が同様に提供される。 磁性層および磁性層をベースフイルム上に設け
る方法はそれ自体公知であり、本発明においても
公知の磁性層およびそれを設ける方法を採用する
ことができる。 例えば磁性層をベースフイルム上に磁性塗料を
塗布する方法によつて設ける場合には、磁性層に
用いられる強磁性粉体としてγ−Fe2O3、Co含有
のγ−Fe3O4、Co含有のFe3O4、CrO2、バリウム
フエライド等、公知の強磁性体が使用できる。 磁性粉体と共に使用されるバインダーとして
は、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂又はこれらの混合物である。これらの樹脂し
ては例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポ
リウレタンエラストマー等があげられる。 磁性塗料は、さらに研磨剤(例えばα−Al2O3
等)、導電剤(例えばカーボンブラツク等)、分散
剤(例えばレシチン等)、潤滑剤(例えばn−ブ
チルステアレート、レシチン酸等)、硬化剤(例
えばエポキシ樹脂等)及び溶媒(例えばメチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン
等)等を含有することができる。 磁性層を、ベースフイルム上に金属薄膜を形成
させる方法によつて設ける場合には、それ自体公
知の真空蒸着法、スパツタ法、イオンプレーテイ
ング法、C.V.D(Chemical Vapour Depsition)
法、無電解メツキ法等の方法を採用することがで
きる。金属として鉄、コバルト、ニツケル、およ
びそれらの合金(例えばCo−Ni合金、Co−Ni−
Fe合金、Co−Cr合金、Co−N合金等があげられ
る。 本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、上
述の磁気記録媒体の他に種々の用途に用いること
ができる。例えば、コンデンサー用、包装用、蒸
着用等の用途に有用である。 なお本発明における種々の物性値および特性は
以下の如くして測定されたものであり且つ定義さ
れる。 (1) 粒子の平均粒径(DP) 島津製作所製CP−50型セントリフユグルパ
ーテイクル サイズ アナライザー
(Centrifugal Particle Size Analyser)を用
いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算
出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線
から、50マスパーセントに相当する粒径を読み
取り、この値を上記平均粒径とする(Book「粒
度測定技術」日刊工業新聞社発行、1975年、
頁、242〜247参照)。 (2) 粒子の粒度の分布(γ) 粒子の平均粒径の測定において得られた遠心
沈降曲線を基に、各粒径の粒子とその存在量と
の積算曲線を算出して描き、粒径の大きい方か
ら積算した粒子の積算重量が25マスパーセント
に相当する粒径(D25)と、粒子の積算重量が
75マスパーセントに相当する粒径(D75)を読
みとり、前者の値を後者の値で除し(D25/
D75)、各々の粒子の粒度分布比(γ)を算出
する。 (3) フイルムの走行摩擦係数(μk) 第1図に示した装置を用いて下記のようにし
て測定する。第1図中、1は巻出しリール、2
はテンシヨンコントローラ、3,5,6,8,
9および11はフリーローラー、4はテンシヨ
ン検出機(入口)、7はステンレス網SUS304
製の固定棒(外径5mmφ)、10はテンシヨン
検出機(出口)、12はガイドオーラー、13
は巻取りリールをそれぞれ示す。 温度20℃、湿度60%の環境で、巾1/2インチ
に裁断したフイルムを7の固定棒(表面粗さ
0.3μm)に角度θ=(152/181)πラジアン
(152°)で接触させて毎分200cmの速さで移動
(摩擦)させる。入口テンシヨンT1が35gとな
るようにテンシヨンコントローラー2を調整し
た時の出口テンシヨン(T2:g)をフイルム
が90m走行したのちに出口テンシヨン検出機で
検出し、次式で走行摩耗係数μkを算出する。 μk=(2.303/θ)log(T2/T1) =0.868log(T2/35) (4) フイルム表面の平坦性 CLA(Center Line Averag:中心線平坦粗
さ)をJIS B 0601に準じて測定する。東京精
密社(株)製の触針式表面粗さ計
(SURFCOM3B)を用いて、針の半径2μ、荷
重0.07gの条件下にチヤート(フイルム表面粗
さ曲線)をかかせ、得られるフイルム表面粗さ
曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分
を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸
として、縦倍率の方向をY軸として、粗さ曲線
Y=f(x)で表わしたとき、次の式で与えられる
値(Ra:μm)をフイルム表面の平坦性とし
て定義する。 Ra=I/L∫L p|f(x)|dx 本発明では、基準長を0.25mmとして8個測定
し、値の大きい方から3個除いた5個の平均値
としてRaを表わす。 (5) 削れ性 ベースフイルムの走行面の削れ性を5段をミ
ニスーパーカレンダーを使用して評価する。カ
レンダーはナイロンロールとスチールロールの
5段カレンダーであり、処理温度は80℃、フイ
ルムにかかる線圧は200Kg/cm、フイルムスピ
ードは50m/分で、フイルムを全長2000m走行
させた時点でカレンダーのトツプローラーに付
着する汚れで、ベースフイルムの削れ性を評価
する。 <5段階判定> ◎ ナイロンロールの汚れ全くなし ○ ナイロンロールの汚れはほとんどなし × ナイロンロールが汚れる ×× ナイロンオールがひどく汚れる (6) ボイド比 試料フイルム小片を走査型電子顕微鏡用試料
台に固定し、日本電子(株)製スパツタリング装置
(JFC−1100型イオンスパツターリング装置)
を用いて、フイルム表面を下記条件にてイオン
エツチング処理を施す。ベンジヤー内に上記試
料台を設置し、約10-3Torrの真空状態まで真
空度を上げ電圧0.25kV、電流12.5mAにて約10
分間イオンエツチングを実施する。更に同装置
にてフイルム表面に金スパツターを施し、約
200Å程度の金薄膜層を形成し、走査型電子顕
微鏡を用いて例えば1万〜3万倍の倍率にて測
定を行う。尚、ボイドは粒径0.3μm以上の滑剤
につてのみ測定を行なう。 (7) 固有粘度[η] o−クロロフエノールを溶媒として用い、35
℃で測定した値、単位は100c.c./gである。 (8) 体積形状係数(f) 走査型電子顕微鏡により粒子の写真を例えば
5000倍で10視野撮影し、例えば画素解析処理装
置ルーゼツクス500(日本レギユレーター製)を
用い、最大径の平均値を各視野毎に測定し、更
に、10視野の平均値を求め、Dとする。 測定法の上記1項で求めた、粒子の平均粒径
dより、粒子の平均体積{V=(π/6)d3}
を求め、形状係数fを次式により算出する。 f=v/D3 式中、vは粒子1個当りの平均体積(μm3)
Dは粒子の平均最大粒径(μm)を表わす。 [実施例] 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。 比較例 1〜9 ジメチルエテレフタレートとエチレングリコー
ルとを、エステル交換触媒として酢酸マンガン
を、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、更に滑剤として第1表に示す添
加粒子を添加して、常法により重合し、固有粘度
(オルソクロロフエノール、35℃)0.62のポリエ
チレンテレフタレートを得た。 このポリエチレンテレフタレートのペレツトを
170℃で3時間乾燥押出機ホツパーに供給し、溶
融温度280〜300℃で溶融し、この溶融ポリマーを
1mmのスリツト状ダイを通して表面仕上げ0.3s程
度、表面温度20℃の回転冷却ドラム上に押出し、
200μmの未延伸フイルムを得た。 このようにして得られた未延伸フイルムを75℃
にて予熱し、更に低速、高速のロール間で15mm上
方より900℃の表面温度の1Rヒーター1本にて加
熱して3.6倍に延伸し、急冷し、続いてステンタ
ーに供給し、105℃にて横方向に3.7倍に延伸し
た。得られた二軸配向フイルムを205℃の温度で
5秒熱固定し、厚み15μmの熱固定二軸配向フイ
ルムを得た。 このフイルムの特性を第1表に示す。 なお、ここで用いたテレフタル酸カルシウム粒
子は次の方法で調製した。 10wt%の塩化カルシウム水溶液中に5wt%のテ
レフタル酸ナトリウム水溶液を加えてテレフタル
酸カルシウムの白色沈澱物を生成させた。このテ
レフタル酸カルシウムを分離、水洗後200℃で加
熱し、無水塩とした。このテレフタル酸カルシウ
ム無水塩をボールミルで粉砕後、エチレングリコ
ールに分散させてスラリーとし、次いで分級し、
所定の粒径のテレフタル酸カルシウムグリコール
スラリーを得た。
【表】
【表】
実施例 1〜8
滑剤として第2表に示す2種の添加粒子を用い
る以外は比較例1〜9と同様に行つて二軸配向ポ
リエステルフイルムを得た。 これらのフイルムの特性を第2表に示すが、こ
れらフイルムは耐削れ製、走行性、耐スクラツチ
性に優れている。
る以外は比較例1〜9と同様に行つて二軸配向ポ
リエステルフイルムを得た。 これらのフイルムの特性を第2表に示すが、こ
れらフイルムは耐削れ製、走行性、耐スクラツチ
性に優れている。
【表】
第1図はフイルムの摩擦係数(μk)を測定す
る装置の概略図である。第1図中、4はテンシヨ
ン検出機(入口)、10はテンシヨン検出機(出
口)である。
る装置の概略図である。第1図中、4はテンシヨ
ン検出機(入口)、10はテンシヨン検出機(出
口)である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 () 芳香族ポリエステル、 () (a) 下記式(A) RxSiO2-(x/2) ……(A) ここで、Rは炭素数1〜7の炭化水素基で
あり、そしてxは1〜1.2の数である で表わされる組成を有し、 (b) 下記式(B) f=v/D3 ……(B) ここで、vは粒子1個当りの平均体積(μ
m3)であり、そしてDは粒子の平均最大粒径
(μm)である で定義される体積形状係数(f)が0.4より大きくそ
してπ/6以下であり、そして (c) 0.01〜4μmの平均粒径を有するシリコン樹
脂微粒子0.005〜2.0重量%(対芳香族ポリエ
ステル)、及び () 0.05〜5μmの平均粒径を有する、テレフ
タル酸金属塩またはアルキレンテレフタレート
成分を含む金属塩の粒子0.005〜2.0重量%(対
芳香族ポリエステル) を緊密混合した組成物から成る二軸配向ポリエス
テルフイルム。 2 芳香族ポリエステルが芳香族ジカルボン酸を
主たる酸成分とし、そして脂肪族グリコールを主
たるグリコール成分として成る特許請求の範囲第
1項記載のフイルム。 3 上記式(A)において、Rが炭素数1〜7の直鎖
もしくは分岐鎖状のアルキル基、フエニル基又は
トリル基である特許請求の範囲第1項記載のフイ
ルム。 4 上記シリコン樹脂微粒子が下記式(C) γ=D25/D75 ……(C) ここで、D25は粒子の積算重量が25%のときの
平均粒径(μm)あり、そしてD75は粒子の積算
重量が75%のときの平均粒径(μm)である で定義される粒度分布比(γ)として1〜1.4の
間の値を有する特許請求の範囲第1項記載のフイ
ルム。 5 フイルム表面をイオンエツチングした後電子
顕微鏡で観察したとき、シリコン樹脂微粒子の周
囲表面が芳香族ポリエステル基質と実質的に接触
している特許請求の範囲第1項のフイルム。 6 粒子()がテレフタル酸カルシウムである
特許請求の範囲第1項記載のフイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12847187A JPS63295642A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | 二軸配向ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12847187A JPS63295642A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | 二軸配向ポリエステルフイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63295642A JPS63295642A (ja) | 1988-12-02 |
| JPH0458820B2 true JPH0458820B2 (ja) | 1992-09-18 |
Family
ID=14985548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12847187A Granted JPS63295642A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | 二軸配向ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63295642A (ja) |
-
1987
- 1987-05-27 JP JP12847187A patent/JPS63295642A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63295642A (ja) | 1988-12-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |