JPH05194426A - 2−フルオロピラジン、その製造方法及び液晶混合物へのその使用 - Google Patents
2−フルオロピラジン、その製造方法及び液晶混合物へのその使用Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶混合物中に少量添加することによって、
望ましい液晶相系列と短い応答時間を有する液晶混合物
を製造しうる化合物を提供すること。 【構成】 下記の式(I): 【化1】 [式中、記号は次の意味を有する:R1とR2は互いに独
立に、例えば、H又は炭素数1〜16のアルキル基であ
る;A1、A2、A3及びA4は同一もしくは異なる基であ
り、例えば、1,4−フェニレン、ピリミジン−2,5
−ジイル、又は1,4−シクロヘキシレンである;
M1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、例え
ば、−O−、−COO−、−CH2−O−又は−O−C
H2−である;M5は、例えば、−CH2O−又は−CO
O−である;R3とR4は互いに独立に、例えば、H又は
炭素数1〜10の直鎖アルキル基である]で示される、
2−フルオロピラジン類。
望ましい液晶相系列と短い応答時間を有する液晶混合物
を製造しうる化合物を提供すること。 【構成】 下記の式(I): 【化1】 [式中、記号は次の意味を有する:R1とR2は互いに独
立に、例えば、H又は炭素数1〜16のアルキル基であ
る;A1、A2、A3及びA4は同一もしくは異なる基であ
り、例えば、1,4−フェニレン、ピリミジン−2,5
−ジイル、又は1,4−シクロヘキシレンである;
M1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、例え
ば、−O−、−COO−、−CH2−O−又は−O−C
H2−である;M5は、例えば、−CH2O−又は−CO
O−である;R3とR4は互いに独立に、例えば、H又は
炭素数1〜10の直鎖アルキル基である]で示される、
2−フルオロピラジン類。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は2−フルオロピラジン、
その製造方法及び液晶混合物へのその使用に関する。
その製造方法及び液晶混合物へのその使用に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶の異方性と流体挙動との異常な組合
せは液晶の電気光学的切り換え及びディスプレイ装置へ
の使用を生じており、この装置では液晶の電気的、磁気
的、弾性的及び/又は熱的性質を利用して、配向を変化
させている。光学的効果は例えば複屈折、又は二色吸収
する(「ゲスト・ホスト・モード」)色素分子の介在、
又は光散乱によって得ることができる。
せは液晶の電気光学的切り換え及びディスプレイ装置へ
の使用を生じており、この装置では液晶の電気的、磁気
的、弾性的及び/又は熱的性質を利用して、配向を変化
させている。光学的効果は例えば複屈折、又は二色吸収
する(「ゲスト・ホスト・モード」)色素分子の介在、
又は光散乱によって得ることができる。
【0003】種々な用途分野における絶えず増大する実
用上の要求を満足させるために、新規な改良された液晶
混合物と、種々な構造の多数のメソゲニック(meso
genic)化合物も絶えず必要とされている。このこ
とはネマチック液晶相を用いる分野とスメクチック液晶
相を用いる分野との両方においてあてはまる。
用上の要求を満足させるために、新規な改良された液晶
混合物と、種々な構造の多数のメソゲニック(meso
genic)化合物も絶えず必要とされている。このこ
とはネマチック液晶相を用いる分野とスメクチック液晶
相を用いる分野との両方においてあてはまる。
【0004】最近の数年間では、強誘電性液晶混合物
(FLC混合物)がかなり注目されている(例えば、L
agerwall等、「Ferroelectric
Liquid−Crystals for Displ
ays」、SIDシンポジウム、1985年10月会
合、米国、カリフォルニア州サンジエゴを参照のこ
と)。電気光学的ディスプレイに強誘電性液晶を実際に
用いるためには、例えばSC* 相のような、広い温度範
囲にわたって安定であるキラル傾斜スメクチック相が必
要とされる[R.B.Meyer、L.Lieber
t、L.Strzelecki及びP.Keller、
J.Physique36、L−69(1975)を参
照のこと]。この目的はそれ自体がこのような相、例え
ばSC*相を形成する化合物を用いて、又は光学的に活
性な化合物と共に非キラル傾斜スメクチック相を形成す
る化合物をドーピング剤として加えることによって達成
される[M.Brunet、C.Williams、A
nn.Phys.3、237(1978)]。
(FLC混合物)がかなり注目されている(例えば、L
agerwall等、「Ferroelectric
Liquid−Crystals for Displ
ays」、SIDシンポジウム、1985年10月会
合、米国、カリフォルニア州サンジエゴを参照のこ
と)。電気光学的ディスプレイに強誘電性液晶を実際に
用いるためには、例えばSC* 相のような、広い温度範
囲にわたって安定であるキラル傾斜スメクチック相が必
要とされる[R.B.Meyer、L.Lieber
t、L.Strzelecki及びP.Keller、
J.Physique36、L−69(1975)を参
照のこと]。この目的はそれ自体がこのような相、例え
ばSC*相を形成する化合物を用いて、又は光学的に活
性な化合物と共に非キラル傾斜スメクチック相を形成す
る化合物をドーピング剤として加えることによって達成
される[M.Brunet、C.Williams、A
nn.Phys.3、237(1978)]。
【0005】強誘電性液晶混合物を電気光学的要素に用
いる場合には、高いコントラスト比を得るために液晶の
均一な平面配向が必要である。液晶混合物の相系列が温
度の低下に伴って等方性→ネマチック→スメクチックA
→スメクチックCである場合に、Sc相における均一な
平面配向が達成されることが判明している[例えば、
K.Flatischler等、Mol.Cryst.
Liq.Cryst.131、21(1985);T.
Matsumoto等、第6回国際ディスプレイ研究会
議の会報、468−470頁、日本ディスプレイ、19
86年9月3日〜10月3日、日本、東京;M.Mul
akami等、同文献、344−347頁を参照のこ
と]。
いる場合には、高いコントラスト比を得るために液晶の
均一な平面配向が必要である。液晶混合物の相系列が温
度の低下に伴って等方性→ネマチック→スメクチックA
→スメクチックCである場合に、Sc相における均一な
平面配向が達成されることが判明している[例えば、
K.Flatischler等、Mol.Cryst.
Liq.Cryst.131、21(1985);T.
Matsumoto等、第6回国際ディスプレイ研究会
議の会報、468−470頁、日本ディスプレイ、19
86年9月3日〜10月3日、日本、東京;M.Mul
akami等、同文献、344−347頁を参照のこ
と]。
【0006】強誘電性(キラル スメクチック)液晶混
合物に関しては、SC*相における螺旋ピッチが大き
い、すなわち5μmより大きく、N*相における螺旋ピ
ッチが非常に大きい、すなわち10μmより大きい又は
無限であるという条件が満たされることがさらに必要で
ある。
合物に関しては、SC*相における螺旋ピッチが大き
い、すなわち5μmより大きく、N*相における螺旋ピ
ッチが非常に大きい、すなわち10μmより大きい又は
無限であるという条件が満たされることがさらに必要で
ある。
【0007】できるだけ短い時間であるべきである、強
誘電性液晶系の光学的応答時間γ[μs]は系の回転粘
度γ[mPas]、自発分極Ps[nC/cm2]及び電
界強度E[V/m]に依存し、次の式に従う。
誘電性液晶系の光学的応答時間γ[μs]は系の回転粘
度γ[mPas]、自発分極Ps[nC/cm2]及び電
界強度E[V/m]に依存し、次の式に従う。
【0008】
【化12】 に従って依存する。
【0009】電界強度Eは電気光学的要素内の電極間距
離によって及び供給電圧によって決定されるので、短い
応答時間を得るために、強誘電性ディスプレイ媒質は低
い粘度と高い自発分極とを有するものでなければならな
い。
離によって及び供給電圧によって決定されるので、短い
応答時間を得るために、強誘電性ディスプレイ媒質は低
い粘度と高い自発分極とを有するものでなければならな
い。
【0010】最後に、熱的、化学的及び光化学的安定性
の他に、好ましくは0.13の低い光学的異方性△n
と、低い正の又は好ましくは負の誘電異方性△εとが必
要である(S.T.Lagerwall等、「Ferr
oelectric Liquid−Crystals
for Displays」、SIDシンポジウム、
1985年10月会合、米国、カリフォルニア州サンジ
エゴを参照のこと)。
の他に、好ましくは0.13の低い光学的異方性△n
と、低い正の又は好ましくは負の誘電異方性△εとが必
要である(S.T.Lagerwall等、「Ferr
oelectric Liquid−Crystals
for Displays」、SIDシンポジウム、
1985年10月会合、米国、カリフォルニア州サンジ
エゴを参照のこと)。
【0011】一般には、2成分以上の混合物を用いた場
合にのみ、これらの条件を全て一緒に満たすことができ
る。ここで用いるベース(又はマトリックス)は好まし
くは、できるかぎりそれ自体が既に好ましい相系列I→
N→SA→SCを有する化合物からなる。融点を低下さ
せ、SCと通常はN相の温度範囲をも拡大させ、光学的
活性を誘導するために、ピッチを相補し、かつ、光学的
異方性と誘電異方性とを釣り合わせるために、混合物の
他の成分がしばしば加えられるが、可能であるならば、
例えば回転粘度は高めるべきではない。
合にのみ、これらの条件を全て一緒に満たすことができ
る。ここで用いるベース(又はマトリックス)は好まし
くは、できるかぎりそれ自体が既に好ましい相系列I→
N→SA→SCを有する化合物からなる。融点を低下さ
せ、SCと通常はN相の温度範囲をも拡大させ、光学的
活性を誘導するために、ピッチを相補し、かつ、光学的
異方性と誘電異方性とを釣り合わせるために、混合物の
他の成分がしばしば加えられるが、可能であるならば、
例えば回転粘度は高めるべきではない。
【0012】これらの成分の一部及びある種の混合物も
先行技術から既に公知である。しかし、特に強誘電性液
晶混合物の開発は完成とは決して見なすことができない
ので、ディスプレイの製造業者は、一部は液晶混合物と
ディスプレイ装置又はセルの個々の成分(例えば配向
膜)との相互作用のみがさらに液晶混合物の性質に関す
る結論の引き出しを可能にするという理由からも、種々
の混合物に関心を持っている。
先行技術から既に公知である。しかし、特に強誘電性液
晶混合物の開発は完成とは決して見なすことができない
ので、ディスプレイの製造業者は、一部は液晶混合物と
ディスプレイ装置又はセルの個々の成分(例えば配向
膜)との相互作用のみがさらに液晶混合物の性質に関す
る結論の引き出しを可能にするという理由からも、種々
の混合物に関心を持っている。
【0013】ヨーロッパ特許第B0158137号は、
一般に化合物として、また混合物成分として4−フルオ
ロピリミジン類を述べている。一般に、これらはスメク
チック相形成の傾向を、有するとしても、ごく僅かに有
するにすぎない。
一般に化合物として、また混合物成分として4−フルオ
ロピリミジン類を述べている。一般に、これらはスメク
チック相形成の傾向を、有するとしても、ごく僅かに有
するにすぎない。
【0014】ドイツ特許第A4029165号及びドイ
ツ特許第A4030582号は4−フルオロピリミジン
類を強誘電性液晶混合物の成分として述べている。
ツ特許第A4030582号は4−フルオロピリミジン
類を強誘電性液晶混合物の成分として述べている。
【0015】さらに、モノ−及びジフルオロフェニル化
合物が液晶混合物の成分として使用可能であることが公
知である[日本特許第A2169−537号;V.Re
iffenrath、第12回国際液晶会議、フライブ
ルグ、1988年8月15−19日]。しかし、これら
の化合物の一部はSC相を有さない。さらに、フルオロ
ホビック(fluorophobic)相互作用は構造
的に異なる混合物成分、例えばフェニルピリミジンとの
混和性問題をしばしば生ずる。
合物が液晶混合物の成分として使用可能であることが公
知である[日本特許第A2169−537号;V.Re
iffenrath、第12回国際液晶会議、フライブ
ルグ、1988年8月15−19日]。しかし、これら
の化合物の一部はSC相を有さない。さらに、フルオロ
ホビック(fluorophobic)相互作用は構造
的に異なる混合物成分、例えばフェニルピリミジンとの
混和性問題をしばしば生ずる。
【0016】ピラジン誘導体は同様に液晶挙動を示し、
SC相を形成する[D.Demus、H.Demus、
H.Zachke、Fluessige Krista
lle in Tabelle(Liquid cry
stals in Tables)、VEB Deut
scher Verlag fuer Grundst
offindustrie、ライプチッヒ、1974;
日本特許61/129、171−A]。しかし、これら
の化合物中にしばしば生ずるSB相と高い相転移温度と
は液晶混合物へのこれらの化合物の使用を妨げている。
SC相を形成する[D.Demus、H.Demus、
H.Zachke、Fluessige Krista
lle in Tabelle(Liquid cry
stals in Tables)、VEB Deut
scher Verlag fuer Grundst
offindustrie、ライプチッヒ、1974;
日本特許61/129、171−A]。しかし、これら
の化合物中にしばしば生ずるSB相と高い相転移温度と
は液晶混合物へのこれらの化合物の使用を妨げている。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明は、新規な2−フ
ルオロピラジン誘導体と、特に強誘電性混合物用の液晶
混合物の成分としてのそれらの使用とに関し、液晶混合
物の成分として用いられる、式(I)で表わされる少な
くとも1種の2−フルオロピラジンに関する。
ルオロピラジン誘導体と、特に強誘電性混合物用の液晶
混合物の成分としてのそれらの使用とに関し、液晶混合
物の成分として用いられる、式(I)で表わされる少な
くとも1種の2−フルオロピラジンに関する。
【0018】
【化13】 この式中の記号は次の意味を有する:R1とR2は互いに
独立に、H、F、Cl、CN、NCS、−CF3、−O
CF3、−OCHF2又は炭素数1〜6の直鎖もしくは分
枝鎖アルキル基(不斉炭素原子を有する又は有さない)
であり、1個又は2個の非隣接−CH2−基をそれぞ
れ、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−
CO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O
−、−CH=CH−、−C≡C−、
独立に、H、F、Cl、CN、NCS、−CF3、−O
CF3、−OCHF2又は炭素数1〜6の直鎖もしくは分
枝鎖アルキル基(不斉炭素原子を有する又は有さない)
であり、1個又は2個の非隣接−CH2−基をそれぞ
れ、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−
CO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O
−、−CH=CH−、−C≡C−、
【化14】 又は−Si(CH3)2−によって置換することも可能で
あり、アルキルラジカルの1個以上の水素原子をそれぞ
れ、F、Cl、Br及び/又はCN、又は下記キラル
基:
あり、アルキルラジカルの1個以上の水素原子をそれぞ
れ、F、Cl、Br及び/又はCN、又は下記キラル
基:
【化15】 の一つによって置換することも可能である;A1、A2、
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子の
1個又は2個をF、Cl及び/又はCNによって置換す
ることができる、1,4−フェニレン、ピラジン−2,
5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイル、ピリジン−
2,5−ジイルもしくはピリミジン−2,5−ジイルで
あるか、又は水素原子の1個もしくは2個をCN及び/
又はCH3によって置換することのできる、トランス−
1,4−シクロヘキシレンであるか、又は1,3,4−
チアジアゾール−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン
−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、ビシ
クロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイルもしくは
1,3−ジオキサボリナン−2,5−ジイルである;M
1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、−O
−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、
−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−C
H2−O−、−O−CH2−、−CH2−CH2−,−CH
=CH−又は−C≡C−である;R3、R4、R6及びR7
は、互いに独立に、H又は炭素数1〜16の直鎖もしく
は分枝鎖アルキル基である;或いは、R3とR4は、ジオ
キソラン系に置換基として結合する場合には、一緒にな
って−(CH2)4−又は−(CH2)5−を形成する;M
5は−CH2−O−、−CO−O−、−O−CH2−、−
O−CO−又は単結合である;k、l、m、n、o、
p、q及びrは零又は1である、但しk+m+p+rの
合計は零より大きく、4未満である。
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子の
1個又は2個をF、Cl及び/又はCNによって置換す
ることができる、1,4−フェニレン、ピラジン−2,
5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイル、ピリジン−
2,5−ジイルもしくはピリミジン−2,5−ジイルで
あるか、又は水素原子の1個もしくは2個をCN及び/
又はCH3によって置換することのできる、トランス−
1,4−シクロヘキシレンであるか、又は1,3,4−
チアジアゾール−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン
−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、ビシ
クロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイルもしくは
1,3−ジオキサボリナン−2,5−ジイルである;M
1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、−O
−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、
−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−C
H2−O−、−O−CH2−、−CH2−CH2−,−CH
=CH−又は−C≡C−である;R3、R4、R6及びR7
は、互いに独立に、H又は炭素数1〜16の直鎖もしく
は分枝鎖アルキル基である;或いは、R3とR4は、ジオ
キソラン系に置換基として結合する場合には、一緒にな
って−(CH2)4−又は−(CH2)5−を形成する;M
5は−CH2−O−、−CO−O−、−O−CH2−、−
O−CO−又は単結合である;k、l、m、n、o、
p、q及びrは零又は1である、但しk+m+p+rの
合計は零より大きく、4未満である。
【0019】本発明の好ましい実施態様においては、記
号が次の意味を有する:R1とR2は互いに独立に、H、
F、CN、又は炭素数1〜16の直鎖もしくは分枝鎖ア
ルキル基(不斉炭素原子を有する又は有さない)であ
り、−CH2−基を−O−、−S−、−CO−、−CO
−O−、−O−CO−、−O−CO−O−、−CH=C
H−、−C≡C−、
号が次の意味を有する:R1とR2は互いに独立に、H、
F、CN、又は炭素数1〜16の直鎖もしくは分枝鎖ア
ルキル基(不斉炭素原子を有する又は有さない)であ
り、−CH2−基を−O−、−S−、−CO−、−CO
−O−、−O−CO−、−O−CO−O−、−CH=C
H−、−C≡C−、
【化16】 もしくは−Si(CH3)2−又は下記キラル基:
【化17】 の一つによって置換することも可能である;A1、A2、
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子の
1個又は2個をそれぞれFによって置換することができ
る、1,4−フェニレン、ピラジン−2,5−ジイル、
ピリダジン−3,6−ジイル、ピリジン−2,5−ジイ
ルもしくはピリミジン−2,5−ジイルであるか、又は
トランス−1,4−シクロヘキシレン、1,3,4−チ
アジアゾール−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−
ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル又はビシ
クロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイルである;
M1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、−O
−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH2
−O−、−O−CH2−、−CH2−CH2−,−CH=
CH−又は−C≡C−である;R3、R4、R6及びR
7は、互いに独立に、H又は炭素数1〜16の直鎖もし
くは分枝鎖アルキル基である;或いは、R3とR4は、ジ
オキソラン系に置換基として結合する場合には、一緒に
なって−(CH2)4−又は−(CH2)5−を形成する;
M5は−CH2−O−、−CO−O−、−O−CH2−、
−O−CO−又は単結合である。
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子の
1個又は2個をそれぞれFによって置換することができ
る、1,4−フェニレン、ピラジン−2,5−ジイル、
ピリダジン−3,6−ジイル、ピリジン−2,5−ジイ
ルもしくはピリミジン−2,5−ジイルであるか、又は
トランス−1,4−シクロヘキシレン、1,3,4−チ
アジアゾール−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−
ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル又はビシ
クロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイルである;
M1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、−O
−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH2
−O−、−O−CH2−、−CH2−CH2−,−CH=
CH−又は−C≡C−である;R3、R4、R6及びR
7は、互いに独立に、H又は炭素数1〜16の直鎖もし
くは分枝鎖アルキル基である;或いは、R3とR4は、ジ
オキソラン系に置換基として結合する場合には、一緒に
なって−(CH2)4−又は−(CH2)5−を形成する;
M5は−CH2−O−、−CO−O−、−O−CH2−、
−O−CO−又は単結合である。
【0020】記号が次の意味を有する2−フルオロピラ
ジンが特に好ましい:R1とR2は互いに独立に、H、
F、CN、又は炭素数1〜16の直鎖もしくは分枝鎖ア
ルキル基(不斉炭素原子を有する又は有さない)であ
り、−CH2−基を−O−、−CO−、−CO−O−、
−O−CO−、−CH=CH−、
ジンが特に好ましい:R1とR2は互いに独立に、H、
F、CN、又は炭素数1〜16の直鎖もしくは分枝鎖ア
ルキル基(不斉炭素原子を有する又は有さない)であ
り、−CH2−基を−O−、−CO−、−CO−O−、
−O−CO−、−CH=CH−、
【化18】 もしくは−Si(CH3)2−又は下記キラル基:
【化19】 の一つによって置換することも可能である;A1、A2、
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子を
Fによって置換することができる、1,4−フェニレ
ン、ピラジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−
ジイル、ピリジン−2,5−ジイルもしくはピリミジン
−2,5−ジイルであるか、又はトランス−1,4−シ
クロヘキシレン、ナフタレン−2,6−ジイル又は1,
3−ジオキサン−2,5−ジイルである;M1、M2、M
3及びM4は同一又は異なる基であり、−O−、−CO−
O−、−O−CO−、−O−CH2−、−CH2−O−、
−CH2−CH2−又は−CH=CH−である;R3、
R4、R6及びR7は、互いに独立に、H又は炭素数1〜
16の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基である;或いは、
R3とR4は、ジオキソラン系に置換基として結合する場
合には、一緒になって−(CH2)4−又は−(CH2)5
−を形成する;M5は−CH2−O−、−CO−O−、−
O−CH2−、−O−CO−又は単結合である。
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子を
Fによって置換することができる、1,4−フェニレ
ン、ピラジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−
ジイル、ピリジン−2,5−ジイルもしくはピリミジン
−2,5−ジイルであるか、又はトランス−1,4−シ
クロヘキシレン、ナフタレン−2,6−ジイル又は1,
3−ジオキサン−2,5−ジイルである;M1、M2、M
3及びM4は同一又は異なる基であり、−O−、−CO−
O−、−O−CO−、−O−CH2−、−CH2−O−、
−CH2−CH2−又は−CH=CH−である;R3、
R4、R6及びR7は、互いに独立に、H又は炭素数1〜
16の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基である;或いは、
R3とR4は、ジオキソラン系に置換基として結合する場
合には、一緒になって−(CH2)4−又は−(CH2)5
−を形成する;M5は−CH2−O−、−CO−O−、−
O−CH2−、−O−CO−又は単結合である。
【0021】記号が次の意味を有する2−フルオロピラ
ジンが特に好ましい:R1とR2は互いに独立に、H又は
炭素数1〜16のアルキル基であり、−CH2−基を−
O−、又は下記キラル基:
ジンが特に好ましい:R1とR2は互いに独立に、H又は
炭素数1〜16のアルキル基であり、−CH2−基を−
O−、又は下記キラル基:
【化20】 の一つによって置換することも可能である;A1、A2、
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、1,4−フ
ェニレン、ピリミジン−2,5−ジイル、又は1,4−
シクロヘキシレンである;M1、M2、M3及びM4は同一
又は異なる基であり、−O−、−COO−、 −CH2
−O−又は−O−CH2−である;M5は−CH2O−又
は−COO−である;R3とR4は互いに独立に、H又は
炭素数1〜10の直鎖アルキル基である。
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、1,4−フ
ェニレン、ピリミジン−2,5−ジイル、又は1,4−
シクロヘキシレンである;M1、M2、M3及びM4は同一
又は異なる基であり、−O−、−COO−、 −CH2
−O−又は−O−CH2−である;M5は−CH2O−又
は−COO−である;R3とR4は互いに独立に、H又は
炭素数1〜10の直鎖アルキル基である。
【0022】2−フルオロピラジン類は化学的又は光化
学的に安定である。今までに公知のピラジン誘導体(上
記参照)とは対照的に、本発明による化合物は低い相転
移温度を有し、このことが液晶混合物へのそれらの使用
を有利にする。これらの化合物の一部は広いSA相を有
するので、液晶混合物にこれらの化合物を加えることに
よってSA相の範囲を拡大することができる、又はSA相
を発生させることができる。このようにして、セル内で
の混合物の配向能力を改良することができる。広いSA
相はさらに強誘電性液晶混合物のスイッチング角度θ
effを僅かに減ずることができ、その応答速度を高める
ことができる。
学的に安定である。今までに公知のピラジン誘導体(上
記参照)とは対照的に、本発明による化合物は低い相転
移温度を有し、このことが液晶混合物へのそれらの使用
を有利にする。これらの化合物の一部は広いSA相を有
するので、液晶混合物にこれらの化合物を加えることに
よってSA相の範囲を拡大することができる、又はSA相
を発生させることができる。このようにして、セル内で
の混合物の配向能力を改良することができる。広いSA
相はさらに強誘電性液晶混合物のスイッチング角度θ
effを僅かに減ずることができ、その応答速度を高める
ことができる。
【0023】本発明による化合物はSC及びN相を有す
ることもできる。
ることもできる。
【0024】2−フルオロピラジン化合物は多数の他の
液晶、例えばフェニルピリミジン、フェニルピリジン、
フェニルベンゾエート、ナフタレン化合物、ビフェニル
誘導体及びチアジアゾールと組み合わせて、強誘電性液
晶混合物を形成することができる。
液晶、例えばフェニルピリミジン、フェニルピリジン、
フェニルベンゾエート、ナフタレン化合物、ビフェニル
誘導体及びチアジアゾールと組み合わせて、強誘電性液
晶混合物を形成することができる。
【0025】本発明による化合物は、ジフルオロフェニ
ル、フルオロピリジン又はチアジアゾール化合物との混
和にも、これらが同様に大きい負の△εを有するので、
特に適する。切り換え後のディレクタの再緩和(re−
relaxation)がAC電界安定化によって阻止
される混合物をこれに基づいて製造することができる。
ル、フルオロピリジン又はチアジアゾール化合物との混
和にも、これらが同様に大きい負の△εを有するので、
特に適する。切り換え後のディレクタの再緩和(re−
relaxation)がAC電界安定化によって阻止
される混合物をこれに基づいて製造することができる。
【0026】式(I)化合物を含む液晶混合物は、電気
光学的スイッチング及び表示素子(ディスプレイ)への
使用に特に適する。スイッチング及び表示素子(LCデ
ィスプレイ)は特に次の要素:液晶媒質、透明電極によ
って被覆された外側プレート(例えばガラス又はプラス
チック製)、少なくとも1個の配向膜、スペーサー、接
着フレーム、偏光子及び、カラーディスプレイ用には、
薄い着色フィルター層を含む。他の可能な要素は反射防
止層、不働態層、補償層及びバリヤー層、並びに、薄膜
トランジスター(TFT)及び金属−絶縁体−金属(M
IM)要素等の電気的非線形要素である。液晶ディスプ
レイの構造は関連する研究論文に既に詳述されている
[例えば、E.Kaneko、「Liquid Cry
stalTV Displays:Principle
s and Applications of Liq
uid Crystal Displays」、KTK
Scientific Publishers、198
7、12−30頁と163−172頁]。
光学的スイッチング及び表示素子(ディスプレイ)への
使用に特に適する。スイッチング及び表示素子(LCデ
ィスプレイ)は特に次の要素:液晶媒質、透明電極によ
って被覆された外側プレート(例えばガラス又はプラス
チック製)、少なくとも1個の配向膜、スペーサー、接
着フレーム、偏光子及び、カラーディスプレイ用には、
薄い着色フィルター層を含む。他の可能な要素は反射防
止層、不働態層、補償層及びバリヤー層、並びに、薄膜
トランジスター(TFT)及び金属−絶縁体−金属(M
IM)要素等の電気的非線形要素である。液晶ディスプ
レイの構造は関連する研究論文に既に詳述されている
[例えば、E.Kaneko、「Liquid Cry
stalTV Displays:Principle
s and Applications of Liq
uid Crystal Displays」、KTK
Scientific Publishers、198
7、12−30頁と163−172頁]。
【0027】本発明による式(I)化合物は方法1〜4
に示す方法によって製造することができる、この方法に
おいては、2,6−ジクロロピラジン(II)から出発す
る多段階反応において、ピラジン環の3位又は6位に側
鎖R1(−A1)k(−M1)1(−A2)m(−M2)n−及
び−(M3)0−(A3)p−(M4)q−R2を導入する。
に示す方法によって製造することができる、この方法に
おいては、2,6−ジクロロピラジン(II)から出発す
る多段階反応において、ピラジン環の3位又は6位に側
鎖R1(−A1)k(−M1)1(−A2)m(−M2)n−及
び−(M3)0−(A3)p−(M4)q−R2を導入する。
【0028】この工程のための出発化合物は商業的に入
手可能な2,6−ジクロロピラジン(II)であり、これ
は3〜20モル当量、特に5〜10モル当量のフッ化物
試薬、例えばフッ化銀、フッ化ナトリウム、フッ化カリ
ウム又はフッ化セシウムとの、50〜200℃、特に1
00〜150℃の温度における触媒量(1〜20モル
%、特に5〜15モル%)の少なくとも1種の錯化剤、
例えば18−クラウン−6、ジベンゾ−18−クラウン
−6又は1,10−ジアザ−4,7,13,16,2
1,24−ヘキサオキサ−ビシクロ[8.8.8]ヘキ
サコサンを用いる反応によって2,6−ジフルオロピラ
ジン(III)を生ずる。
手可能な2,6−ジクロロピラジン(II)であり、これ
は3〜20モル当量、特に5〜10モル当量のフッ化物
試薬、例えばフッ化銀、フッ化ナトリウム、フッ化カリ
ウム又はフッ化セシウムとの、50〜200℃、特に1
00〜150℃の温度における触媒量(1〜20モル
%、特に5〜15モル%)の少なくとも1種の錯化剤、
例えば18−クラウン−6、ジベンゾ−18−クラウン
−6又は1,10−ジアザ−4,7,13,16,2
1,24−ヘキサオキサ−ビシクロ[8.8.8]ヘキ
サコサンを用いる反応によって2,6−ジフルオロピラ
ジン(III)を生ずる。
【0029】(III)におけるフッ素置換基を、例えば
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオ
キサン、エチレングリコールジエチルエーテル又はジエ
チレングリコールジエチルエーテルのような不活性反応
媒質中での式:Z2=(−M3)0(A3)p(M4)
q(A4)r−R2の基の金属化合物、例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウム又はマグネシウム化合物との−40
〜100℃、特に−10〜70℃の温度における反応に
よって、Z2基によって置換すると、式(V)化合物が生
ずる。
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオ
キサン、エチレングリコールジエチルエーテル又はジエ
チレングリコールジエチルエーテルのような不活性反応
媒質中での式:Z2=(−M3)0(A3)p(M4)
q(A4)r−R2の基の金属化合物、例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウム又はマグネシウム化合物との−40
〜100℃、特に−10〜70℃の温度における反応に
よって、Z2基によって置換すると、式(V)化合物が生
ずる。
【0030】2,6−ジクロロピラジンと1〜3モル当
量、特に1.5〜2.5モル当量のフッ化物試薬との、
50〜200℃、特に100〜150℃の温度及び50
〜300mmHg、特に100〜200mmHgの圧力
における触媒量(1〜20モル%、特に5〜15モル
%)の上記錯化剤の1種を用いる反応は2−クロロ−6
−フルオロピラジン(IV)を生ずる。
量、特に1.5〜2.5モル当量のフッ化物試薬との、
50〜200℃、特に100〜150℃の温度及び50
〜300mmHg、特に100〜200mmHgの圧力
における触媒量(1〜20モル%、特に5〜15モル
%)の上記錯化剤の1種を用いる反応は2−クロロ−6
−フルオロピラジン(IV)を生ずる。
【0031】化合物(IV)とZ2の有機金属誘導体、例
えばグリニヤール、リチウム及び亜鉛誘導体とZ2のホ
ウ酸(boronic acid)との、−40〜20
0℃、特に−10〜100℃の温度での、例えばZ2の
ホウ酸との反応用のベンゼン/エタノール/水及び例え
ばZ2のグリニヤール、リチウム及び亜鉛誘導体との反
応用のジエチルエーテル又はテトラヒドロフランのよう
な反応媒質中での遷移金属触媒、例えばジクロロ[1,
3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル
(II)及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)を用いるクロスカップリングも同様に式
(V)化合物を生じる。
えばグリニヤール、リチウム及び亜鉛誘導体とZ2のホ
ウ酸(boronic acid)との、−40〜20
0℃、特に−10〜100℃の温度での、例えばZ2の
ホウ酸との反応用のベンゼン/エタノール/水及び例え
ばZ2のグリニヤール、リチウム及び亜鉛誘導体との反
応用のジエチルエーテル又はテトラヒドロフランのよう
な反応媒質中での遷移金属触媒、例えばジクロロ[1,
3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル
(II)及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)を用いるクロスカップリングも同様に式
(V)化合物を生じる。
【0032】式(V)の2−フロオロピラジンは、例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はエチレン
グリコールジエチルエーテルのような、不活性な反応媒
質中での−40〜−100℃、特に−60〜−80℃の
温度におけるリチウム化合物例えばアルキルリチウム化
合物又はリチウムアミドによる処理によって、2−フル
オロ−3−リチオピラジンへ転化することができる。式
(VI)の3−リチオピラジンを求電子性化合物と反応さ
せると、式(I)の2−フルオロピラジンが直接又は他
の中間体[式(VII)、(VIII)、(IX)、(X)、(X
I)及び(XII)の化合物]を介して得られる。
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はエチレン
グリコールジエチルエーテルのような、不活性な反応媒
質中での−40〜−100℃、特に−60〜−80℃の
温度におけるリチウム化合物例えばアルキルリチウム化
合物又はリチウムアミドによる処理によって、2−フル
オロ−3−リチオピラジンへ転化することができる。式
(VI)の3−リチオピラジンを求電子性化合物と反応さ
せると、式(I)の2−フルオロピラジンが直接又は他
の中間体[式(VII)、(VIII)、(IX)、(X)、(X
I)及び(XII)の化合物]を介して得られる。
【0033】従って、式(VI)化合物とZ3のニトリ
ル、カルボン酸ハロゲン化物及びホルミルメチル誘導体
との、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又
はエチレングリコールジエチルエーテルのような、不活
性な反応媒質中での−40〜−100℃、特に−60〜
−80℃の温度における反応は直接、式(I)の2−フ
ルオロピラジンを生じる。オレフィン2−フルオロピラ
ジン(I)は文献からそれ自体公知の方法によってオレ
フィン系二重結合の水素化によって、飽和化合物(I)
に転化させることができる[例えば、Houben−W
eyl、Methoden der Organisc
hen Chemie(Methodsof Orga
nic Chemistry)、Georg Thie
me Verlag、スタットガルトを参照のこと]。
ル、カルボン酸ハロゲン化物及びホルミルメチル誘導体
との、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又
はエチレングリコールジエチルエーテルのような、不活
性な反応媒質中での−40〜−100℃、特に−60〜
−80℃の温度における反応は直接、式(I)の2−フ
ルオロピラジンを生じる。オレフィン2−フルオロピラ
ジン(I)は文献からそれ自体公知の方法によってオレ
フィン系二重結合の水素化によって、飽和化合物(I)
に転化させることができる[例えば、Houben−W
eyl、Methoden der Organisc
hen Chemie(Methodsof Orga
nic Chemistry)、Georg Thie
me Verlag、スタットガルトを参照のこと]。
【0034】2−フルオロ−3−リチオピラジン(VI)
とハロゲン、特に塩素、臭素又はヨウ素との、例えばジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン又はエチレングリ
コールジエチルエーテルのような、不活性な反応媒質中
での−40〜−100℃、特に−60〜−80℃の温度
における反応は式(VII)の2−フルオロ−3−ハロピ
ラジンを生ずる。式(VII)化合物とZ1の有機金属誘
導体、例えばグリニヤール、リチウム及び亜鉛誘導体
と、Z1のホウ酸との、例えばZ1のホウ酸との反応用
のベンゼン/エタノール/水及び例えばZ1のグリニヤ
ール、リチウム及び亜鉛誘導体との反応用のジエチルエ
ーテル又はテトラヒドロフランのような反応媒質中での
−40〜200℃、特に−10〜100℃における遷移
金属触媒例えばジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)プロパン]ニッケル(II)及びテトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を用いる
クロスカップリングは2−フルオロピラジン(I)を生
ずる。
とハロゲン、特に塩素、臭素又はヨウ素との、例えばジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン又はエチレングリ
コールジエチルエーテルのような、不活性な反応媒質中
での−40〜−100℃、特に−60〜−80℃の温度
における反応は式(VII)の2−フルオロ−3−ハロピ
ラジンを生ずる。式(VII)化合物とZ1の有機金属誘
導体、例えばグリニヤール、リチウム及び亜鉛誘導体
と、Z1のホウ酸との、例えばZ1のホウ酸との反応用
のベンゼン/エタノール/水及び例えばZ1のグリニヤ
ール、リチウム及び亜鉛誘導体との反応用のジエチルエ
ーテル又はテトラヒドロフランのような反応媒質中での
−40〜200℃、特に−10〜100℃における遷移
金属触媒例えばジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)プロパン]ニッケル(II)及びテトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を用いる
クロスカップリングは2−フルオロピラジン(I)を生
ずる。
【0035】2−フロオロ−3−リチオピラジンピラジ
ン(VI)の、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン又はエチレングリコールジエチルエーテルのよう
な、不活性な反応媒質中での−40〜−100℃、特に
−60〜−80℃の温度における二酸化炭素による処理
は、式(VIII)の2−フルオロ−3−ピラジンカルボン
酸を生ずる。化合物(VIII)は文献からそれ自体公知の
方法によって[例えば、Houben−Weyl、Me
thoden der OrganischenChe
mie(Methods of Organic Ch
emistry)、Georg Thieme Ver
lag、スタットガルトを参照のこと]、適当な縮合
剤、例えばカルボジイミドを補助して、Z3のアルコー
ルを用いて2−フルオロピラジン(I)を生ずる、もし
くは適当な還元剤、例えば錯体の水素化物を用いた還元
後に2−フルオロ−3−ヒドロキシメチルピラジン(I
X)を生ずるエステル化によって直接に、又はZ3のカ
ルボン酸もしくはカルボン酸ハロゲン化物を用いるエス
テル化によって、又はZ3=R1(−A1)k(−
M2)l( −A2)mのアルコールもしくはハロゲン
化物を用いて式(I)化合物を生ずるエーテル化によっ
て、転化させることができる。
ン(VI)の、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン又はエチレングリコールジエチルエーテルのよう
な、不活性な反応媒質中での−40〜−100℃、特に
−60〜−80℃の温度における二酸化炭素による処理
は、式(VIII)の2−フルオロ−3−ピラジンカルボン
酸を生ずる。化合物(VIII)は文献からそれ自体公知の
方法によって[例えば、Houben−Weyl、Me
thoden der OrganischenChe
mie(Methods of Organic Ch
emistry)、Georg Thieme Ver
lag、スタットガルトを参照のこと]、適当な縮合
剤、例えばカルボジイミドを補助して、Z3のアルコー
ルを用いて2−フルオロピラジン(I)を生ずる、もし
くは適当な還元剤、例えば錯体の水素化物を用いた還元
後に2−フルオロ−3−ヒドロキシメチルピラジン(I
X)を生ずるエステル化によって直接に、又はZ3のカ
ルボン酸もしくはカルボン酸ハロゲン化物を用いるエス
テル化によって、又はZ3=R1(−A1)k(−
M2)l( −A2)mのアルコールもしくはハロゲン
化物を用いて式(I)化合物を生ずるエーテル化によっ
て、転化させることができる。
【0036】2−フルオロ−3−リチオピラジン(VI)
とホルムアミドとの、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン又はエチレングリコールジエチルエーテル
のような、不活性な反応媒質中での−40〜−100
℃、特に−60〜−80℃の温度における反応は2−フ
ルオロ−3−ホルミルピラジン(X)を生ずる、これは
文献からのそれ自体公知の方法による[例えば、Hou
ben−Weyl、Methoden der Org
anischen Chemie(Methods o
f Organic Chemistry)、Geor
g Thieme Verlag、スタットガルトを参
照のこと]2−Z4−1,3−プロパンジオールを用い
る酸触媒アセタール化後に、式(I)の2−フルオロピ
ラジンを生ずる。
とホルムアミドとの、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン又はエチレングリコールジエチルエーテル
のような、不活性な反応媒質中での−40〜−100
℃、特に−60〜−80℃の温度における反応は2−フ
ルオロ−3−ホルミルピラジン(X)を生ずる、これは
文献からのそれ自体公知の方法による[例えば、Hou
ben−Weyl、Methoden der Org
anischen Chemie(Methods o
f Organic Chemistry)、Geor
g Thieme Verlag、スタットガルトを参
照のこと]2−Z4−1,3−プロパンジオールを用い
る酸触媒アセタール化後に、式(I)の2−フルオロピ
ラジンを生ずる。
【0037】例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン又はエチレングリコールジエチルエーテルのよう
な、不活性な反応媒質中での、−40〜−100℃、特
に−60〜−80℃の温度におけるトリアルキルボレー
トによる、及び−10〜50℃、特に10〜30℃の温
度における酸水溶液による2−フルオロ−3−リチオピ
ラジン(VI)の連続処理は式(XI)の2−フルオロ−3
−ピラジンホウ酸を生ずる。
ラン又はエチレングリコールジエチルエーテルのよう
な、不活性な反応媒質中での、−40〜−100℃、特
に−60〜−80℃の温度におけるトリアルキルボレー
トによる、及び−10〜50℃、特に10〜30℃の温
度における酸水溶液による2−フルオロ−3−リチオピ
ラジン(VI)の連続処理は式(XI)の2−フルオロ−3
−ピラジンホウ酸を生ずる。
【0038】ホウ酸(XI)に対して、例えばベンゼン/
エタノール/水のような反応媒質中、30〜200℃の
温度における、例えばテトラキス(トリフェニルホスフ
ィノ)パラジウム(0)のような遷移金属触媒を用い
る、Z1のハロゲン化物とのカップリング反応を実施し
て、式(I)化合物を製造することができる。
エタノール/水のような反応媒質中、30〜200℃の
温度における、例えばテトラキス(トリフェニルホスフ
ィノ)パラジウム(0)のような遷移金属触媒を用い
る、Z1のハロゲン化物とのカップリング反応を実施し
て、式(I)化合物を製造することができる。
【0039】2−フルオロピラジン(I)はさらに、ホ
ウ酸(XI)から、文献からのそれ自体公知の方法による
[例えば、Houben−Weyl、Methoden
der Organischen Chemie(M
ethods of Organic Chemist
ry)、Georg Thieme Verlag、ス
タットガルトを参照のこと]、2−Z4−1,3−プロ
パンジオール( Z4=R1(−A1)k(−
M1)l)を用いるホウ酸(XI)のエステル化によって
得られる。
ウ酸(XI)から、文献からのそれ自体公知の方法による
[例えば、Houben−Weyl、Methoden
der Organischen Chemie(M
ethods of Organic Chemist
ry)、Georg Thieme Verlag、ス
タットガルトを参照のこと]、2−Z4−1,3−プロ
パンジオール( Z4=R1(−A1)k(−
M1)l)を用いるホウ酸(XI)のエステル化によって
得られる。
【0040】例えばジエチルエーテル又はテトラヒドロ
フランのような反応媒質中での10〜100℃、特に3
0〜70℃の温度における過酸化物、例えば過酸化水素
を用いるホウ酸(XI)の酸化は式(I)の2−フルオロ
−3−ヒドロキシピラジン(XII)を生じ、これは文献
からのそれ自体公知の方法によって[例えば、Houb
en−Weyl、Methoden der Orga
nischen Chemie(Methods of
Organic Chemistry)、Georg
Thieme Verlag、スタットガルトを参照
のこと]、Z3のカルボン酸もしくはカルボン酸ハロゲ
ン化物を用いるエステル化によって又はZ3のアルコー
ルもしくはハロゲン化物を用いるエーテル化によって、
式(I)の2−フルオロピラジンに転化させることがで
きる。
フランのような反応媒質中での10〜100℃、特に3
0〜70℃の温度における過酸化物、例えば過酸化水素
を用いるホウ酸(XI)の酸化は式(I)の2−フルオロ
−3−ヒドロキシピラジン(XII)を生じ、これは文献
からのそれ自体公知の方法によって[例えば、Houb
en−Weyl、Methoden der Orga
nischen Chemie(Methods of
Organic Chemistry)、Georg
Thieme Verlag、スタットガルトを参照
のこと]、Z3のカルボン酸もしくはカルボン酸ハロゲ
ン化物を用いるエステル化によって又はZ3のアルコー
ルもしくはハロゲン化物を用いるエーテル化によって、
式(I)の2−フルオロピラジンに転化させることがで
きる。
【0041】
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】 本発明を下記実施例によってさらに詳しく述べる:強誘
電性液晶混合物に関して、自発分極Ps[nC/c
m2]、電気的応答時間γ[μs]及びネマチック相に
おける螺旋ねじれ工率の値を測定した。最初の2つの測
定は20℃の温度において実施した。 Ps値はH.D
iamant等の方法[Rev.Sci.Inst
r.、28、30、1957]によって、10μmの電
極間距離を有し、配向膜を有さない測定セルを用いて測
定した。
電性液晶混合物に関して、自発分極Ps[nC/c
m2]、電気的応答時間γ[μs]及びネマチック相に
おける螺旋ねじれ工率の値を測定した。最初の2つの測
定は20℃の温度において実施した。 Ps値はH.D
iamant等の方法[Rev.Sci.Inst
r.、28、30、1957]によって、10μmの電
極間距離を有し、配向膜を有さない測定セルを用いて測
定した。
【0042】電気的応答時間は上記測定セルに±100
voltの直交電圧(rectangular vol
tage)を供給し、分極逆電流(reversal
current)を測定することによって測定した。電
気的応答時間γは電圧逆転と最大分極電流との間の遅延
時間として定義される。
voltの直交電圧(rectangular vol
tage)を供給し、分極逆電流(reversal
current)を測定することによって測定した。電
気的応答時間γは電圧逆転と最大分極電流との間の遅延
時間として定義される。
【0043】ネマチック相における螺旋ねじれ工率(H
TP)はGrandjean−Canoの方法によって
ウェッジ(wedge)セルを用いて測定した[F.G
randjean、CR Acad.Sci.(Par
is)172、71(1921)、R.Cano、Bu
ll.Soc.Franc.Mineral.Crys
tallogr.XC(333)(1967)]。
TP)はGrandjean−Canoの方法によって
ウェッジ(wedge)セルを用いて測定した[F.G
randjean、CR Acad.Sci.(Par
is)172、71(1921)、R.Cano、Bu
ll.Soc.Franc.Mineral.Crys
tallogr.XC(333)(1967)]。
【0044】相転移温度は偏光顕微鏡を用いて加熱時の
テクスチャーの変化から測定した。これに対して、融点
はDSC機器を用いて測定した。下記相: ネマチック(N又はN*) スメクチックC(SC又はSC*) スメクチックA(SA又はSA*) 結晶(X) の間の相転移温度は℃で記載し、値は相系列における各
相コード間の値である。実施例1 2−フルオロ−3−オクチル−6−(4−オクチルオキ
シフェニル)ピラジン 1a:2,6−ジクロロピラジン40.00g(26
8.5mmol)、フッ化カリウム31.20g(53
7.0mmol)及び18−クラウン−6 7.10g
(26.9mmol)を大気圧下、120℃において
0.5時間加熱し、160mm/1Hgの圧力において
3時間加熱し、この間に無色液体が留出し、160mm
Hgの圧力における真空蒸留による精製後に、2−クロ
ロ−6−フルオロ−ピラジン22.59gが得られる。
テクスチャーの変化から測定した。これに対して、融点
はDSC機器を用いて測定した。下記相: ネマチック(N又はN*) スメクチックC(SC又はSC*) スメクチックA(SA又はSA*) 結晶(X) の間の相転移温度は℃で記載し、値は相系列における各
相コード間の値である。実施例1 2−フルオロ−3−オクチル−6−(4−オクチルオキ
シフェニル)ピラジン 1a:2,6−ジクロロピラジン40.00g(26
8.5mmol)、フッ化カリウム31.20g(53
7.0mmol)及び18−クラウン−6 7.10g
(26.9mmol)を大気圧下、120℃において
0.5時間加熱し、160mm/1Hgの圧力において
3時間加熱し、この間に無色液体が留出し、160mm
Hgの圧力における真空蒸留による精製後に、2−クロ
ロ−6−フルオロ−ピラジン22.59gが得られる。
【0045】
【化25】 1b:2−フルオロ−6−フルオロピラジン7.99g
(60.0mmol)、4−オクチルオキシフェニルホ
ウ酸15.08g(60.0mmol)、炭酸ナトリウ
ム12.78g(120.0mmol)及びテトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.72
g(0.6mmol)をベンゼン400ml、エタノー
ル300ml及び水150ml中で80℃において2時
間加熱する。
(60.0mmol)、4−オクチルオキシフェニルホ
ウ酸15.08g(60.0mmol)、炭酸ナトリウ
ム12.78g(120.0mmol)及びテトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.72
g(0.6mmol)をベンゼン400ml、エタノー
ル300ml及び水150ml中で80℃において2時
間加熱する。
【0046】反応混合物を塩化ナトリウム水溶液とエー
テルとに分配し、有機相を塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を除去
し、残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリ
カゲル/ヘキサン:酢酸エチル=8:2)。2−フルオ
ロ−6−(4−オクチルオキシフェニル)ピラジン1
7.18gが得られる。
テルとに分配し、有機相を塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を除去
し、残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリ
カゲル/ヘキサン:酢酸エチル=8:2)。2−フルオ
ロ−6−(4−オクチルオキシフェニル)ピラジン1
7.18gが得られる。
【0047】
【化26】 1c:2,2,6,6−テトラメチルピペリジン3.5
0g(24.8mmol)とヘキサン中1.6M n−
ブチルリチウム溶液15.50ml(24.60mmo
l)とをテトラヒドロフラン80ml中で0℃において
0.5時間撹拌し、テトラヒドロフラン250mlをを
加え、混合物を−78℃に冷却する。テトラヒドロフラ
ン150ml中の2−フルオロ−6−(4−オクチルオ
キシフェニル)ピラジン5.00g(16.5mmo
l)と、混合物を1時間撹拌した後の臭素0.85ml
とを−78℃において連続的に滴加する。反応混合物を
一晩撹拌する、この間に反応混合物は室温に温度上昇す
る、反応混合物をエーテルと塩化ナトリウム水溶液との
間に分配し、水相を塩化ナトリウム水溶液によって洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を除去
し、残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリ
カゲル/ヘキサン:酢酸エチル=9:1)。2−ブロモ
−3−フルオロ−5−(4−オクチルオキシフェニル)
ピラジン4.68gが得られる。
0g(24.8mmol)とヘキサン中1.6M n−
ブチルリチウム溶液15.50ml(24.60mmo
l)とをテトラヒドロフラン80ml中で0℃において
0.5時間撹拌し、テトラヒドロフラン250mlをを
加え、混合物を−78℃に冷却する。テトラヒドロフラ
ン150ml中の2−フルオロ−6−(4−オクチルオ
キシフェニル)ピラジン5.00g(16.5mmo
l)と、混合物を1時間撹拌した後の臭素0.85ml
とを−78℃において連続的に滴加する。反応混合物を
一晩撹拌する、この間に反応混合物は室温に温度上昇す
る、反応混合物をエーテルと塩化ナトリウム水溶液との
間に分配し、水相を塩化ナトリウム水溶液によって洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を除去
し、残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリ
カゲル/ヘキサン:酢酸エチル=9:1)。2−ブロモ
−3−フルオロ−5−(4−オクチルオキシフェニル)
ピラジン4.68gが得られる。
【0048】
【化27】 1c:テトラヒドロフラン30ml中の新たに調製した
臭化オクチルマグネシウム7.95mmolをテトラヒ
ドロフラン30ml中の2−ブロモ−3−フルオロ−5
−(4−オクチルオキシフェニル)ピラジン2.00g
(5.3mmol)と[1,3−ビス(ジフェニルホス
フィノ)プロパン]ニッケル(II)0.03g(0.0
6mmol)とに滴加し、反応混合物を一晩撹拌する、
この間に反応混合物は室温に温度上昇する、反応混合物
を塩化アンモニウム水溶液とエーテルとの間に分配し、
有機相を塩化ナトリウム水溶液によって洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を除去し、残渣を
クロマトグラフィーによって精製する(シリカゲル/ジ
クロロメタン:ヘキサン=7:3)。2−フルオロ−3
−オクチル−6−(4−オクチルオキシフェニル)ピラ
ジン1.12gが得られる。
臭化オクチルマグネシウム7.95mmolをテトラヒ
ドロフラン30ml中の2−ブロモ−3−フルオロ−5
−(4−オクチルオキシフェニル)ピラジン2.00g
(5.3mmol)と[1,3−ビス(ジフェニルホス
フィノ)プロパン]ニッケル(II)0.03g(0.0
6mmol)とに滴加し、反応混合物を一晩撹拌する、
この間に反応混合物は室温に温度上昇する、反応混合物
を塩化アンモニウム水溶液とエーテルとの間に分配し、
有機相を塩化ナトリウム水溶液によって洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を除去し、残渣を
クロマトグラフィーによって精製する(シリカゲル/ジ
クロロメタン:ヘキサン=7:3)。2−フルオロ−3
−オクチル−6−(4−オクチルオキシフェニル)ピラ
ジン1.12gが得られる。
【0049】
【化28】 この化合物は次の相系列を有する: X 42 SA 50 I実施例2 2−フルオロ−3,6−ビス(4−オクチルオキシフェ
ニル)ピラジン 2−フルオロ−3−フルオロ−5−(4−オクチルオキ
シフェニル)ピラジン2.00g(5.25mmol)
(実施例1a−1cに述べたとおりに調製)と4−オク
チルオキシフェニルホウ酸1.31g(5.25mmo
l)との実施例1bと同様な反応は2−フルオロ−3,
6−ビス(4−オクチルオキシフェニル)ピラジン1.
96gを生ずる。
ニル)ピラジン 2−フルオロ−3−フルオロ−5−(4−オクチルオキ
シフェニル)ピラジン2.00g(5.25mmol)
(実施例1a−1cに述べたとおりに調製)と4−オク
チルオキシフェニルホウ酸1.31g(5.25mmo
l)との実施例1bと同様な反応は2−フルオロ−3,
6−ビス(4−オクチルオキシフェニル)ピラジン1.
96gを生ずる。
【0050】
【化29】 この化合物は次の相系列を有する: X 89 SC 162 N 178 I実施例3 2−フルオロ−3−オクチル−6−[4−(トランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)フェニル]ピラジン 実施例1bと同様な反応において、2−クロロ−6−フ
ルオロピラジン2.17g(16.41mmol)(実
施例1aに述べたとおりに調製)と4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)フェニルホウ酸4.50g
(16.41mmol)とは2−フルオロ−3−オクチ
ル−6−[4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)フェニル]ピラジン3.36gを生ずる。
4−ペンチルシクロヘキシル)フェニル]ピラジン 実施例1bと同様な反応において、2−クロロ−6−フ
ルオロピラジン2.17g(16.41mmol)(実
施例1aに述べたとおりに調製)と4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)フェニルホウ酸4.50g
(16.41mmol)とは2−フルオロ−3−オクチ
ル−6−[4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)フェニル]ピラジン3.36gを生ずる。
【0051】
【化30】 3b:実施例1cと同様な反応において、2−フルオロ
−6−[4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)フェニル]ピラジン3.10g(9.50mmo
l)は2−ブロモ−3−フルオロ−5−[4−(トラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)フェニル]ピラジン
2.75gを生ずる。
−6−[4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)フェニル]ピラジン3.10g(9.50mmo
l)は2−ブロモ−3−フルオロ−5−[4−(トラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)フェニル]ピラジン
2.75gを生ずる。
【0052】
【化31】 3c:実施例1dと同様な反応において、2−ブロモ−
3−フルオロ−5−[4−(トランス−4−ペンチルシ
クロヘキシル)フェニル]ピラジン2.75gと臭化オ
クチルマグネシウム10.2mmolとは2−フルオロ
−3−オクチル−6−[4−(トランス−4−ペンチル
シクロヘキシル)フェニル]ピラジン1.53gを生ず
る。
3−フルオロ−5−[4−(トランス−4−ペンチルシ
クロヘキシル)フェニル]ピラジン2.75gと臭化オ
クチルマグネシウム10.2mmolとは2−フルオロ
−3−オクチル−6−[4−(トランス−4−ペンチル
シクロヘキシル)フェニル]ピラジン1.53gを生ず
る。
【0053】
【化32】 この化合物は次の相系列を有する: X 48 S2 76 SA 128 I実施例4 4−(2−フルオロ−3−オクチルピラジン−6−イ
ル)フェニル トランス−4−ペンチルシクロヘキサン
カルボキシレート 4a:実施例1bと同様な反応において、2−クロロ−
6−フルオロピラジン8.86g(66.85mmo
l)(実施例1aに述べたとおりに調製)と4−ter
t−ブチルジフェニルシリルオキシフェニルホウ酸2
5.13g(66.85mmol)とは2−フルオロ−
6−(4−tert−ブチルジフェニルシリルオキシフ
ェニル)ピラジン19.90gを生ずる。
ル)フェニル トランス−4−ペンチルシクロヘキサン
カルボキシレート 4a:実施例1bと同様な反応において、2−クロロ−
6−フルオロピラジン8.86g(66.85mmo
l)(実施例1aに述べたとおりに調製)と4−ter
t−ブチルジフェニルシリルオキシフェニルホウ酸2
5.13g(66.85mmol)とは2−フルオロ−
6−(4−tert−ブチルジフェニルシリルオキシフ
ェニル)ピラジン19.90gを生ずる。
【0054】
【化33】 4b:実施例1cと同様な反応において、2−フルオロ
−6−(4−tert−ブチルジフェニルシリルオキシ
フェニル)ピラジン15.00g(35.00mmo
l)は2−ブロモ−3−フルオロ−5−(4−tert
−ブチルジフェニルシリルオキシフェニル)ピラジン1
5.57gを生ずる。
−6−(4−tert−ブチルジフェニルシリルオキシ
フェニル)ピラジン15.00g(35.00mmo
l)は2−ブロモ−3−フルオロ−5−(4−tert
−ブチルジフェニルシリルオキシフェニル)ピラジン1
5.57gを生ずる。
【0055】
【化34】 4c:実施例1dと同様な反応において、2−ブロモ−
3−フルオロ−5−(4−tert−ブチルジフェニル
シリルオキシフェニル)ピラジン15.57gと臭化オ
クチルマグネシウム46.00mmolとは2−フルオ
ロ−3−オクチル−6−(4−tert−ブチルジフェ
ニルシリルオキシフェニル)ピラジン11.82gを生
ずる。
3−フルオロ−5−(4−tert−ブチルジフェニル
シリルオキシフェニル)ピラジン15.57gと臭化オ
クチルマグネシウム46.00mmolとは2−フルオ
ロ−3−オクチル−6−(4−tert−ブチルジフェ
ニルシリルオキシフェニル)ピラジン11.82gを生
ずる。
【0056】
【化35】 4d:2−フルオロ−3−オクチル−6−(4−ter
t−ブチルジフェニルシリルオキシフェニル)ピラジン
11.82g(21.87mmol)とテトラヒドロフ
ラン中のテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオリドの
1モル溶液43.74mlとをテトラヒドロフラン14
0ml中で室温において1時間撹拌する。反応混合物を
塩化ナトリウム水溶液とエーテルとの間に分配し、有機
相を塩化ナトリウム水溶液によって洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥させ、溶剤を除去し、生成物をn−ヘキサ
ンから再結晶する。2−フルオロ−3−オクチル−6−
(4−ヒドロキシフェニル)ピラジン6.00gが得ら
れる。
t−ブチルジフェニルシリルオキシフェニル)ピラジン
11.82g(21.87mmol)とテトラヒドロフ
ラン中のテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオリドの
1モル溶液43.74mlとをテトラヒドロフラン14
0ml中で室温において1時間撹拌する。反応混合物を
塩化ナトリウム水溶液とエーテルとの間に分配し、有機
相を塩化ナトリウム水溶液によって洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥させ、溶剤を除去し、生成物をn−ヘキサ
ンから再結晶する。2−フルオロ−3−オクチル−6−
(4−ヒドロキシフェニル)ピラジン6.00gが得ら
れる。
【0057】
【化36】 4e:2−フルオロ−3−オクチル−6−(4−ヒドロ
キシフェニル)ピラジン2.00g(7.00mmo
l)をジシクロヘキシルカルボジイミド1.44g
(7.00mmol)及び少量の4−ジメチルアミノピ
リジンと共に、ジクロロメタン35ml中で室温におい
て6時間撹拌する。固体成分を濾別し、混合物から溶剤
を除去し、残渣をクロマトグラフィー(シリカゲル/ヘ
キサン:酢酸エチル=9:1)と、アセトニトリルから
の再結晶とによって精製する。4−(2−フルオロ−3
−オクチルピラジン−6−イル)フェニル トランス−
4−ペンチルシクロヘキサンカルボキシレート1.94
gが得られる。
キシフェニル)ピラジン2.00g(7.00mmo
l)をジシクロヘキシルカルボジイミド1.44g
(7.00mmol)及び少量の4−ジメチルアミノピ
リジンと共に、ジクロロメタン35ml中で室温におい
て6時間撹拌する。固体成分を濾別し、混合物から溶剤
を除去し、残渣をクロマトグラフィー(シリカゲル/ヘ
キサン:酢酸エチル=9:1)と、アセトニトリルから
の再結晶とによって精製する。4−(2−フルオロ−3
−オクチルピラジン−6−イル)フェニル トランス−
4−ペンチルシクロヘキサンカルボキシレート1.94
gが得られる。
【0058】
【化37】 この化合物は次の相系列を有する: X 58 S2 79 SA 157 I実施例5 2−フルオロ−3−オクチル−6−[4−(4−ブチル
ジメチルシリルブチルオキシ)フェニル]ピラジン 5a:テトラヒドロフラン85ml中トリフェニルホス
フィン3.04g(11.60mmol)に、ジエチル
アゾジカルボキシレート1.82g(11.60mmo
l)を0℃において滴加し、この混合物を0℃において
0.5時間撹拌する。2−フルオロ−3−オクチル−6
−(4−ヒドロキシフェニル)ピラジン(実施例4a−
4dに述べたとおりに調製)2.00g(7.00mm
ol)と4−ブチルジメチルシリルブタノール2.46
g(11.60mmol)とを連続的に加え、混合物を
室温において3時間撹拌する。反応混合物を蒸発させ、
残渣をクロマトグラフィー(シリカゲル/ジクロロメタ
ン:ヘキサン=8:2)によって精製する。2−フルオ
ロ−3−オクチル−6−[4−(4−ブチルジメチルシ
リルブチルオキシ)フェニル]ピラジン1.47gが得
られる。
ジメチルシリルブチルオキシ)フェニル]ピラジン 5a:テトラヒドロフラン85ml中トリフェニルホス
フィン3.04g(11.60mmol)に、ジエチル
アゾジカルボキシレート1.82g(11.60mmo
l)を0℃において滴加し、この混合物を0℃において
0.5時間撹拌する。2−フルオロ−3−オクチル−6
−(4−ヒドロキシフェニル)ピラジン(実施例4a−
4dに述べたとおりに調製)2.00g(7.00mm
ol)と4−ブチルジメチルシリルブタノール2.46
g(11.60mmol)とを連続的に加え、混合物を
室温において3時間撹拌する。反応混合物を蒸発させ、
残渣をクロマトグラフィー(シリカゲル/ジクロロメタ
ン:ヘキサン=8:2)によって精製する。2−フルオ
ロ−3−オクチル−6−[4−(4−ブチルジメチルシ
リルブチルオキシ)フェニル]ピラジン1.47gが得
られる。
【0059】
【化38】 この化合物の屈折率ηDは28℃において1.5212
である。
である。
【0060】実施例6 [(2S,3S)−3−ペンチルオキシラン−2−イ
ル]メチル4−(2−フルオロ−3−オクチルピラジン
−6−イル)フェニルエーテル 6a:実施例5aと同様な反応において、トリフェニル
ホスフィン3.04g(11.60mmol)、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート1.82ml(11.60m
mol)、2−フルオロ−3−オクチル−6−(4−ヒ
ドロキシフェニル)ピラジン2.00g(7.00mm
ol)及び(2S,3S)−3−ペンチルオキシラン−
2−イルメタノール1.67g(11.60mmol)
は、[α]D 20(CHCl3中c=0.995)=−1
6.58の[(2S,3S)−3−ペンチルオキシラン
−2−イル]メチル 4−(2−フルオロ−3−オクチ
ルピラジン−6−イル)フェニルエーテル1.20gを
生ずる。
ル]メチル4−(2−フルオロ−3−オクチルピラジン
−6−イル)フェニルエーテル 6a:実施例5aと同様な反応において、トリフェニル
ホスフィン3.04g(11.60mmol)、ジエチ
ルアゾジカルボキシレート1.82ml(11.60m
mol)、2−フルオロ−3−オクチル−6−(4−ヒ
ドロキシフェニル)ピラジン2.00g(7.00mm
ol)及び(2S,3S)−3−ペンチルオキシラン−
2−イルメタノール1.67g(11.60mmol)
は、[α]D 20(CHCl3中c=0.995)=−1
6.58の[(2S,3S)−3−ペンチルオキシラン
−2−イル]メチル 4−(2−フルオロ−3−オクチ
ルピラジン−6−イル)フェニルエーテル1.20gを
生ずる。
【0061】
【化39】 この化合物は次の相系列を有する: X 64 SA 80 I使用例1 a) 次の成分: 5−オクチルオキシ−2−(4−ヘキシルオキシフェニル) ピリミジン 22.8モル% 5−オクチルオキシ−2−(4−ブチルオキシフェニル) ピリミジン 24.0モル% 5−オクチルオキシ−2−(4−デシルオキシフェニル) ピリミジン 19.2モル% 5−オクチルオキシ−2−(4−オクチルオキシフェニル) ピリミジン 10.5モル% トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸− 4−(5−フェニルピリミジン−2−イル)フェニル 13.5モル% [(2S,3S)−3−ペンチルオキシラン−2−イル]− メチル−4−(2−フルオロ−3−オクチルピラジン−6− イル)フェニルエーテル 10.1モル% からなる強誘電性液晶混合物は、以下の液晶相系列を有
する: SC* 80 SA 94 N* 100 I この混合物は、20°Cにおいて自発分極12.4nC
/cm2を有し、電界強度10V/μmにおける応答時
間は212μsである。この混合物は、ネマチック相に
おいて、−0.45〜−0.39μm-1の螺旋ねじれ工
率(HTP)を有する。
する: SC* 80 SA 94 N* 100 I この混合物は、20°Cにおいて自発分極12.4nC
/cm2を有し、電界強度10V/μmにおける応答時
間は212μsである。この混合物は、ネマチック相に
おいて、−0.45〜−0.39μm-1の螺旋ねじれ工
率(HTP)を有する。
【0062】b) 比較として、ドーピング剤を含まな
いことにおいてのみ上述の混合物と異なる周知の液晶混
合物(ドイツ特許第3831226.3号)は、以下の
相系列を有する: SC* 84 SA 93 N* 105 I この混合物は、本発明に従う化合物を用いて、速い応答
時間を有する強誘電性液晶混合物を製造しうることを示
す。
いことにおいてのみ上述の混合物と異なる周知の液晶混
合物(ドイツ特許第3831226.3号)は、以下の
相系列を有する: SC* 84 SA 93 N* 105 I この混合物は、本発明に従う化合物を用いて、速い応答
時間を有する強誘電性液晶混合物を製造しうることを示
す。
【0063】使用例2 a) 次の成分: 5−ヘプチル−2−(4−ペンチルオキシフェニル) ピリミジン 9.48モル% 5−ヘプチル−2−(4−ヘプチルオキシフェニル) ピリミジン 14.23モル% 5−ヘプチル−2−(4−ブチルオキシフェニル) ピリミジン 15.16モル% 5−(6−シクロプロピル)ヘキシルオキシ−2− (4−オクチルオキシフェニル)ピリミジン 14.38モル% トランス−4−ペンチルシクロヘキシルメチルオキシ[5− (8−シクロプロピルオクチルオキシ)ピリミジン−2− イル]フェニルエーテル 6.58モル% トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸− 5−(8−シクロプロピルオクチル)ピリミジン−2− イルフェニル 11.40モル% 5−オクチル−2−[4−(6−シクロプロピル) ヘキシルカルボニルオキシフェニル]ピリミジン 21.28モル% 2−フルオロ−3−オクチル−6−[4−(トランス−4− ペンチルシクロヘキシル)フェニル]ピラジン 7.5モル% からなる強誘電性液晶混合物は、以下の液晶相系列を有
する: SC 55 SA 74 N 94 I b) 比較として、本発明に従う化合物を含まないこと
においてのみ上述の混合物と異なる液晶混合物は、以下
の相系列を有する: SC 61 N 91 I この比較は、本発明に従う化合物を液晶混合物中に少量
添加した場合においても、SA相が生じることを示す。
する: SC 55 SA 74 N 94 I b) 比較として、本発明に従う化合物を含まないこと
においてのみ上述の混合物と異なる液晶混合物は、以下
の相系列を有する: SC 61 N 91 I この比較は、本発明に従う化合物を液晶混合物中に少量
添加した場合においても、SA相が生じることを示す。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年8月28日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0041
【補正方法】変更
【補正内容】
【0041】
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】 本発明を下記実施例によってさらに詳しく述べる:強誘
電性液晶混合物に関して、自発分極Ps[nC/c
m2]、電気的応答時間γ[μs]及びネマチック相に
おける螺旋ねじれ工率の値を測定した。最初の2つの測
定は20℃の温度において実施した。 Ps値はH.D
iamant等の方法[Rev.Sci.Inst
r.、28、30、1957]によって、10μmの電
極間距離を有し、配向膜を有さない測定セルを用いて測
定した。
電性液晶混合物に関して、自発分極Ps[nC/c
m2]、電気的応答時間γ[μs]及びネマチック相に
おける螺旋ねじれ工率の値を測定した。最初の2つの測
定は20℃の温度において実施した。 Ps値はH.D
iamant等の方法[Rev.Sci.Inst
r.、28、30、1957]によって、10μmの電
極間距離を有し、配向膜を有さない測定セルを用いて測
定した。
フロントページの続き (72)発明者 アンケ・カルトバイツェル ドイツ連邦共和国デー−6090 リュッセル スハイム,コンラート−アーデナウワー− リンク 12 (72)発明者 ライナー・ヴィンゲン ドイツ連邦共和国デー−6234 ハッタース ハイム・アム・マイン,ブルンネンシュト ラーセ 1
Claims (17)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 [式中、記号は次の意味を有する:R1とR2は互いに独
立に、H、F、Cl、CN、NCS、−CF3、−OC
F3、−OCHF2又は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝
鎖アルキル基(不斉炭素原子を有する又は有さない)で
あり、1個又は2個の非隣接−CH2−基をそれぞれ、
−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO
−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、
−CH=CH−、−C≡C−、 【化2】 又は−Si(CH3)2−によって置換することも可能で
あり、アルキルラジカルの1個以上の水素原子をそれぞ
れ、F、Cl、BrもしくはCN、又は下記キラル基: 【化3】 の一つによって置換することも可能である;A1、A2、
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子の
1個又は2個をF、Cl及び/又はCNによって置換す
ることができる、1,4−フェニレン、ピラジン−2,
5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイル、ピリジン−
2,5−ジイルもしくはピリミジン−2,5−ジイルで
あるか、又は水素原子の1個もしくは2個をCN及び/
又はCH3によって置換することのできる、トランス−
1,4−シクロヘキシレンであるか、又は1,3,4−
チアジアゾール−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン
−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、ビシ
クロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイルもしくは
1,3−ジオキサボリナン−2,5−ジイルである;M
1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、−O
−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、
−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−C
H2−O−、−O−CH2−、−CH2−CH2−,−CH
=CH−又は−C≡C−である;R3、R4、R6及びR7
は、互いに独立に、H又は炭素数1〜16の直鎖もしく
は分枝鎖アルキル基である;或いは、R3とR4は、ジオ
キソラン系に置換基として結合する場合には、一緒にな
って−(CH2)4−又は−(CH2)5−を形成する;M
5は−CH2−O−、−CO−O−、−O−CH2−、−
O−CO−又は単結合である;k、l、m、n、o、
p、q及びrは零又は1である、但しk+m+p+rの
合計は零より大きく、4未満である]で示される2−フ
ルオロピラジン。 - 【請求項2】 記号が次の意味を有する:R1とR2は互
いに独立に、H、F、CN、又は炭素数1〜16の直鎖
もしくは分枝鎖アルキル基(不斉炭素原子を有する又は
有さない)であり、−CH2−基を−O−、−S−、−
CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O
−、−CH=CH−、−C≡C−、 【化4】 もしくは−Si(CH3)2−又は下記キラル基: 【化5】 の一つによって置換することも可能である;A1、A2、
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子の
1個又は2個をそれぞれFによって置換することができ
る、1,4−フェニレン、ピラジン−2,5−ジイル、
ピリダジン−3,6−ジイル、ピリジン−2,5−ジイ
ルもしくはピリミジン−2,5−ジイルであるか、又は
トランス−1,4−シクロヘキシレン、1,3,4−チ
アジアゾール−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−
ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル又はビシ
クロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイルである;
M1、M2、M3及びM4は同一又は異なる基であり、−O
−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−CH2
−O−、−O−CH2−、−CH2−CH2−,−CH=
CH−又は−C≡C−である;R3、R4、R6及びR
7は、互いに独立に、H又は炭素数1〜16の直鎖もし
くは分枝鎖アルキル基である;或いは、R3とR4は、ジ
オキソラン系に置換基として結合する場合には、一緒に
なって−(CH2)4−又は−(CH2)5−を形成する;
M5は−CH2−O−、−CO−O−、−O−CH2−、
−O−CO−又は単結合である、ことを特徴とする、請
求項1記載の2−フルオロピラジン。 - 【請求項3】 記号が次の意味を有する:R1とR2は互
いに独立に、H、F、CN、又は炭素数1〜16の直鎖
もしくは分枝鎖アルキル基(不斉炭素原子を有する又は
有さない)であり、−CH2−基を−O−、−CO−、
−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−、 【化6】 もしくは−Si(CH3)2−又は下記キラル基: 【化7】 の一つによって置換することも可能である;A1、A2、
A3及びA4は同一もしくは異なる基であり、水素原子を
Fによって置換することができる、1,4−フェニレ
ン、ピラジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−
ジイル、ピリジン−2,5−ジイルもしくはピリミジン
−2,5−ジイルであるか、又はトランス−1,4−シ
クロヘキシレン、ナフタレン−2,6−ジイル又は1,
3−ジオキサン−2,5−ジイルである;M1、M2、M
3及びM4は同一又は異なる基であり、−O−、−CO−
O−、−O−CO−、−O−CH2−、−CH2−O−、
−CH2−CH2−又は−CH=CH−である;R3、
R4、R6及びR7は、互いに独立に、H又は炭素数1〜
16の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基である;或いは、
R3とR4は、ジオキソラン系に置換基として結合する場
合には、一緒になって−(CH2)4−又は−(CH2)5
−を形成する;M5は−CH2−O−、−CO−O−、−
O−CH2−、−O−CO−又は単結合である、ことを
特徴とする、請求項1記載の2−フルオロピラジン。 - 【請求項4】 式(I)において記号が次の意味を有す
る:R1とR2は互いに独立に、H又は炭素数1〜16の
アルキル基であり、−CH2−基を−O−、又は下記キ
ラル基: 【化8】 によって置換することも可能である;A1、A2、A3及
びA4は同一もしくは異なる基であり、1,4−フェニ
レン、ピリミジン−2,5−ジイル、又は1,4−シク
ロヘキシレンである;M1、M2、M3及びM4は同一又は
異なる基であり、−O−、−COO−、−CH2−O−
又は−O−CH2−である;M5は−CH2O−又は−C
OO−である;R3とR4は互いに独立に、H又は炭素数
1〜10の直鎖アルキル基である、ことを特徴とする、
請求項1記載の2−フルオロピラジン。 - 【請求項5】 液晶混合物の1成分としての、請求項1
記載のフルオロピラジンの使用。 - 【請求項6】 少なくとも2成分を含み、その中の1成
分が請求項1記載のフルオロピラジンである液晶混合
物。 - 【請求項7】 2〜20成分を含み、その中の1成分が
請求項1記載の化合物である強誘電性液晶混合物。 - 【請求項8】 2〜20成分を含み、その中の1成分が
請求項1記載の化合物であるネマチック液晶混合物。 - 【請求項9】 2〜20成分を含み、その中の1成分が
請求項2記載の化合物である強誘電性液晶混合物。 - 【請求項10】 2〜20成分を含み、その中の1成分
が請求項3記載の化合物である強誘電性液晶混合物。 - 【請求項11】 2〜20成分を含み、その中の1成分
が請求項4記載の化合物である強誘電性液晶混合物。 - 【請求項12】 2〜20成分を含み、請求項1の式
(I)で示される少なくとも一つの化合物を1〜25モ
ル%含む、強誘電性液晶混合物。 - 【請求項13】 外側プレート、電極、少なくとも1個
の偏光子、少なくとも1個の配向膜及び液晶媒質を含
み、液晶媒質が請求項6記載の液晶混合物である、強誘
電性スイッチング及び表示素子。 - 【請求項14】 請求項1記載の式(I)化合物の製造
方法であって、多段階反応において2,6−ジクロロピ
ラジンのピラジン環の3位又は6位に側鎖R1(−A1)
k(−M1)1(−A2)m(−M2)n−、及び−(M3)0
−(A3)p−(M4)q−(A4)r−R2を導入すること
を特徴とする方法。 - 【請求項15】 2,6−ジクロロピラジン(II)をフ
ッ化物試薬と、触媒量の錯化剤を用いて反応させて、
2,6−ジフルオロピラジン(III)を得て、2,6−
ジフルオロピラジン(III)を(−M3)0(−A3)
p(−M4)q(−A4)r−R2の金属化合物と反応させ
て、式(V)化合物を得、次に式(V)化合物を請求項1
記載の式(I)の2−フルオロピラジン誘導体に転化さ
せる、 【化9】 請求項14記載の方法。 - 【請求項16】 2,6−ジクロロピラジン(II)を、
錯化剤の存在下に減圧下でフッ化物試薬と反応させて、
2−クロロ−6−フルオロピラジン(IV)を得て、2−
クロロ−6−フルオロピラジン(IV)を、遷移金属触媒
を用いて(−M3)0(−A3)p(−M4)q(−A4)r−
R2の有機金属誘導体と反応させて、式(V)化合物を
得、これをさらに請求項1記載の式(I)の2−フルオ
ロピラジン誘導体に転化させる、 【化10】 請求項14記載の方法。 - 【請求項17】 式(V)化合物をリチウム化合物によ
る処理によって請求項1記載の式(VI)化合物に転化さ
せ、 【化11】 この反応生成物を一段階反応又は多段階反応によって式
(I)の2−フルオロピラジン誘導体に転化させる請求
項14記載の方法。
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