JPH0621237Y2 - セラミツクパツケ−ジ - Google Patents
セラミツクパツケ−ジInfo
- Publication number
- JPH0621237Y2 JPH0621237Y2 JP1987114866U JP11486687U JPH0621237Y2 JP H0621237 Y2 JPH0621237 Y2 JP H0621237Y2 JP 1987114866 U JP1987114866 U JP 1987114866U JP 11486687 U JP11486687 U JP 11486687U JP H0621237 Y2 JPH0621237 Y2 JP H0621237Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor chip
- ceramic package
- present
- metal pedestal
- ceramic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/30—Die-attach connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
- H10W70/67—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their insulating layers or insulating parts
- H10W70/68—Shapes or dispositions thereof
- H10W70/682—Shapes or dispositions thereof comprising holes having chips therein
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔概要〕 本考案は、セラミックパッケージの構造に関し、 半導体チップをセラミックパッケージに固着するとき、
熱膨脹の差によって該チップにクラックが発生するのを
防止することを目的とし、 セラミックパッケージの基体の上に、空洞部が形成され
た半導体チップ固着用メタル台座を設けていることを特
徴としている。
熱膨脹の差によって該チップにクラックが発生するのを
防止することを目的とし、 セラミックパッケージの基体の上に、空洞部が形成され
た半導体チップ固着用メタル台座を設けていることを特
徴としている。
本考案はセラミックパッケージの構造に関するものであ
る。
る。
第4図は従来例に係るセラミックパッケージの構造断面
図である。
図である。
1はセラミック基体,2は半導体チップ,3はボンディ
ングワイヤである。4はセラミック基体の表面に作成さ
れたAuペースト又はAuメッキであり、5は半導体チップ
2をセラミック基体1に固着するためのAu又はAuSiであ
る。
ングワイヤである。4はセラミック基体の表面に作成さ
れたAuペースト又はAuメッキであり、5は半導体チップ
2をセラミック基体1に固着するためのAu又はAuSiであ
る。
ところで、従来例によれば、熱を加えてAu又はAuSi5を
溶融し、半導体チップ2をセラミック基体1の表面に直
接固着している。
溶融し、半導体チップ2をセラミック基体1の表面に直
接固着している。
このため、半導体チップ2とセラミック基体1との熱膨
脹係数の差により半導体チップにストレスが加わり、半
導体チップにクラックが生じる等の問題がある。
脹係数の差により半導体チップにストレスが加わり、半
導体チップにクラックが生じる等の問題がある。
本考案はかかる従来の問題に鑑みて創作されたものであ
り、半導体チップにクラックが発生するのを防止するこ
とのできるセラミックパッケージの提供を目的とする。
り、半導体チップにクラックが発生するのを防止するこ
とのできるセラミックパッケージの提供を目的とする。
本考案は、第1図に示すように、セラミック基体1の上
に空洞部7を有するメタル台座6を設けており、半導体
チップ2はAuペースト又はAuメッキ4およびAu又はAuSi
5を介して該メタル部6の上に固着する構成となってい
る。
に空洞部7を有するメタル台座6を設けており、半導体
チップ2はAuペースト又はAuメッキ4およびAu又はAuSi
5を介して該メタル部6の上に固着する構成となってい
る。
半導体チップ2をメタル台座6の上に固着する際に熱を
加えてAuペースト又はAuメッキ4およびAu又はAuSi5を
溶融するが、このとき熱膨脹係数の差によってストレス
が生じる。しかし、このストレスは空洞部7を有するメ
タル台座6により効率良く吸収することができるので、
半導体チップに加わるストレスを軽減することができ
る。
加えてAuペースト又はAuメッキ4およびAu又はAuSi5を
溶融するが、このとき熱膨脹係数の差によってストレス
が生じる。しかし、このストレスは空洞部7を有するメ
タル台座6により効率良く吸収することができるので、
半導体チップに加わるストレスを軽減することができ
る。
次に図を参照しながら本考案の実施例について説明す
る。
る。
第2図は本考案の実施例に係るセラミックパッケージを
説明する断面図である。図において、8はセラミック基
体,9は該セラミック基体の上に形成されたタングステ
ン(W)からなるメタライズ層,10はその上に形成さ
れたNiメッキである。
説明する断面図である。図において、8はセラミック基
体,9は該セラミック基体の上に形成されたタングステ
ン(W)からなるメタライズ層,10はその上に形成さ
れたNiメッキである。
11は本考案のメタル台座であって、Niメッキ12され
たコバール材によって形成されており、空洞部15を有
している。このメタル台座はロー材(Ag又はCu)13に
よりセラミック基体8に固着されている。また、14は
全体に形成されたAuメッキである。
たコバール材によって形成されており、空洞部15を有
している。このメタル台座はロー材(Ag又はCu)13に
よりセラミック基体8に固着されている。また、14は
全体に形成されたAuメッキである。
本考案の実施例によれば、半導体チップをメタル台座に
固着する際に熱を加えてAuペースト又はAuメッキ4およ
びAu又はAuSi5を溶融するが、このときの熱膨脹差によ
る該半導体チップに加わるストレスをメタル台座によっ
て効率良く吸収することができるので、半導体チップに
クラックが発生するのを防止することができる。
固着する際に熱を加えてAuペースト又はAuメッキ4およ
びAu又はAuSi5を溶融するが、このときの熱膨脹差によ
る該半導体チップに加わるストレスをメタル台座によっ
て効率良く吸収することができるので、半導体チップに
クラックが発生するのを防止することができる。
第3図(a),(b)は本考案の別の実施例に係るメタ
ル台座の形状を示す図である。このような形態のメタル
台座も空洞部を備えているので、熱によるストレスを効
率良く吸収することが可能となる。
ル台座の形状を示す図である。このような形態のメタル
台座も空洞部を備えているので、熱によるストレスを効
率良く吸収することが可能となる。
以上説明したように、本考案によればセラミックパッケ
ージ内に設けたメタル台座の上に半導体チップを固着す
る構成であるから、固着する際の熱によるストレスを該
メタルに台座により吸収することが可能となる。このた
め、半導体チップに加わるストレスを軽減することがで
きるので、半導体チップにクラックが発生するのを防止
することが可能となる。
ージ内に設けたメタル台座の上に半導体チップを固着す
る構成であるから、固着する際の熱によるストレスを該
メタルに台座により吸収することが可能となる。このた
め、半導体チップに加わるストレスを軽減することがで
きるので、半導体チップにクラックが発生するのを防止
することが可能となる。
第1図は本考案のセラミックパッケージを説明する断面
図、 第2図は本考案の実施例に係るセラミックパッケージを
説明する図、 第3図は本考案の別の実施例に係るメタル台座を説明す
る図、 第4図は従来例に係るセラミックパッケージを説明する
図である。 (符号の説明) 1,8…セラミック基体、 2…半導体チップ、 3…ボンディングワイヤ、 4…Auペースト又はAuメッキ、 5…Au又はAuSi、 6…メタル台座、 7,15…空洞部、 9…メタライズ層(W)、 10,12…Niメッキ、 11…コバール材、 13…ロー材(Ag,Cu)、 14…Auメッキ。
図、 第2図は本考案の実施例に係るセラミックパッケージを
説明する図、 第3図は本考案の別の実施例に係るメタル台座を説明す
る図、 第4図は従来例に係るセラミックパッケージを説明する
図である。 (符号の説明) 1,8…セラミック基体、 2…半導体チップ、 3…ボンディングワイヤ、 4…Auペースト又はAuメッキ、 5…Au又はAuSi、 6…メタル台座、 7,15…空洞部、 9…メタライズ層(W)、 10,12…Niメッキ、 11…コバール材、 13…ロー材(Ag,Cu)、 14…Auメッキ。
Claims (1)
- 【請求項1】半導体チップを格納するセラミックパッケ
ージにおいて、 セラミック基体に固着され、該セラミック基体との間に
空洞部を備えるメタル台座と、 該メタル台座に固着された半導体チップとを有すること
を特徴とするセラミックパッケージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987114866U JPH0621237Y2 (ja) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | セラミツクパツケ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987114866U JPH0621237Y2 (ja) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | セラミツクパツケ−ジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6420727U JPS6420727U (ja) | 1989-02-01 |
| JPH0621237Y2 true JPH0621237Y2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=31356000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987114866U Expired - Lifetime JPH0621237Y2 (ja) | 1987-07-27 | 1987-07-27 | セラミツクパツケ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621237Y2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57111050A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-10 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
| US4415025A (en) * | 1981-08-10 | 1983-11-15 | International Business Machines Corporation | Thermal conduction element for semiconductor devices |
| JPS6183041U (ja) * | 1984-11-07 | 1986-06-02 |
-
1987
- 1987-07-27 JP JP1987114866U patent/JPH0621237Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6420727U (ja) | 1989-02-01 |
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