JPH06338025A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 補強ガラスとして６００°Ｃに近い温度ある
いはそれを越える温度で溶融するガラスを用いても、補
強ガラスと金属磁性膜との間の反応防止膜のＣｒが金属
磁性膜の中に拡散しないようにする。 【構成】 補強ガラス９と金属磁性膜５，５との間にク
ロムからなる反応防止膜１１，１１と、二酸化珪素また
は酸化クロム等からなる酸化物膜１２，１２が積層して
形成されている。６００°Ｃに近い温度あるいはそれを
越える温度で溶融している補強ガラス９を充填しても酸
化物膜１２，１２によって、反応防止膜１１，１１のク
ロムが金属磁性膜５，５の中に拡散することを阻止され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも一方が酸化
物磁性材料の基板と金属磁性膜により構成される一対の
磁気コア半体をギャップ材を介在させて突き合わせると
共にギャップ近傍の斜面部に補強ガラスを充填してなる
所謂メタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型複合磁気ヘッ
ドに関する。更に詳述すると、本発明は、金属磁性膜と
補強ガラスとの反応を防止する膜の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＭＩＧヘッドは、コアの大部分をフェラ
イトなどの酸化物磁性材料の基板で構成し、ギャップを
構成する磁気コア半体の突き合わせ面にのみセンダスト
等の高磁束密度材料の薄膜を使用したものである。この
ＭＩＧヘッドは、例えば特開平１−１００７１４号に示
すように、酸化物磁性材料の基板と金属磁性膜により構
成される一対の磁気コア半体をギャップ材を介在させて
突き合わせ、低融点補強ガラスで接合するようにしてい
る。このため、ガラスと金属磁性膜との間などでの反応
が問題となる。

【０００３】そこで、図３および図４に示すようなＭＩ
Ｇヘッドの構造の採用が考えられている。このＭＩＧヘ
ッドは、フェライト等の酸化物磁性材料からなる一対の
基板１０１，１０１と、この一対の基板１０１，１０１
の少なくとも一方のギャップ対向面（本明細書では磁気
ギャップに対して平行な突き合わせ接合面のうち特にギ
ャップを構成する部分をいう）１０２に連続する斜面部
１０３を有する巻線溝１０４と、一対の基板１０１，１
０１が互いに向かい合う面に形成したセンダスト等の金
属磁性材料からなる金属磁性膜１０５，１０５と、一対
の基板１０１，１０１のギャップ対向面１０２，１０２
を接着してギャップ１０６を形成する二酸化ケイ素（Ｓ
ｉＯ₂ ）等の非磁性材料からなるギャップ材１０７と、
一対の基板１０１，１０１が接着された状態で巻線溝１
０４から形成された巻線窓１０８の斜面部１０３の箇所
に充填された補強ガラス１０９と、基板１０１，１０１
と金属磁性膜１０５，１０５との境界に形成された二酸
化ケイ素（ＳｉＯ₂ ）等の酸化物非磁性材からなる第１
の反応防止膜１１０，１１０と、金属磁性膜１０５，１
０５と補強ガラス１０９との境界に形成されたクロム
（Ｃｒ）からなる第２の反応防止膜１１１，１１１とか
ら構成されている。

【０００４】ここで、第１の反応防止膜１１０，１１０
は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂ ）等の酸化物非磁性材から
なり、フェライト等の酸化物磁性材料から成る基板１０
１，１０１とセンダスト等の金属磁性膜１０５，１０５
とが反応することを防止している。また、第２の反応防
止膜１１１，１１１は、クロム（Ｃｒ）からなり、セン
ダスト等の金属磁性膜１０５，１０５と低融点補強ガラ
ス（ＰｂＯ，Ｋ₂ Ｏ，Ｂ₂ Ｏ，ＣａＯ等）１０９とが反
応して、金属磁性膜１０５，１０５中にガラス成分が拡
散したり、ガラス中のＰｂが偏析したりするのを防止し
ている。

【０００５】このような構造のＭＩＧヘッドは、基板１
０１，１０１の突き合わせ面に反応防止膜１１０，１１
０、金属磁性膜１０５，１０５、反応防止膜１１１，１
１１及びギャップ材１０７の各膜がスパッタリング等の
薄膜形成法によって順次積層された一対の磁気コア半体
を突き合わせ、ギャップ近傍の斜面部１０３に溶融した
補強ガラス１０９を充填して固めることによって得られ
る。このＭＩＧヘッドは、通常大きなブロックに形成さ
れ、スライスによって所望の大きさのヘッドコアチップ
として切り出され、ヘッドホルダやスライダなどに固着
されて使用されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、例えばハー
ドディスクドライブ（ＨＤＤ）のようにヘッドコアチッ
プをスライダーにガラスボンデイングする場合、ボンデ
イング用の溶融ガラスの温度によって先に充填固化した
補強ガラス１０９が溶融してしまうことのないように、
補強ガラス１０９としてはボンディング用のガラスに比
較して融点の高いものを用いる必要がある。例えば補強
ガラス１０９の融点を５００゜Ｃ後半以上とし、ボンデ
イング用のガラスをそれ以下の温度にする。

【０００７】しかしながら、第２の反応防止膜１１１を
構成するＣｒは、それ自体たいへん拡散し易い金属であ
り、５００°Ｃ台の前半の温度下で溶融する低融点補強
ガラスを補強ガラス１０９として用いる場合には、第２
の反応防止膜１１１，１１１としてクロムを用いても特
に問題を生じないが、６００°Ｃに近い温度あるいはそ
れを越すような高い温度下でしか溶融しないガラスを補
強ガラス１０９として用いると、クロムが金属磁性膜１
０５，１０５の中に拡散し、金属磁性膜１０５，１０５
と補強ガラス１０９との反応を防止するという第２の反
応防止膜１１１，１１１としての機能を果たせなくなる
問題が起きるばかりか、またクロムが金属磁性膜１０
５，１０５に拡散することによって、金属磁性膜１０
５，１０５の持つ軟磁気特性が劣化してしまうという問
題も起きる。

【０００８】本発明は、６００°Ｃに近い温度あるいは
それを越すような温度で溶融するガラスを補強ガラスと
して充填しても、反応防止膜の素材が金属磁性膜の中に
拡散することがなく、補強ガラスと金属磁性膜との間の
反応を確実に防止でき、また金属磁性膜の軟磁気特性を
劣化させることのない構造の磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、本発明は、少なくとも一方の磁気コア半体が酸化物
磁性材料の基板と金属磁性膜により構成されかつギャッ
プ対向面に連続する斜面部を有する一対の磁気コア半体
をギャップ材を介在させて突き合わせると共にこれら一
対の磁気コア半体間の前記斜面部に補強ガラスを充填し
てなる磁気ヘッドにおいて、補強ガラスと金属磁性膜と
の間に、クロムからなる反応防止膜と酸化物膜とを金属
磁性膜側に酸化物膜が位置するように積層されている。

【００１０】

【作用】したがって、６００°Ｃに近い温度あるいはそ
れを越すような温度で溶融する補強ガラスを磁気コア半
体間の斜面部に充填しても、反応防止膜のクロムが金属
磁性膜の中に拡散することが酸化物膜によって阻止され
る。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の構成を図面に示す実施例に基
づいて詳細に説明する。

【００１２】図１および図２に本発明の第１の実施例の
磁気ヘッドを示す。この磁気ヘッドは、図１に示すよう
に、酸化物磁性材の基板１に金属磁性膜５とその他の幾
つかの極めて薄い膜が成膜された一対の磁気コア半体
Ａ，Ｂを突き合わせて接合することによって構成されて
いる。磁気コア半体Ａ，Ｂは、フェライト等の酸化物磁
性材料からなる基板１と、この基板１のギャップ突き合
わせ面（ギャップ対向面２を含む）に形成された二酸化
ケイ素（ＳｉＯ₂ ）等の酸化物からなる第１の反応防止
膜１０と、センダスト等の金属磁性材料からなる金属磁
性膜５と、二酸化ケイ素や酸化クロム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）な
どからなる酸化物膜１２とクロム（Ｃｒ）からなる第２
の反応防止膜１１，１１とから構成されている。また、
少なくとも一方の磁気コア半体例えば磁気コア半体Ａに
はギャップ対向面２に連続する斜面部３を有する巻線溝
４が形成されている。本実施例の場合、他方の磁気コア
半体Ｂは平坦な板状に形成され、その内側の面即ち突き
合わせ面に各膜１０，５，１２，１１が成膜されてい
る。これら一対の磁気コア半体Ａ，Ｂのギャップ対向面
２，２の間にはギャップ６を形成する二酸化ケイ素（Ｓ
ｉＯ₂ ）等の非磁性材料からなるギャップ材７が介在さ
れている。そして、突き合わせられた一対の磁気コア半
体Ａ，Ｂの間に形成された巻線窓８の斜面部３の箇所に
補強ガラス９が充填されている。ここで、補強ガラス９
は６００°Ｃ台に近い温度あるいはそれを越すような温
度溶融状態で充填されるが、酸化物膜１２，１２が第２
の反応防止膜１１，１１と金属磁性膜５，５との間に形
成されているのでクロムが金属磁性膜５，５の中に拡散
することがない。

【００１３】以上のように構成された磁気ヘッドは例え
ば次のようにして製造される。まず、平板状のフェライ
ト基板１と巻線溝４を形成した舟形のフェライト基板１
のそれぞれのギャップ対向面２及びその他の突き合わせ
面や巻線溝４内にスパッタリング等の薄膜形成技術によ
って二酸化ケイ素等の酸化物からなる第１の反応防止膜
１０，１０をそれぞれ形成する。次いで、この第１の反
応防止膜１０，１０の上に、金属磁性膜５，５となるセ
ンダスト合金を成膜する。その後、金属磁性膜５，５の
上に二酸化ケイ素や酸化クロム等の酸化物膜１２を成膜
した後、更にその上からＣｒの第２の反応防止膜１１，
１１を形成する。これによって、一対の磁気コア半体
Ａ，Ｂを得る。尚、上述の各膜５，１２，１１はスパッ
タリングなどによって順次成膜される。その後、いずれ
か一方若しくは双方の磁気コア半体Ａ，Ｂの第２の反応
防止膜１１の上にギャップ材７を成膜して一対の磁気コ
ア半体Ａ，Ｂを接着する。このとき、磁気コア半体Ａ，
Ｂ間の斜面部３には溶融した補強ガラス９が充填され固
められている。

【００１４】ここで、酸化物膜１２，１２およびクロム
の反応防止膜１１，１１の積層は、例えば次の方法によ
って行われる。 金属磁性膜５の上面にスパッタリング等により二酸化
珪素または酸化クロム等から酸化物膜１２を形成する。
次にその酸化物膜１２の上面に対してやはりスパッタリ
ング等によりクロムからなる反応防止膜１１を形成す
る。 スパッタリング等により金属磁性膜５を形成した後、
いったん大気中にさらして金属磁性膜５の上面に酸素を
付着させる。次に再度スパッタリング等によりクロムの
膜を成膜する。この場合、初期の段階で酸素とクロムと
が反応して酸化クロムの層（酸化物層１２）が形成さ
れ、続いてクロムの層（反応防止膜１１）が形成され
る。 酸素入りの不活性ガス（例えばＡｒ）を用いてクロム
をスパッタするリアクティブスパッタにより、初期層と
して酸化クロムの層（酸化物膜１２）が形成される。続
いてスパッタリング等によってクロムの層（反応防止膜
１１）を形成する。

【００１５】なお、上述の実施例は本発明の好適な実施
の一例ではあるがこれに限定されるものではなく本発明
の要旨を逸脱しない範囲において種々変形実施可能であ
る。例えば、本実施例では両方の磁気コア半体Ａ，Ｂに
金属磁性膜５がそれぞれ形成されたＭＩＧヘッドについ
て説明したが、本発明はこれに限定されるものではな
く、例えば片方の磁気コア半体にのみ金属磁性膜が形成
されたＭＩＧヘッドにも応用できることは言うまでもな
い。この場合にはギャップ材あるいは反応防止膜１１を
介在させて突き合わせられる一方の磁気コア半体の金属
磁性膜とこれに対向する他方の磁気コア半体の酸化物磁
性材との間でギャップが構成される。また、両磁気コア
半体Ａ，Ｂの形状は図示の如き非対称形状に限られず対
称形状であっても良い。

【００１６】

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
の磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体間の斜面部に充填
される補強ガラスと金属磁性膜との間に、クロムからな
る反応防止膜と酸化物膜とを金属磁性膜側に酸化物膜が
位置するように積層しているので、６００°Ｃに近い温
度あるいはそれを越すような温度で溶融している補強ガ
ラスを充填しても、酸化物膜によって反応防止膜のクロ
ムが金属磁性膜の中に拡散することを阻止でき、補強ガ
ラスと金属磁性膜との間の反応を確実に防止できると共
に金属磁性膜の軟磁気特性を劣化させることがない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す図で、磁
気ヘッドの全体の斜視図である。

【図２】図１のIIで示す囲み部分の拡大斜視図である。

【図３】従来の磁気ヘッドの全体を示す斜視図である。

【図４】図３のIVで示す囲み部分の拡大斜視図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ ギャップ対向面 ３ 斜面部 ４ 巻線溝 ５ 金属磁性膜 ６ ギャップ ７ ギャップ材 ９ 補強ガラス １１ クロムからなる反応防止膜 １２ 酸化物膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも一方の磁気コア半体が酸化物
   磁性材料の基板と金属磁性膜により構成されかつギャッ
   プ対向面に連続する斜面部を有する一対の磁気コア半体
   をギャップ材を介在させて突き合わせると共にこれら一
   対の磁気コア半体間の前記斜面部に補強ガラスを充填し
   てなる磁気ヘッドにおいて、前記補強ガラスと金属磁性
   膜との間に、クロムからなる反応防止膜と酸化物膜とを
   前記金属磁性膜側に前記酸化物膜が位置するように積層
   されていることを特徴とする磁気ヘッド。