JPH07281365A - 写真感光材料の処理方法 - Google Patents

写真感光材料の処理方法

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JPH07281365A
JPH07281365A JP6069718A JP6971894A JPH07281365A JP H07281365 A JPH07281365 A JP H07281365A JP 6069718 A JP6069718 A JP 6069718A JP 6971894 A JP6971894 A JP 6971894A JP H07281365 A JPH07281365 A JP H07281365A
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general formula
amount
silver halide
processing
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JP6069718A
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Hideki Komatsu
秀樹 小松
Shoji Nishio
昌二 西尾
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 迅速処理適性を有し、かつ、銀スラッジの発
生を著しく軽減し、同時に処理液の補充量の軽減が可能
なハロゲン化銀写真感光材料の処理方法の提供。 【構成】 写真感光材料のバッキング層に一般式〔１〕
で示される化合物を５〜200mg／m2含有するハロゲン化
銀写真感光材料を現像液補充量200ml／m2以下で処理す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法に関するものであり、特に迅速処理可能
な写真感光材料を現像処理する際に現像タンクや現像ラ
ック、ローラー等に付着する銀汚れ（以下、銀スラッジ
という）を少なくし、さらに現像液の低補充化可能なハ
ロゲン化銀写真感光材料の処理方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】近年印刷製版分野ではスキャナー方式が
広く用いられている。スキャナー方式による画像形成方
法を実用した記録装置は種々のものがあり、これらのス
キャナー方式記録装置の記録用光源には、グローラン
プ、キセノンランプ、タングステンランプ、ＬＥＤ、あ
るいは、He−Neレーザー、アルゴンレーザー、半導体レ
ーザーなどがある。これらのスキャナーに使用される感
光材料には種々の特性が要求されるが、特に10-3〜10-7
秒という短時間露光で露光されるためにこのような条件
下でも、高感度でかつ高コントラストであることが必須
条件となる。しかしながら印刷業界においては作業の効
率化、スピードアップは強く望まれており、スキャニン
グの高速化及び感光材料の処理時間の短縮化に対する広
範囲なニーズが存在している。これら印刷分野のニーズ
に答えるために、露光機（スキャナー、プロッター）に
おいてはスキャニングの高速化、及び高画質化のための
線数増加やビームのしぼり込みが望まれており、ハロゲ
ン化銀写真感光材料においては、高感度で安定性に優
れ、かつ迅速に現像処理出来ることが望まれている。こ
こでいう迅速現像処理とはフィルムの先端を自動現像機
に挿入してから、現像槽、渡り部分、定着槽、渡り部
分、水洗槽、乾燥部分を通過してフィルムの先端が乾燥
部から出て来た時間が15〜60秒である処理を言う。
【０００３】迅速に現像処理するためには、現像液の活
性を上げることが必要である。現像主薬の濃度を上げた
り、現像液のpＨを高くすることで現像液の活性は上げ
られるが、空気酸化による劣化が著しい。そのため現像
液の活性を維持するために現像主薬の空気酸化を最小限
度に抑えるために現像液に多量の亜硫酸塩を使用する。
しかし、亜硫酸塩のようにハロゲン化銀に対して溶解作
用を有する化合物を含む現像液で処理する場合、現像液
中にハロゲン化銀写真感光材料から多量の銀錯体の溶出
が起こる。現像液中に溶出した銀錯体は、現像主薬によ
り還元されて現像タンクやバット、自現機の現像タン
ク、ローラー等に銀が付着蓄積する。これは、銀汚れ又
は銀スラッジとも言われ、処理する感光材料に付着して
画像を汚したりするので定期的に機器の洗浄、メンテナ
ンスが必要になる。従って現像液の活性を維持するため
に亜硫酸塩の添加量を増やすと現像液中への銀錯体の溶
出量が増加し、銀汚れの程度も益々大きくなり、迅速処
理上のメリットを生かしきれない欠点がある。また写真
感光材料において、迅速性を高める手段として、ハロゲ
ン化銀乳剤層の上部にある保護層のバインダー量を少な
くしたり、乳剤層を含む全親水性コロイド層の膨潤度を
大きくしたりすることがある。しかし、バインダー量を
減らしたり、膨潤量を大きくすることは、感材中への銀
錯体の溶出が多くなり、現像液中で還元されて銀汚れの
原因となる。
【０００４】一方、環境問題が世界的規模で深刻になっ
ている現在、写真業界も環境への対応が強く望まれてい
る。特に、写真廃液の多くは、未処理もしくは不完全な
処理状態で海洋投棄されているのが現状であり、海洋投
棄によって引き起こされる海洋生物の生息環境悪化等
が、深刻な環境問題になっている。将来的には、廃液に
対する環境規制も厳しくなり、現在よりも高いレベルで
廃液処理を行わなければならなくなることが予想され
る。写真処理の分野では、省資源化、廃液量の減量、使
用容器の減量等の点から、感光材料の処理に使用された
処理液の廃液量の低減が切望されており、種々の技術開
発が行われている。その最も効果的な手段として、現像
処理液の補充量を低減することが提唱されている。
【０００５】しかしながら、廃液量を低減する手段とし
ての補充量低減に伴う問題の一つに、自動現像機内の銀
イオンの濃度上昇による銀スラッジが発生し易くなるこ
とが知られている。この銀スラッジ防止技術としては、
メルカプト基を有する有機化合物の現像液への添加等が
報告されているが、感度低下等写真性能への悪影響から
銀スラッジを完全に防止するだけの量を添加できない等
の問題もあり、特に更なる迅速処理を考慮した場合、メ
ルカプト基を有する有機化合物の現像液への添加による
現像活性低下の影響を考えると添加可能な量が更に限定
され、銀スラッジ防止剤として充分に満足すべきもので
はなく問題解決に至るまでの効果は得られていない。
【０００６】このように、迅速処理適性を有し、かつ、
銀スラッジを軽減し更に処理液の補充量の軽減を可能に
するハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法の改良が
強く望まれていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
課題に鑑み迅速処理適性を有し、かつ銀スラッジの発生
を著しく軽減し、さらに処理液の補充量の軽減が可能な
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供することで
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、以
下の構成によって達成された。
【０００９】 写真感光材料のバッキング層に一般式
〔１〕で示される化合物を５〜200mg／m2含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を現像液補充量200ml／m2以下で
処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法。
【００１０】 前記一般式〔１〕で示される化合物を
７〜150mg／m2含有することを特徴とする前記記載の
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【００１１】 前記現像液補充量が50〜160ml／m2で
あることを特徴とする前記または記載のハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法。
【００１２】 全処理時間が15〜60秒であることを特
徴とする前記乃至記載のハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
【００１３】
【化２】
【００１４】以下、本発明について詳述する。
【００１５】まず、本発明の上記一般式〔１〕で示され
る化合物について説明する。
【００１６】式中、Ｚで示される複素環は、例えばオキ
サゾール、ベンゾオキサゾール、チアゾール、ベンゾチ
アゾール、トリアジン、ピリミジン、テトラザインドリ
ジン、トリアザインデン、プリン等の各環が挙げられ、
好ましくはベンゼン環が縮合されてもよい５〜６員の複
素環である。Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アルカ
リ土類金属原子又はアンモニウムイオン等のカチオンを
表す。又、該複素環は、一般式〔１〕に記載された−Ｓ
Ｍ基以外の置換基を有していてもよく、該置換基として
は、例えばハロゲン原子、スルホ基、水酸基、低級アル
キル基、フェニル基等が挙げられる。
【００１７】以下に一般式〔１〕で示される化合物の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００１８】
【化３】
【００１９】
【化４】
【００２０】一般式〔１〕で示される化合物は、本発明
においては一般式〔Ａ〕〜〔Ｃ〕で示される構造を有す
ることが望ましい。
【００２１】まず最初に、一般式〔Ａ〕で示される構造
を有する化合物について説明する。
【００２２】
【化５】
【００２３】式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホノ基、アミノ基、
ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アルコキシ基を表す。
【００２４】アルキル基、アリール基、アラルキル基、
アミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アル
コキシ基は更に置換基を有していてもよく、この置換基
としては、Ｒ1、Ｒ2で挙げた基を同様に挙げることが出
来る。また、Ｒ1、Ｒ2が連結して環構造を形成してもよ
い。Ｒ1、Ｒ2の好ましい例としてＲ1、Ｒ2のどちらか一
方が、炭素数１〜10の置換基を有していてもよいアルキ
ル基、炭素数６〜12の置換基を有していてもよいアリー
ル基、炭素数７〜12の置換基を有していてもよいアラル
キル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子を挙げるこ
とが出来る。Ｒ1、Ｒ2が連結して飽和の５〜６員環を形
成する場合も好ましい例として挙げることが出来る。
【００２５】Ｒ1、Ｒ2のさらに好ましい例として、Ｒ1
は水素原子、あるいはアミノ基（ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基等）やヘテロ環（モルホリノ基、N-メチ
ルピペラジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基
等）を置換基として有するアルキル基を挙げることがで
き、Ｒ2としては炭素数１〜10の置換基を有していても
よいアルキル基、炭素数６〜12の置換基を有していても
よいアリール基を挙げることが出来る。具体的にＲ1と
してジメチルアミノメチル基、モルホリノメチル基、N-
メチルピペラジニルメチル基、ピロリジニルメチル基等
を挙げることが出来る。Ｒ2としてメチル基、エチル
基、フェニル基、p-メトキシフェニル基等を挙げること
が出来る。
【００２６】以下に一般式〔Ａ〕で示される化合物を具
体的に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００２７】
【化６】
【００２８】
【化７】
【００２９】次に、一般式〔Ｂ〕で示される構造を有す
る化合物について説明する。
【００３０】
【化８】
【００３１】本発明に用いられる一般式〔Ｂ〕におい
て、Ｚ21、Ｙ21はそれぞれ不飽和の５員環または、６員
環を形成する環（例えば、ベンゼン、ピロール、イミダ
ゾール、ピラゾール、ピリダミン、ピリミジン等）であ
り、ＺとＹを併せて３つ以上の窒素原子を含み且つ少な
くとも１つのメルカプト基を置換基として有する。一般
式〔Ｂ〕で示される化合物は、メルカプト基以外の置換
基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原
子（例えば、フッ素、塩素、臭素原子）、低級アルキル
基（置換基を有するものを含み、特にメチル基、エチル
基等の炭素数５以下のものが好ましい。）、低級アルコ
キシ基（置換基を有するものを含み、特にメトキシ、エ
トキシ、ブトキシ等の炭素数５以下のものが好まし
い。）、ヒドロキシ基、スルホ基、低級アリル基（置換
基を有するものを含み、特に炭素数５以下のものが好ま
しい。）、アミノ基、COOM21基（Ｍ21は前記一般式
〔１〕のＭと同義）、カルバモイル基、フェニル基等が
挙げられる。特に、ヒドロキシ基、COOM21基、アミノ
基、又はスルホ基を持つことが好ましい。
【００３２】更に一般式〔Ｂ〕において次の一般式
〔ａ〕から〔ｆ〕で表される化合物が特に好ましい。
【００３３】
【化９】
【００３４】式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23は、ハロゲン原
子、低級アルキル基（置換基を有するものを含む。メチ
ル基、エチル基等の炭素数５以下のものが好まし
い。）、低級アルコキシ基（置換基を有するものを含
み、特に炭素数５以下のものが好ましい。）、ヒドロキ
シ基、スルホ基、低級アリル基（置換基を有するものを
含み、特に炭素数５以下のものが好ましい。）、アミノ
基、COOM21基（Ｍ21は前記一般式〔１〕のＭと同義）、
カルバモイル基、フェニル基であり、少なくとも一つは
メルカプト基である。特に、一般式〔ａ〕で表される化
合物のメルカプト基以外の置換基としては、ヒドロキシ
基、COOM21基、アミノ基、又はスルホ基であることが好
ましい。
【００３５】
【化１０】
【００３６】式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24は、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基（置換基を有するものを含む。
メチル基、エチル基等の炭素数５以下のものが好まし
い。）、低級アルコキシ基（置換基を有するものを含
む。炭素数５以下のものが好ましい。）、ヒドロキシ
基、スルホ基、低級アリル基（置換基を有するものを含
み、特に炭素数５以下のものが好ましい。）、アミノ
基、COOM21基（Ｍ21は前記一般式〔１〕のＭと同義）、
カルバモイル基、フェニル基であり、少なくとも一つは
メルカプト基である。特に、一般式〔ｂ〕で表される化
合物のメルカプト基以外の置換基としてはヒドロキシ
基、COOM21基、アミノ基又は、スルホ基であることが好
ましい。
【００３７】
【化１１】
【００３８】式中、Ｒ21、Ｒ22は、ハロゲン原子、低級
アルキル基（置換基を有するものを含み、特にメチル
基、エチル基等の炭素数５以下のものが好ましい。）、
低級アルコキシ基（置換基を有するものを含み、特に炭
素数５以下のものが好ましい。）、ヒドロキシ基、スル
ホ基、低級アリル基（置換基を有するものを含み、特に
炭素数５以下のものが好ましい。）、アミノ基、COOM21
基（Ｍ21は前記一般式〔１〕Ｍと同義）、カルバモイル
基、フェニル基であり、少なくとも一つはメルカプト基
である。特に、一般式〔ｃ〕で表される化合物のメルカ
プト基以外の置換基としてはヒドロキシ基、COOM21基、
アミノ基、又はスルホ基であることが好ましい。
【００３９】
【化１２】
【００４０】式中、Ｒ21、Ｒ22は、ハロゲン原子、低級
アルキル基（置換基を有するものを含み、特にメチル
基、エチル基等の炭素数５以下のものが好ましい。）、
低級アルコキシ基（置換基を有するものを含み、特に炭
素数５以下のものが好ましい。）、ヒドロキシ基、スル
ホ基、低級アリル基（置換基を有するものを含み、特に
炭素数５以下のものが好ましい。）、アミノ基、COOM21
基（Ｍ21は前記一般式〔１〕のＭと同義）、カルバモイ
ル基、フェニル基であり、少なくとも一つはメルカプト
基である。特に、一般式〔ｄ〕で表される化合物のメル
カプト基以外の置換基としてはヒドロキシ基、COOM
21基、アミノ基、又はスルホ基等の水溶性基であること
が好ましい。
【００４１】
【化１３】
【００４２】式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24は、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基（置換基を有するものを含み、
特にメチル基、エチル基等の炭素数５以下のものが好ま
しい。）、低級アルコキシ基（置換基を有するものを含
み、特に炭素数５以下のものが好ましい。）、ヒドロキ
シ基、スルホ基、低級アリル基（置換基を有するものを
含み、特に炭素数５以下のものが好ましい。）、アミノ
基、COOM21基（Ｍ21は前記一般式〔１〕のＭと同義）、
カルバモイル基、フェニル基であり、少なくとも一つは
メルカプト基である。特に、一般式〔ｅ〕で表される化
合物のメルカプト基以外の置換基としてはヒドロキシ
基、COOM21基、アミノ基、又はスルホ基であることが好
ましい。
【００４３】
【化１４】
【００４４】式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23は各々水素原子、
−SM21基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、−COOM22
基、アミノ基、−SO3M23基または低級アルキル基であ
り、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23のうち少なくとも一つは前記−SM
21基を有する。Ｍ21、Ｍ22、Ｍ23は各々水素原子、アル
カリ金属原子またはアンモニウム基を表し、同じであっ
ても異なってもよい。
【００４５】上記の一般式〔ｆ〕において、Ｒ21、
Ｒ22、Ｒ23で表される低級アルキル基および低級アルコ
キシ基はそれぞれ炭素を１〜５個有する基であり、それ
らは更に置換基を有していてもよく、好ましくは炭素数
を１〜３個有する基であり、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23で表され
るアミノ基は置換または非置換のアミノ基を表し、好ま
しい置換基としては低級アルキル基である。
【００４６】上記の一般式〔ｆ〕において、アンモニウ
ム基としては置換または非置換のアンモニウム基であ
り、好ましくは非置換のアンモニウム基である。
【００４７】以下に一般式〔ａ〕〜〔ｆ〕で表される化
合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【００４８】
【化１５】
【００４９】
【化１６】
【００５０】
【化１７】
【００５１】
【化１８】
【００５２】
【化１９】
【００５３】
【化２０】
【００５４】次に、一般式〔Ｃ〕で示される構造を有す
る化合物について説明する。
【００５５】
【化２１】
【００５６】式中、Ｚ31、Ｙ31はそれぞれ不飽和の５員
環又は６員環を形成する環であり、かつＺ31とＹ31をあ
わせて３つ以上の窒素原子を含み、かつ少なくとも１つ
のメルカプト基を置換基として有する。
【００５７】一般式〔Ｃ〕で表される化合物において、
つぎの下記一般式〔ｇ〕及び一般式〔ｈ〕から選ばれる
化合物が好ましい。
【００５８】
【化２２】
【００５９】一般式〔ｇ〕および一般式〔ｈ〕におい
て、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34は各々水素原子、−SM
31基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、−COOM32基、
アミノ基、−SO3M33基または低級アルキル基であり、Ｒ
31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34のうち少なくとも一つは−SM31基
を有する。Ｍ31、Ｍ32、Ｍ33は各々水素原子、アルカリ
金属原子またはアンモニウム基を表し、同じであっても
異なってもよい。
【００６０】上記の一般式〔ｇ〕および一般式〔ｈ〕に
おいて、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34で表される低級アルキ
ル基および低級アルコキシ基はそれぞれ炭素を１〜５個
有する基であり、それらは更に置換基を有していてもよ
く、好ましくは炭素数を１〜３個有する基であり、
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34で表されるアミノ基は置換また
は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基としては低
級アルキル基である。
【００６１】以下に一般式〔ｇ〕および一般式〔ｈ〕で
示される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【００６２】一般式〔ｇ〕で表される化合物の具体例。
【００６３】
【化２３】
【００６４】一般式〔ｈ〕で表される化合物の具体例。
【００６５】
【化２４】
【００６６】本発明の上記一般式〔１〕で示される化合
物のバッキング層への添加の際の好ましい添加量の態様
は５〜200mg／m2であり、溶出銀量の低減、写真特性等
種々の条件を考慮するとさらに好ましくは７〜150mg／m
2、最も好ましくは10〜100mg／m2である。
【００６７】本発明においては、現像液補充量を200ml
／m2以下で処理すると溶出銀量を現行の溶出銀量以下の
レベルにすることが出来、160ml／m2以下、さらには100
ml／m2以下でさえも該溶出銀量のレベルを低く保つこと
が可能であり、その結果現像液の補充量を低減するにと
もない銀スラッジの発生を防止することが出来る。
【００６８】本発明の現像液補充量の好ましい態様は上
記を踏えて、50〜160ml／m2、さらに好ましくは70〜120
ml／m2である。
【００６９】本発明に用いられる写真感光材料は、ヒド
ラジン誘導体またはテトラゾリウム化合物のような、い
わゆる硬調化剤を含んでいてもよい。
【００７０】本発明に用いられる上記ヒドラジン誘導体
としては下記一般式〔２〕で表される化合物が用いられ
る。
【００７１】
【化２５】
【００７２】一般式〔２〕について以下詳しく説明す
る。
【００７３】式中、Ａで表される脂肪族基は好ましくは
炭素数１〜30のものであり、特に炭素数１〜20の直鎖、
分岐又は環状のアルキル基である。例えばメチル基、エ
チル基、t-ブチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基等が挙げられ、これらはさらに適当な置換基
（例えばアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホキシ基、
スルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基等）で
置換されてもよい。
【００７４】一般式〔２〕においてＡで表される芳香族
基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例えば
ベンゼン環又はナフタレン環などが挙げられる。
【００７５】一般式〔２〕においてＡで表されるヘテロ
環基としては、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫
黄、酸素から選ばれる一つのヘテロ原子を含むヘテロ環
が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾール環、テ
トラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾー
ル環、チオフェン環、フラン環などが挙げられる。
【００７６】Ａとして特に好ましいものは、アリール基
及びヘテロ環基である。
【００７７】Ａのアリール基及びヘテロ環基は、置換基
を持っていてもよい。代表的な置換基としてはアルキル
基（好ましくは炭素数１〜20のもの）、アラルキル基
（好ましくはアルキル部分の炭素数が１〜３の単環又は
縮合環のもの）、アルコキシ基（好ましくはアルキル部
分の炭素数が１〜20のもの）、置換アミノ基（好ましく
は炭素数１〜20のアルキル基又はアルキリデン基で置換
されたアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数
１〜40のもの）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数
１〜40のもの）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜40
のもの）、ヒドラジノカルボニルアミノ基（好ましくは
炭素数１〜40のもの）、ヒドロキシル基、ホスホアミド
基（好ましくは炭素数１〜40のもの）などがある。
【００７８】又、Ａは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促
進基を少なくとも一つ含むことが好ましい。耐拡散基と
してはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常用され
るバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭素数８
以上の写真性に対して比較的不活性である例えばアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、置
換フェニル基、置換フェノキシ基、アルキルフェノキシ
基などが挙げられる。
【００７９】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64-90439号に記載の吸着基など
が挙げられる。
【００８０】Ｂは具体的にはアシル基（例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル、
メトキシアセチル、フェノキシアセチル、メチルチオア
セチル、クロロアセチル、ベンゾイル、2-ヒドロキシメ
チルベンゾイル、4-クロロベンゾイル等)、アルキルス
ルホニル基（例えばメタンスルホニル、2-クロロエタン
スルホニル等）、アリールスルホニル基（例えばベンゼ
ンスルホニル等）、アルキルスルフィニル基（例えばメ
タンスルフィニル等）、アリールスルフィニル基（ベン
ゼンスルフィニル等）、カルバモイル基（例えばメチル
カルバモイル、フェニルカルバモイル等）、アルコキシ
カルボニル基（例えばメトキシカルボニル、メトキシエ
トキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基
（例えばフェノキシカルボニル等）、スルファモイル基
（例えばジメチルスルファモイル等）、スルフィナモイ
ル基（例えばメチルスルフィナモイル等）、アルコキシ
スルホニル基（例えばメトキシスルホニル等）、チオア
シル基（例えばメチルチオカルボニル等）、チオカルバ
モイル基（例えばメチルチオカルバモイル等）、オキザ
リル基、又はヘテロ環基（例えばピリジン環、ピリジニ
ウム環等）を表す。
【００８１】一般式〔２〕のＢはＡ2及びそれらが結合
する窒素原子とともに
【００８２】
【化２６】
【００８３】を形成してもよい。
【００８４】Ｒ9はアルキル基、アリール基又はヘテロ
環基を表し、Ｒ10は水素原子、アルキル基、アリール基
又はヘテロ環基を表す。
【００８５】Ｂとしては、アシル基又はオキザリル基が
特に好ましい。
【００８６】Ａ1，Ａ2は、ともに水素原子、又は一方が
水素原子で他方はアシル基（アセチル、トリフルオロア
セチル、ベンゾイル等）、スルホニル基（メタンスルホ
ニル、トルエンスルホニル等）、又はオキザリル基（エ
トキザリル等）を表す。
【００８７】本発明で用いるヒドラジン化合物のうち特
に好ましいものは下記一般式〔３〕で表される化合物で
ある。
【００８８】
【化２７】
【００８９】式中、Ｒ4はアリール基又はヘテロ環基を
表し、Ｒ5は
【００９０】
【化２８】
【００９１】を表す。
【００９２】Ｒ6，Ｒ7はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ
基、又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ6とＲ7でＮ原子と
ともに環を形成してもよい。Ｒ8は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘ
テロ環基を表す。Ａ1及びＡ2は一般式〔２〕のＡ1及び
Ａ2とそれぞれ同義の基を表す。
【００９３】一般式〔３〕について更に詳しく説明す
る。
【００９４】Ｒ4で表されるアリール基としては、単環
又は縮合環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナ
フタレン環などが挙げられる。
【００９５】Ｒ4で表されるヘテロ環基としては、単環
又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる
一つのヘテロ原子を含む５又は６員の不飽和ヘテロ環が
好ましく、例えばピリジン環、キノリン環、ピリミジン
環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環又はベンゾ
チアゾール環等が挙げられる。
【００９６】Ｒ4として好ましいものは、置換又は無置
換のアリール基である。この置換基としては一般式
〔２〕のＡの置換基と同義のものが挙げられるが、pＨ1
1.2以下の現像液で硬調化する場合はスルホアミド基を
少なくとも一つ有することが好ましい。
【００９７】Ａ1及びＡ2は、一般式〔２〕のＡ1及びＡ2
と同義の基を表すが、ともに水素原子であることが最も
好ましい。
【００９８】Ｒ6及びＲ7は、それぞれ水素原子、アルキ
ル基（メチル、エチル、ベンジル等）、アルケニル基
（アリル、ブテニル等）、アルキニル基（プロパルギ
ル、ブチニル等）、アリール基（フェニル、ナフチル
等）、ヘテロ環基（2,2,6,6-テトラメチルピペリジニ
ル、N-ベンジルピペリジニル、キノリジニル、N,N′-ジ
エチルピラゾリジニル、N-ベンジルピロリジニル、ピリ
ジル等）、アミノ基（アミノ、メチルアミノ、ジメチル
アミノ、ジベンジルアミノ等）、ヒドロキシル基、アル
コキシ基（メトキシ、エトキシ等）、アルケニルオキシ
基（アリルオキシ等）、アルキニルオキシ基（プロパル
ギルオキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ等）、
又はヘテロ環オキシ基（ピリジルオキシ等）を表し、Ｒ
6とＲ7で窒素原子とともに環（ピペリジン、モルホリン
等）を形成してもよい。Ｒ8は水素原子、アルキル基
（メチル、エチル、メトキシエチル、ヒドロキシエチル
等）、アルケニル基（アリル、ブテニル等）、アルキニ
ル基（プロパルギル、ブチニル等）、アリール基（フェ
ニル、ナフチル等）、ヘテロ環基（2,2,6,6-テトラメチ
ルピペリジニル、N-メチルピペリジニル、ピリジル等）
を表す。
【００９９】一般式〔３〕で示される化合物の具体例を
以下に示す。但し、本発明に使用されるヒドラジン化合
物はこれらに限定されるものではない。
【０１００】
【化２９】
【０１０１】
【化３０】
【０１０２】
【化３１】
【０１０３】
【化３２】
【０１０４】
【化３３】
【０１０５】
【化３４】
【０１０６】
【化３５】
【０１０７】
【化３６】
【０１０８】本発明に用いられる一般式〔２〕で表され
る化合物の合成法は、特開昭62-180361号、同62-178246
号、同63-234245号、同63-234246号、同64-90439号、特
開平2-37号、同2-841号、同2-947号、同2-120736号、同
2-230233号、同3-125134号、米国特許4,686,167号、同
4,988,604号、同4,994,365号、ヨーロッパ特許253,665
号、同333,435号などに記載されている方法を参考にす
ることができる。
【０１０９】本発明の一般式〔２〕で表される化合物の
使用量は、ハロゲン化銀１モル当たり５×10-7〜５×10
-1モルであることが好ましく、特に５×10-6〜５×10-2
モルの範囲とすることが好ましい。
【０１１０】本発明において、一般式〔２〕で表される
化合物を写真感光材料中に含有させるときには、ハロゲ
ン化銀乳剤層又は該ハロゲン化銀乳剤層に隣接する親水
性コロイド層に含有させる。
【０１１１】次に造核促進剤としては下記一般式〔４〕
又は〔５〕に示すものが挙げられる。
【０１１２】
【化３７】
【０１１３】一般式〔４〕において、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基を表す。Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43で環を形成する
ことができる。特に好ましくは脂肪族の３級アミン化合
物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハ
ロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を
有するためには分子量100以上の化合物が好ましく、さ
らに好ましくは分子量300以上である。又、好ましい吸
着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、チオウレア基などが挙げられる。
【０１１４】具体的化合物としては以下に示すものが挙
げられる。
【０１１５】
【化３８】
【０１１６】
【化３９】
【０１１７】
【化４０】
【０１１８】
【化４１】
【０１１９】一般式〔５〕において、Ａｒは置換又は無
置換のアリール基、複素芳香環を表す。Ｒは置換されて
いてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基を表す。これらの化合物は分子内に耐拡散性
基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。好
ましい耐拡散基をもたせるためには分子量120以上が好
ましく、特に好ましくは300以上である。
【０１２０】具体的化合物としては以下に示すものが挙
げられる。
【０１２１】
【化４２】
【０１２２】
【化４３】
【０１２３】次に、本発明の感光材料に用いられる上記
テトラゾリウム化合物は下記一般式〔６〕で表される。
【０１２４】
【化４４】
【０１２５】式中Ｒ61、Ｒ62およびＲ63は各々水素原子
または置換基を表し、Ｘ-はアニオンを表す。
【０１２６】本発明において用いられる上記一般式
〔６〕で表されるテトラゾリウム化合物について説明す
る。上記一般式〔６〕において、Ｒ61ないしＲ63が表す
置換基の好ましい例としてアルキル基 (例えばメチル、
エチル、シクロプロピル、プロピル、イソプロピル、シ
クロブチル、ブチル、イソブチル、ペンチル、シクロヘ
キシル等)、アミノ基、アシルアミノ基 (例えばアセチ
ルアミノ)、ヒドロキシル基、アルコキシ基 (例えばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ
等)、アシルオキシ基 (例えばアセチルオキシ)、ハロゲ
ン原子 (例えばフッ素、塩素、臭素等)、カルバモイル
基、アシルチオ基(例えばアセチルチオ)、アルコキシカ
ルボニル基 (例えばエトキシカルボニル)、カルボキシ
ル基、アシル基(例えばアセチル)、シアノ基、ニトロ
基、メルカプト基、スルホオキシ基、アミノスルホキシ
基のような基が挙げられる。
【０１２７】前記Ｘ-で示されるアニオンとしては、例
えば塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等の
ハロゲンイオン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸
根、スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオ
ン系の活性剤、具体的にはp-トルエンスルホン酸アニオ
ン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、ｐ−
ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキル
ベンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェートア
ニオン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、テトラ
フェニルボロン等の硼酸系アニオン、ジ−２−エチルヘ
キシルスルホサクシネートアニオン等のジアルキルスル
ホサクシネートアニオン、セチルポリエテノキシサルフ
ェートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エステ
ルアニオン、ステアリン酸アニオン等の高級脂肪族アニ
オン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに酸根のつ
いたもの等を挙げることができる。
【０１２８】以下、本発明に用いられる一般式〔６〕で
表される化合物の具体例を下記に挙げるが、本発明の化
合物はこれに限定されるものではない。
【０１２９】
【化４５】
【０１３０】本発明に用いられるテトラゾリウム化合物
は、例えばケミカル・レビュー(Ｃhemical Ｒeviews)
第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法にしたがって容易
に合成することができる。
【０１３１】本発明で用いる一般式〔６〕で表されるテ
トラゾリウム化合物は、本発明のハロゲン化銀写真感光
材料に含有されるハロゲン化銀１モル当たり約１mg以上
約10ｇまで、好ましくは約10mg以上約２ｇの範囲で用い
られる。
【０１３２】本発明に用いられる一般式〔６〕で表され
るテトラゾリウム化合物は１種を用いてもまた２種以上
を適宜の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１３３】本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光
材料及び処理には公知の方法による黒白、反転の各種現
像を用いることができる。例えば特開平3-278049号に記
載のような技術を適用することができる。
【０１３４】本発明の感光材料は全処理時間が15秒〜60
秒である自動現像機による迅速現像処理にすぐれた性能
を示す。本発明の迅速現像処理において、現像、定着の
温度および時間は約25℃〜50℃で各々25秒以下である
が、好ましくは30℃〜40℃で４秒〜15秒である。本発明
における全処理時間とは自動現像機の挿入口にフィルム
の先端を挿入してから、現像槽、渡り部分、定着槽、渡
り部分、水洗槽、渡り部分、乾燥部分を通過して、フィ
ルムの先端が乾燥出口からでてくるまでの全時間であ
る。
【０１３５】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
【０１３６】実施例１ ・感光材料１（テトラゾリウム系化合物含有感光材料）
の作成 （ラテックスＬｘ−１の合成）水40リットルにゼラチン
を1.25kg及び過硫酸アンモニウム0.05kgを加えた液に、
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム7.5ｇを加え、
液温50℃で撹拌しながら、窒素雰囲気下で下記に示すモ
ノマー（ア）〜（エ）の混合液をできあがりの平均粒径
が0.1μmとなるような速度で添加し、その後３時間撹拌
後過硫酸アンモニウム0.05kgを加えて1.5時間撹拌、反
応終了後に１時間水蒸気蒸留して残留モノマーを除去し
た後、室温まで冷却してからアンモニウムを用いてpＨ
を6.0に調整し、水で80.5kgに仕上げた。
【０１３７】 （ア）エチルアクリレート 5.0kg （イ）メチルメタクリレート 1.4kg 35℃ （ウ）スチレン 3.0kg （エ）アクリルアミド-2- メチルプロパンスルホン酸ナトリウム 0.6ｇ （ラテックスＬｘ−２の合成）
水40リットルに名糖産業ＫＭＤＳ（デキストラン硫酸エ
ステルナトリウム塩）0.25kgおよび過硫酸アンモニウム
0.05kgを加えた液に、液温80℃で撹拌しつつ、窒素雰囲
気下で下記に示すモノマー（ア）〜（ウ）の混合液を１
時間かけて添加し、その後1.5時間撹拌、反応終了後更
に１時間水蒸気蒸留して残留モノマーを除去した後、室
温まで冷却してから、アンモニウムを用いてpＨを6.0に
調整し、得られたラテックス液を水で50.5kgに仕上げ
た。
【０１３８】 （ア）n-ブチルアクリレート 4.51kg （イ）スチレン 5.49kg （ウ）アクリル酸 0.1kg （ハロゲン化銀乳剤の調製）硝酸銀溶液と、塩化ナトリ
ウム及び臭化カリウム水溶液に六塩化ロジウム錯体を８
×10-5モル／銀１モルとなるように加えた溶液を、ゼラ
チン溶液中に流量制御しながら同時添加し、脱塩後、粒
径0.13μm、臭化銀１モル％を含む立方晶、単分散塩臭
化銀乳剤を得た。
【０１３９】（ハロゲン化銀写真感光材料の調製）上記
乳剤を通常の方法で硫黄増感して、安定剤として6-メチ
ル-4-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザインデンを添加
後、下記の処方１のハロゲン化銀乳剤塗布液を調製し、
ついで処方２の乳剤保護層塗布液、処方３のバッキング
層塗布液、そして処方４のバッキング保護層塗布液を下
記組成にて調製した。
【０１４０】 処方１（ハロゲン化銀乳剤層組成） 化合物（ａ） １mg／m2 NaOH(0.5N) 塗布液をpＨ5.6に調整する量 化合物（ｂ）テトラゾリウム系化合物 具体例６−６ 40mg／m2 化合物（ｃ） 30mg／m2 サポニン（20％水溶液) 0.5ml／m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 20mg／m2 5-メチルベンゾトリアゾール 10mg／m2 化合物（ｄ） ２mg／m2 化合物（ｅ） 10mg／m2 化合物（ｆ） ６mg／m2 ラテックスＬｘ−１ 0.5ｇ／m2 スチレン-マレイン酸共重合性ポリマー（増粘剤） 90mg／m2 上記乳剤塗布液の調製に用いた化合物の構造を示す。
【０１４１】
【化４６】
【０１４２】
【化４７】
【０１４３】 処方２（乳剤保護層組成） ゼラチン 0.5g／m2 化合物（ｇ）（１％水溶液） 25ml／m2 化合物（ｈ） 120mg／m2 球状単分散シリカ（８μm） 20mg／m2 〃 （３μm） 10mg／m2 化合物（ｉ） 100mg／m2 クエン酸 pＨ6.0に調整 ラテックスＬｘ−２ 0.5ｇ／m2 処方３（バッキング層組成） ゼラチン 1.0ｇ／m2 化合物（ｊ） 100mg／m2 化合物（ｋ） 18mg／m2 化合物（ｌ） 100mg／m2 サポニン（20％水溶液） 0.6ml／m2 ラテックス（ｍ） 300mg／m2 5-ニトロインダゾール 20mg／m2 スチレン-マレイン酸 共重合性ポリマー（増粘剤） 45mg／m2 グリオキザール 4mg／m2 化合物（ｏ） 100mg／m2 一般式〔１〕の化合物 表１に記載 処方４（バッキング保護層組成） ゼラチン 0.5g／m2 化合物（ｇ）（１％） ２ml／m2 球状ポリメチルメタクリレート（４μm） 25mg／m2 塩化ナトリウム 70mg／m2 グリオキザール 22mg／m2 化合物（ｎ） 100mg／m2 上記各塗布液の調製に用いた化合物の構造は次の通りで
ある。
【０１４４】
【化４８】
【０１４５】
【化４９】
【０１４６】
【化５０】
【０１４７】以上の様に調製した各塗布液を、乳剤面側
に特開昭59-19941号に示す下引きを施した厚さ100μmの
ポリエチレンテレフタレートベース上に、10Ｗ／（m2・m
in）でコロナ放電をかけた後、下記組成にてロールフィ
ットコーティングパン、およびエアーナイフを使用して
塗布した。尚、乾燥は90℃、総括伝熱係数25Kcal(m2・hr
・℃)の平行流乾燥条件で30分間行い、続いて140℃90秒
で行った。乾燥後のこの層の膜厚は１μm、この層の表
面比抵抗は23℃、RH55％で１×108Ωであった。
【０１４８】（硬膜剤液組成）
【０１４９】
【化５１】
【０１５０】 硫酸アンモニウム 0.5ｇ／リットル ポリエチレンオキシド化合物（平均分子量600） ６ｇ／リットル 硬化剤 12ｇ／リットル
【０１５１】
【化５２】
【０１５２】このベース上にまず乳剤面側として支持体
に近い側より上記処方１の乳剤層、処方２の乳剤保護層
の順に、35℃に保ちながらスライドホッパー方式により
上記組成の硬膜剤液を加えながら同時重層塗布し、冷風
セットゾーン（５℃）を通過させた後、上記処方３のバ
ッキング層及び処方４のバッキング保護層をスライドホ
ッパーにて前述の硬膜剤液を加えながら支持体の裏面へ
塗布し、冷風セット（５℃）した。各々のセットゾーン
を通過した時点では、塗布液は、充分なセット性を示し
た。引き続き乾燥ゾーンにて両面を同時に下記乾燥条件
にて乾燥した。
【０１５３】尚、バッキング側面を塗布した後は巻取り
まではローラー、その他には一切無接触の状態で搬送し
た。このとき塗布速度は100ｍ／minであった。
【０１５４】（乾燥条件）セット後H2O／ゼラチンの重
量比が800％となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、800〜20
0％を35℃、RH30％の乾燥風で乾燥させ、そのまま風を
あて、表面温度34℃となった時点（乾燥終了とみなす）
より30秒後に48℃、相対湿度２％の空気で１分乾燥し
た。このとき、乾燥時間は乾燥開始〜H2O／ゼラチンの
重量比800％までが50秒、800％〜200％までが35秒、200
％〜乾燥終了までが５秒である。
【０１５５】この感光材料を23℃、相対湿度40％で巻取
り、ついで同環境下で断裁し、同環境下で３時間調湿し
たバリアー袋（40℃、相対湿度10％で８時間調湿した後
23℃、相対湿度30％に２時間調湿してある）に、厚紙と
共に密封し、その後表１に示す様に一般式〔１〕で示さ
れる化合物の種類を変えて５種の試料を作成し、さらに
各々一般式〔１〕で示される化合物の添加量を変えなが
ら21の試料を作成した。
【０１５６】以上のようにして作成した感光材料におい
て塗布銀量は、4.0ｇ／m2であり、ゼラチン量は乳剤層
が2.0ｇ／m2であった。
【０１５７】尚、ゼラチン量は、ハロゲン化銀乳剤層、
乳剤保護層に含まれるゼラチンの合計量を示す。
【０１５８】・感光材料２（ヒドラジン系化合物含有感
光材料）の作成 （ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）同時混合法を用いて塩化
銀70モル％、沃化銀0.2モル％、残りは臭化銀からなる
塩沃臭化銀乳剤を調製した。同時混合時にK3RhBr6を銀
１モル当たり8.1×10-8モル添加した。得られた乳剤は
平均粒径0.20μmの立方体、単分散粒子（変動係数９
％）の乳剤であった。ついで乳剤を特開平2-280139号に
記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をヘニルカ
ルバミルで置換したもので例えば特開平2-280139号の例
示Ｇ-８)で脱塩した。脱塩後のＥＡgは50℃で190mvであ
った。
【０１５９】得られた乳剤をpＨ5.58、EAg123mvに調整
してから温度60℃にして塩化金酸を銀１モル当たり2.2
×10-5モル添加し２分間撹拌後、Ｓ8を銀１モル当たり
2.9×10-6モル添加し、さらに78分間の化学熟成を行っ
た。熟成終了時に銀１モル当たり4-ヒドロキシ-6-メチ
ル−1,3,3a,7-テトラザインデンを7.5×10-3モル、1-フ
ェニル-5-メルカプトテトラゾールを3.5×10-4モル及び
ゼラチンを28.4ｇを添加して、ハロゲン化銀乳剤Ａとし
た。
【０１６０】（ハロゲン化銀写真感光材料の調製）実施
例１と同様、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート
フィルムの一方の下塗り層上に、上記の様に調製したハ
ロゲン化銀乳剤Ａを下記の処方１のハロゲン化銀乳剤に
添加して銀量が3.3ｇ／m2、ゼラチン量が2.6ｇ／m2にな
るよう塗布した。
【０１６１】さらにその上層に保護層として下記処方２
の塗布液をゼラチン量が１ｇ／m2になるよう塗布した。
又反対側の下塗り層上には下記処方３のバッキング層を
ゼラチン量が2.7ｇ／m2になるよう塗布し、さらにその
上層に下記の処方４の保護層をゼラチンが１ｇ／m2にな
るよう塗布し、前記実施例１の乾燥条件で乾燥した後、
表２に示す様に一般式〔１〕で示される化合物の種類を
変えて５種の試料を作成し、さらに各々一般式〔１〕で
示される化合物の添加量を変えながら実施例１同様21の
試料を作成した。
【０１６２】処方１（ハロゲン化銀乳剤層組成）
【０１６３】
【化５３】
【０１６４】 ハロゲン化銀乳剤Ａ 3.3ｇ／m2 Ｓ-１(ソディウム-イソ-アミル-n-デシルスルホサクシネート) 0.64mg／m2 2-メルカプト-6-ヒドロキシプリン 1.7g／m2 ＥＤＴＡ 50mg／m2 処方２（乳剤保護層組成） Ｓ-１ 12mg／m2 マット剤：平均粒径3.5μmの単分散シリカ 22mg／m2 1,3-ビニルスルホニル-2-プロパノール 40mg／m2
【０１６５】
【化５４】
【０１６６】 処方３（バッキング層組成） サポニン 133mg／m2 Ｓ-１ 6mg／m2 コロイドシリカ 100mg／m2
【０１６７】
【化５５】
【０１６８】 一般式〔１〕の化合物 （表２に記載） 処方４（バッキング保護層組成） マット剤：平均粒径5.0μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg／m2 ソディウム-ジ-(2-エチルヘキシル)-スルホサクシネート 10mg／m2 次に現像液および定着液の処方を以下に示す。
【０１６９】 〔現像液処方〕 亜硫酸ナトリウム 55ｇ／リットル 炭酸カリウム 40ｇ／リットル ハイドロキノン 24ｇ／リットル 4-メチル-4-ヒドロキシメチル-1-フェニル -3-ヒドラゾリドン（ジメゾンＳ） 0.9ｇ／リットル 臭化カリウム 5ｇ／リットル 5-メチル-ベンゾトリアゾール 0.13ｇ／リットル ほう酸 2.2ｇ／リットル ジエチレングリコール 40ｇ／リットル 2-メルカプトヒポキサンチン 60mg／リットル 水と水酸化カリウムを加えて１リットル／pＨ10.5にす
る。
【０１７０】 〔定着液処方〕 （組成Ａ） チオ硫酸アンモニウム(72.5％Ｗ／Ｖ水溶液) 240ml 亜硫酸ナトリウム 17ｇ 酢酸ナトリウム・3水塩 6.5ｇ 硼酸 6.0ｇ クエン酸ナトリウム・2水塩 2.0ｇ （組成Ｂ） 純水（イオン交換水） 17ml 硫酸(50％W/Vの水溶液) 4.7ｇ 硫酸アルミニウム（Al2O3換算含量が8.1％Ｗ／Ｖの水溶液) 26.5ｇ 定着液の使用時に水500ml中に上記（組成Ａ）、（組成
Ｂ）の順に溶かし、１リットルに仕上げて用いた。この
定着液のpＨは酢酸で4.8に調整した。
【０１７１】得られた感光材料１を自動現像機GR-26SR
(コニカ(株)社製)で現像液補充量をそれぞれ50，100，1
60，200ml／m2にして１日当たり200枚（大全サイズ）、
それを10日間処理した。処理する感光材料は未露光試料
４枚に対して、曝写試料１枚の割合とする。処理条件を
以下に示す。
【０１７２】得られた液中の銀濃度を測定した。結果を
表１に示す。
【０１７３】 現像処理条件（感光材料１） （工程） （温度） （時間） 現像 35℃ 15秒 定着 36℃ 12秒 水洗 常温 10秒 乾燥 50℃ 10秒
【０１７４】
【表１】
【０１７５】表１から明らかな如く、本発明によれば、
迅速処理適正を損うことなく現像液の補充量の低減が可
能であり、かつ溶出容量が極めて微量であるので銀よご
れ防止効果が著しいことがわかる。
【０１７６】次に、得られた感光材料２を感光材料１と
同様にしてランニング処理を行う。ただし、処理する試
料は未露光試料１枚に対して、曝写試料１枚の割合と
し、処理条件は以下に示す。得られた液中の銀濃度を測
定した。結果を表２に示す。
【０１７７】 現像処理条件（感光材料２） （工程） （温度） （時間） 現像 35℃ 30秒 定着 33℃ 20秒 水洗 常温 20秒 乾燥 40℃ 40秒
【０１７８】
【表２】
【０１７９】表２から明らかなように、本発明によれ
ば、現像液の補充量が少量（200ml以下）で処理した場
合でも、溶出銀量が極めて微量であり、銀よごれ防止効
果が著しいことがわかる。
【０１８０】
【発明の効果】本発明の写真感光材料の処理方法は、迅
速処理適性を有し、かつ銀スラッジの発生を著しく軽減
し、同時に処理液の補充量の軽減を可能にすることがで
きるという顕著に優れた効果を奏する。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 写真感光材料のバッキング層に一般式
    〔１〕で示される化合物を５〜200mg／m2含有するハロ
    ゲン化銀写真感光材料を現像液補充量200ml／m2以下で
    処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の
    処理方法。 【化１】 〔式中、Ｚは窒素原子を含有する複素環を表し、Ｍは水
    素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又は
    アンモニウムイオン等のカチオンを表す。〕
  2. 【請求項２】 前記一般式〔１〕で示される化合物を７
    〜150mg／m2含有することを特徴とする請求項１記載の
    ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  3. 【請求項３】 前記現像液補充量が50〜160ml／m2であ
    ることを特徴とする請求項１または請求項２記載のハロ
    ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  4. 【請求項４】 全処理時間が15〜60秒であることを特徴
    とする請求項１乃至請求項３記載のハロゲン化銀写真感
    光材料の処理方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3555788B2 (ja) * 1995-06-21 2004-08-18 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料の現像方法
JP3523416B2 (ja) * 1996-03-05 2004-04-26 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料用液体現像剤およびハロゲン化銀写真感光材料の現像方法
JP2002189271A (ja) 2000-12-21 2002-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法
US8343977B2 (en) 2009-12-30 2013-01-01 Arqule, Inc. Substituted triazolo-pyrimidine compounds
WO2014001973A1 (en) 2012-06-29 2014-01-03 Pfizer Inc. NOVEL 4-(SUBSTITUTED-AMINO)-7H-PYRROLO[2,3-d]PYRIMIDINES AS LRRK2 INHIBITORS
JP6487921B2 (ja) 2013-12-17 2019-03-20 ファイザー・インク ＬＲＲＫ２阻害薬としての新規の３，４−二置換−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジンおよび４，５−二置換−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｃ］ピリダジン
KR102161364B1 (ko) 2015-09-14 2020-09-29 화이자 인코포레이티드 LRRK2 억제제로서 이미다조[4,5-c]퀴놀린 및 이미다조[4,5-c][1,5]나프티리딘 유도체

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522369A1 (de) * 1966-04-19 1969-08-14 Agfa Gevaert Ag Verfahren zur Herstellung photographischer Bilder nach dem Silbersalzdiffusionsverfahren
JPH0833603B2 (ja) * 1985-04-18 1996-03-29 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法
JPH0736076B2 (ja) * 1986-03-24 1995-04-19 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた画像形成方法
JPS63142352A (ja) * 1986-12-04 1988-06-14 Konica Corp 粒状性及び鮮鋭性の改良されたハロゲン化銀カラ−写真感光材料
JPH01131545A (ja) * 1987-08-17 1989-05-24 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
EP0327066A3 (en) * 1988-02-01 1990-06-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Direct positive photographic material
JPH01319031A (ja) * 1988-06-20 1989-12-25 Konica Corp ハロゲン化銀黒白写真感光材料
JPH02150840A (ja) * 1988-12-02 1990-06-11 Konica Corp 迅速処理適性及び保存性に優れたハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0365950A (ja) * 1989-08-04 1991-03-20 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
JPH03287252A (ja) * 1990-04-03 1991-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JP2676426B2 (ja) * 1990-10-25 1997-11-17 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2873634B2 (ja) * 1991-04-11 1999-03-24 コニカ株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
EP0529152B1 (en) * 1991-08-13 1996-12-11 Agfa-Gevaert N.V. A new class of masked stabilizers in photographic materials or developing solutions
EP0529526B1 (en) * 1991-08-22 1999-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Developing solution for silver halide photographic material and method for processing silver halide photographic material by using the same
JPH0772582A (ja) * 1993-03-18 1995-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料および処理方法
JPH06308679A (ja) * 1993-04-27 1994-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法

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DE69514399D1 (de) 2000-02-17

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