JPH0752576A - 感光性平版印刷版及びその支持体 - Google Patents
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、印刷時の汚れを防止する感光性平版
印刷版及びその支持体を提供する。 【構成】本発明は、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行
った支持体を、少なくとも1つのアミノ基と、2つ以上
のホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基より選ばれ
た基とを有する化合物又はこれらの無機酸塩もしくは有
機酸塩の溶液、又は他の特定の溶液により60℃以上の
処理温度で表面処理してなる感光性平板印刷版用支持体
であり、また該支持体表面にフッ素含有化合物を含む感
光層を設けた感光性平板印刷版である。
印刷版及びその支持体を提供する。 【構成】本発明は、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行
った支持体を、少なくとも1つのアミノ基と、2つ以上
のホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基より選ばれ
た基とを有する化合物又はこれらの無機酸塩もしくは有
機酸塩の溶液、又は他の特定の溶液により60℃以上の
処理温度で表面処理してなる感光性平板印刷版用支持体
であり、また該支持体表面にフッ素含有化合物を含む感
光層を設けた感光性平板印刷版である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性平版印刷版及びそ
の支持体に関するものであり、特に新規な支持体を有す
るポジ型の感光性平版印刷版に関するものである。
の支持体に関するものであり、特に新規な支持体を有す
るポジ型の感光性平版印刷版に関するものである。
【0002】
【発明の背景】従来、感光性平版印刷版に用いられる支
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性等に優れたものが要求され、このような観
点から通常砂目立て陽極酸化処理されたアルミニウム板
を親水化処理した支持体が用いられている。また、この
ような支持体の場合、上記のような点からネガ型感光性
平版印刷版において珪酸塩水溶液による親水化処理、ポ
ジ型感光性平版印刷版においてはカルボキシメチルセル
ロース、ポリビニルホスホン酸、フィチン酸等の親水性
化合物による親水化処理が施されることが多かった。し
かしながら、上記の如き支持体の場合、これを用いた感
光性平版印刷版を現像処理して得られた平版印刷版は非
画像部の残膜(感光層が完全に現像されずに微量残って
しまうこと)が多く、印刷時の汚れの原因となる等の重
大な欠点があった。
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性等に優れたものが要求され、このような観
点から通常砂目立て陽極酸化処理されたアルミニウム板
を親水化処理した支持体が用いられている。また、この
ような支持体の場合、上記のような点からネガ型感光性
平版印刷版において珪酸塩水溶液による親水化処理、ポ
ジ型感光性平版印刷版においてはカルボキシメチルセル
ロース、ポリビニルホスホン酸、フィチン酸等の親水性
化合物による親水化処理が施されることが多かった。し
かしながら、上記の如き支持体の場合、これを用いた感
光性平版印刷版を現像処理して得られた平版印刷版は非
画像部の残膜(感光層が完全に現像されずに微量残って
しまうこと)が多く、印刷時の汚れの原因となる等の重
大な欠点があった。
【0003】このような問題を解決するための方法が、
特開昭56−21126号、同63−130391号、
同63−165183号、同64−14090号及び特
開平3−29288号、同3−261592号各公報に
各々記載されているが、これらの方法で得られる平版印
刷版のいずれも汚れ難さが不十分であり印刷時に地汚れ
が発生したり、消去部周辺が汚れる等の問題があった。
さらに、感光層との接着性が不十分であるため耐刷力が
低い欠点を有していた。
特開昭56−21126号、同63−130391号、
同63−165183号、同64−14090号及び特
開平3−29288号、同3−261592号各公報に
各々記載されているが、これらの方法で得られる平版印
刷版のいずれも汚れ難さが不十分であり印刷時に地汚れ
が発生したり、消去部周辺が汚れる等の問題があった。
さらに、感光層との接着性が不十分であるため耐刷力が
低い欠点を有していた。
【0004】
【発明の目的】従って本発明の第1の目的は、印刷時の
汚れを防止する感光性平版印刷版及びその支持体を提供
することにある。本発明の第2の目的は、耐刷力が充分
であると共に、消去部周辺の汚れの発生を抑制できる感
光性平版印刷版及びその支持体を提供することにある。
本発明の第3の目的は、感光層用感光液を塗布する際、
ハジキ等を引き起こして塗布欠陥を生じたりするのを防
止できる感光性平版印刷版用支持体を提供することにあ
る。
汚れを防止する感光性平版印刷版及びその支持体を提供
することにある。本発明の第2の目的は、耐刷力が充分
であると共に、消去部周辺の汚れの発生を抑制できる感
光性平版印刷版及びその支持体を提供することにある。
本発明の第3の目的は、感光層用感光液を塗布する際、
ハジキ等を引き起こして塗布欠陥を生じたりするのを防
止できる感光性平版印刷版用支持体を提供することにあ
る。
【0005】
【発明の構成】本発明の上記目的は、砂目立て処理及
び陽極酸化処理を行った支持体を、少なくとも1つのア
ミノ基と、2つ以上のホスホン酸基、ホスフィン酸基、
リン酸基より選ばれた基とを有する化合物の溶液により
60℃以上の処理温度で表面処理してなる感光性平板印
刷版用支持体、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行っ
た支持体を、少なくとも1つのアミノ基と、カルボキシ
ル基またはスルホン基とを有する化合物の溶液により6
0℃以上の処理温度で表面処理してなる感光性平板印刷
版用支持体、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った
支持体を、少なくとも1つのアミノ基と、少なくとも1
つのヒドロキシル基とを有する化合物の溶液により60
℃以上の処理温度で表面処理してなる感光性平板印刷版
用支持体、上記〜のいずれかに記載の支持体表面
に感光層を設けてなる感光性平板印刷版、感光層がフ
ッ素含有化合物を含有することを特徴とする感光性平板
印刷版、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った支持
体の表面を、少なくとも1つのアミノ基と、カルボキシ
ル基又はスルホン基とを有する化合物で処理した後、該
支持体表面にフッ素含有化合物を含有する感光層を設け
てなる感光性平板印刷版、フッ素含有化合物が、末端
の少なくとも3つの炭素原子がフッ素されているフルオ
ロ脂肪族基を有し、該フルオロ脂肪族基の量が20重量
%以下であることを特徴とする上記又は記載の感光
性平板印刷版、の各々により達成される。
び陽極酸化処理を行った支持体を、少なくとも1つのア
ミノ基と、2つ以上のホスホン酸基、ホスフィン酸基、
リン酸基より選ばれた基とを有する化合物の溶液により
60℃以上の処理温度で表面処理してなる感光性平板印
刷版用支持体、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行っ
た支持体を、少なくとも1つのアミノ基と、カルボキシ
ル基またはスルホン基とを有する化合物の溶液により6
0℃以上の処理温度で表面処理してなる感光性平板印刷
版用支持体、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った
支持体を、少なくとも1つのアミノ基と、少なくとも1
つのヒドロキシル基とを有する化合物の溶液により60
℃以上の処理温度で表面処理してなる感光性平板印刷版
用支持体、上記〜のいずれかに記載の支持体表面
に感光層を設けてなる感光性平板印刷版、感光層がフ
ッ素含有化合物を含有することを特徴とする感光性平板
印刷版、砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った支持
体の表面を、少なくとも1つのアミノ基と、カルボキシ
ル基又はスルホン基とを有する化合物で処理した後、該
支持体表面にフッ素含有化合物を含有する感光層を設け
てなる感光性平板印刷版、フッ素含有化合物が、末端
の少なくとも3つの炭素原子がフッ素されているフルオ
ロ脂肪族基を有し、該フルオロ脂肪族基の量が20重量
%以下であることを特徴とする上記又は記載の感光
性平板印刷版、の各々により達成される。
【0006】以下に本発明を更に詳細に説明する。本発
明では、少なくとも1つのアミノ基と2つ以上の
明では、少なくとも1つのアミノ基と2つ以上の
【0007】
【化1】
【0008】本明細書において、ホスホン酸基とホスフ
ィン酸基を包括してホスホン基という。
ィン酸基を包括してホスホン基という。
【0009】本発明で用いられる少なくとも1つのアミ
ノ基と2以上のホスホン酸基を有する化合物は、1−ア
ミノエタン−1,1−ジホスホン酸、1−アミノ−1−
フェニルメタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチル
アミノエタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチルア
ミノブタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチルアミ
ノメタン−1,1−ジホスホン酸、1−プロピルアミノ
エタン−1,1−ジホスホン酸、1−ブチルアミノメタ
ン−1,1−ジホスホン酸、等が挙げられ、また、少な
くとも1つのアミノ基と2以上のホスホン酸基を有する
化合物は、1−アミノエタン−1,1−ジホスフィン
酸、1−アミノ−1−フェニルメタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ジメチルアミノエタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ジメチルアミノブタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ジメチルアミノメタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−プロピルアミノエタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ブチルアミノメタン−1,1−ジホスフ
ィン酸、等が挙げられ、更に、少なくとも1つのアミノ
基と2以上のホスホン酸基を有する化合物は、1−アミ
ノエタン−1,1−ジリン酸、1−アミノ−1−フェニ
ルメタン−1,1−ジリン酸、1−ジメチルアミノエタ
ン−1,1−ジリン酸、1−ジメチルアミノブタン−
1,1−ジリン酸、1−ジメチルアミノメタン−1,1
−ジリン酸、1−プロピルアミノエタン−1,1−ジリ
ン酸、1−ブチルアミノメタン−1,1−ジリン酸等で
ある。これらのアルカリ金属(Li、Na、Ca、K、
Mg)塩、アンモニウム塩、エタノールアミン等の有機
アミン塩、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等も有用である。
ノ基と2以上のホスホン酸基を有する化合物は、1−ア
ミノエタン−1,1−ジホスホン酸、1−アミノ−1−
フェニルメタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチル
アミノエタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチルア
ミノブタン−1,1−ジホスホン酸、1−ジメチルアミ
ノメタン−1,1−ジホスホン酸、1−プロピルアミノ
エタン−1,1−ジホスホン酸、1−ブチルアミノメタ
ン−1,1−ジホスホン酸、等が挙げられ、また、少な
くとも1つのアミノ基と2以上のホスホン酸基を有する
化合物は、1−アミノエタン−1,1−ジホスフィン
酸、1−アミノ−1−フェニルメタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ジメチルアミノエタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ジメチルアミノブタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ジメチルアミノメタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−プロピルアミノエタン−1,1−ジホス
フィン酸、1−ブチルアミノメタン−1,1−ジホスフ
ィン酸、等が挙げられ、更に、少なくとも1つのアミノ
基と2以上のホスホン酸基を有する化合物は、1−アミ
ノエタン−1,1−ジリン酸、1−アミノ−1−フェニ
ルメタン−1,1−ジリン酸、1−ジメチルアミノエタ
ン−1,1−ジリン酸、1−ジメチルアミノブタン−
1,1−ジリン酸、1−ジメチルアミノメタン−1,1
−ジリン酸、1−プロピルアミノエタン−1,1−ジリ
ン酸、1−ブチルアミノメタン−1,1−ジリン酸等で
ある。これらのアルカリ金属(Li、Na、Ca、K、
Mg)塩、アンモニウム塩、エタノールアミン等の有機
アミン塩、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等も有用である。
【0010】これらのホスホン酸基又はホスフィン酸基
を有する化合物は、水に0.001〜10重量%の濃度
が好ましく、特に0.01〜1.0重量%となるように
溶解されるのが好ましく、pHは1〜13、好ましくは
2〜10、処理時の温度は60〜95℃である。上記の
中、1つ以上のアミノ基と2つ以上のリン酸基またはそ
の塩の基とを有する化合物は、水やメタノール等のアル
コールに0.001〜10重量%が好ましく、より好ま
しくは0.01〜1.0重量%の濃度となるよう溶解さ
れ、処理液のpHは1〜13、好ましくは2〜10、処
理条件としては60〜95℃の温度範囲で支持体を浸漬
するか、処理液を支持体に塗布する。
を有する化合物は、水に0.001〜10重量%の濃度
が好ましく、特に0.01〜1.0重量%となるように
溶解されるのが好ましく、pHは1〜13、好ましくは
2〜10、処理時の温度は60〜95℃である。上記の
中、1つ以上のアミノ基と2つ以上のリン酸基またはそ
の塩の基とを有する化合物は、水やメタノール等のアル
コールに0.001〜10重量%が好ましく、より好ま
しくは0.01〜1.0重量%の濃度となるよう溶解さ
れ、処理液のpHは1〜13、好ましくは2〜10、処
理条件としては60〜95℃の温度範囲で支持体を浸漬
するか、処理液を支持体に塗布する。
【0011】本発明において用いられる、少なくとも
1つのアミノ基と、カルボキシル基、スルホン基を含有
する化合物の具体例は、アミノ酢酸、グリシン、グルタ
ミン酸、リジン、スレオニン、セリン、アスパラギン
酸、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシグ
リシン、アントラニル酸トリプトファン、アルギニン、
スファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸、4−ア
ミノ酪酸、6−アミノカプロン酸、アミノメタンスルホ
ン酸、アミノ安息香酸、アミノベンゼンスルホン酸、ア
ミノナフタレンスルホン酸、アミノナフタレンジスルホ
ン酸、アミノサリチル酸等であり、これらのアルカリ金
属(Li、Na、Ca、K、Mg)塩、アンモニウム
塩、エタノールアミン等の有機アミン塩、塩酸塩、硫酸
塩、硝酸塩等も有用である。
1つのアミノ基と、カルボキシル基、スルホン基を含有
する化合物の具体例は、アミノ酢酸、グリシン、グルタ
ミン酸、リジン、スレオニン、セリン、アスパラギン
酸、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシグ
リシン、アントラニル酸トリプトファン、アルギニン、
スファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸、4−ア
ミノ酪酸、6−アミノカプロン酸、アミノメタンスルホ
ン酸、アミノ安息香酸、アミノベンゼンスルホン酸、ア
ミノナフタレンスルホン酸、アミノナフタレンジスルホ
ン酸、アミノサリチル酸等であり、これらのアルカリ金
属(Li、Na、Ca、K、Mg)塩、アンモニウム
塩、エタノールアミン等の有機アミン塩、塩酸塩、硫酸
塩、硝酸塩等も有用である。
【0012】また、本発明において用いられる、少な
くとも1つ以上のアミノ基及びヒドロキシル基を含有す
る化合物の具体例は、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリメタノールアミン、トリプロパノール
アミン、トリエタノールアミン、アミノフェノール、ア
ミノクレゾール、アミノベンジルアルコール、アミノナ
フトール等であり、これらの塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等
も有用である。
くとも1つ以上のアミノ基及びヒドロキシル基を含有す
る化合物の具体例は、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリメタノールアミン、トリプロパノール
アミン、トリエタノールアミン、アミノフェノール、ア
ミノクレゾール、アミノベンジルアルコール、アミノナ
フトール等であり、これらの塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等
も有用である。
【0013】これらの処理剤は、水に0.001〜10
重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度となるよう
溶解されるのが好ましく、処理条件としては60〜95
℃の温度範囲、pHは1〜13好ましくは2〜10、1
0秒〜20分、好ましくは10秒〜3分間支持体を浸漬
するか、処理液を支持体に塗布する。
重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度となるよう
溶解されるのが好ましく、処理条件としては60〜95
℃の温度範囲、pHは1〜13好ましくは2〜10、1
0秒〜20分、好ましくは10秒〜3分間支持体を浸漬
するか、処理液を支持体に塗布する。
【0014】本発明に用いられる少なくとも1つ以上
のアミノ基及びカルボキシル基またはスルホン基を含有
する化合物の具体例は、アミノ酢酸、グリシン、グルタ
ミン酸、リジン、スレオニン、セリン、アスパラギン
酸、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシグ
リシン、アントラニル酸トリプトファン、アルギニン、
スファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸、4−ア
ミノ酪酸、6−アミノカプロン酸、アミノメタンスルホ
ン酸、アミノ安息香酸、アミノベンゼンスルホン酸、ア
ミノナフタレンスルホン酸、アミノナフタレンジスルホ
ン酸、アミノサリチル酸等であり、これらのアルカリ金
属(Li、Na、Ca、K、Mg)塩、アンモニウム
塩、エタノールアミン等の有機アミン塩、塩酸塩、硫酸
塩、硝酸塩等も有用である。特に、分子量(Mw)は1
000以下が好ましく、水溶性または低級アルコールに
可溶であるものが好ましい。
のアミノ基及びカルボキシル基またはスルホン基を含有
する化合物の具体例は、アミノ酢酸、グリシン、グルタ
ミン酸、リジン、スレオニン、セリン、アスパラギン
酸、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシグ
リシン、アントラニル酸トリプトファン、アルギニン、
スファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸、4−ア
ミノ酪酸、6−アミノカプロン酸、アミノメタンスルホ
ン酸、アミノ安息香酸、アミノベンゼンスルホン酸、ア
ミノナフタレンスルホン酸、アミノナフタレンジスルホ
ン酸、アミノサリチル酸等であり、これらのアルカリ金
属(Li、Na、Ca、K、Mg)塩、アンモニウム
塩、エタノールアミン等の有機アミン塩、塩酸塩、硫酸
塩、硝酸塩等も有用である。特に、分子量(Mw)は1
000以下が好ましく、水溶性または低級アルコールに
可溶であるものが好ましい。
【0015】本発明、に用いられるフッ素含有化合
物は、フッ素系界面活性剤として公知、公用のいずれの
ものでもよい(例えば、特開昭62−170950号、
同62−226143号、特開平3−172849号参
照)が、中でも末端の少なくとも3つの炭素原子が充分
にフッ素化されているフルオロ脂肪族基を有し、フッ素
含有化合物におけるフルオロ脂肪族基の重量が20%以
下であるものが好ましく、特に、フッ素化合物の分子量
が5000以下であるものが好ましい。具体例として
は、
物は、フッ素系界面活性剤として公知、公用のいずれの
ものでもよい(例えば、特開昭62−170950号、
同62−226143号、特開平3−172849号参
照)が、中でも末端の少なくとも3つの炭素原子が充分
にフッ素化されているフルオロ脂肪族基を有し、フッ素
含有化合物におけるフルオロ脂肪族基の重量が20%以
下であるものが好ましく、特に、フッ素化合物の分子量
が5000以下であるものが好ましい。具体例として
は、
【0016】 サーフロンS−381、S−382(旭硝子(株)製) ユニダインDS−101、DS−401、DS−40
3、DS−451(ダイキン工業(株)製) フタージェント100、251、400((株)ネオス
製) メガファックF−142D、F−144D、F−18
4、F−191(大日本インキ(株)) フロラードFC−430、FC−431、FC−17
0、FC−170C(住友3M(株))、等が挙げられ
る。添加量としては感光層中に0.01〜5重量%、好
ましくは0.05〜1重量%である。
3、DS−451(ダイキン工業(株)製) フタージェント100、251、400((株)ネオス
製) メガファックF−142D、F−144D、F−18
4、F−191(大日本インキ(株)) フロラードFC−430、FC−431、FC−17
0、FC−170C(住友3M(株))、等が挙げられ
る。添加量としては感光層中に0.01〜5重量%、好
ましくは0.05〜1重量%である。
【0017】前記〜の発明(以下本発明と称す)に
おいて用いられる支持体としては、通常の平版印刷版に
セットできるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えるも
のが好ましく、例えばアルミニウム、マグネシウム、亜
鉛、クロム、鉄、銅、ニッケル等の金属板、及びこれら
の金属の合金板等が挙げられ、更にはクロム、亜鉛、
銅、ニッケル、アルミニウム及び鉄等がメッキまたは蒸
着によって被覆されている金属板でもよい。これらのう
ち好ましい支持体は、アルミニウムまたはその合金であ
る。
おいて用いられる支持体としては、通常の平版印刷版に
セットできるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えるも
のが好ましく、例えばアルミニウム、マグネシウム、亜
鉛、クロム、鉄、銅、ニッケル等の金属板、及びこれら
の金属の合金板等が挙げられ、更にはクロム、亜鉛、
銅、ニッケル、アルミニウム及び鉄等がメッキまたは蒸
着によって被覆されている金属板でもよい。これらのう
ち好ましい支持体は、アルミニウムまたはその合金であ
る。
【0018】本発明に用いられる支持体には、この技術
分野において通常使用されている脱脂処理、砂目立て処
理及び陽極酸化処理等が施されるが、少なくとも砂目立
て処理及び陽極酸化処理がこの順で行われた支持体を用
いる。
分野において通常使用されている脱脂処理、砂目立て処
理及び陽極酸化処理等が施されるが、少なくとも砂目立
て処理及び陽極酸化処理がこの順で行われた支持体を用
いる。
【0019】アルミニウム表面の圧延油を除去するため
の脱脂処理としてはトリクレン、シンナー等による溶剤
脱脂、ケロシンとトリエタノール等によるエマルジョン
脱脂等がある。また、脱脂のみでは除去できない汚れや
自然酸化皮膜を除去するために、濃度1〜10%の苛性
ソーダ等のアルカリ溶液に、20〜70℃で5秒〜10
分浸漬し、次いで濃度10〜20%の硝酸または硫酸等
の酸性溶液に10〜50℃で5秒〜5分浸漬し、アルカ
リエッチング後の中和及びスマットの除去を行う方法等
が挙げられる。
の脱脂処理としてはトリクレン、シンナー等による溶剤
脱脂、ケロシンとトリエタノール等によるエマルジョン
脱脂等がある。また、脱脂のみでは除去できない汚れや
自然酸化皮膜を除去するために、濃度1〜10%の苛性
ソーダ等のアルカリ溶液に、20〜70℃で5秒〜10
分浸漬し、次いで濃度10〜20%の硝酸または硫酸等
の酸性溶液に10〜50℃で5秒〜5分浸漬し、アルカ
リエッチング後の中和及びスマットの除去を行う方法等
が挙げられる。
【0020】感光層との密着性を良好にし、かつ保水性
を改善するために行われる砂目立て処理方法としては、
機械的に表面を粗面化する、いわゆる機械的粗面化法
と、電気化学的に表面を粗面化する、いわゆる電気化学
的粗面化法がある。機械的粗面化法には例えばボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
る。また電気化学的粗面化法には、例えば塩酸または硝
酸等を含む電解液中で交流或いは直流によって支持体を
電解処理する方法等がある。この内のいずれか1つ、も
しくは2つ以上の方法を併用することにより、支持体を
砂目立てすることができる。
を改善するために行われる砂目立て処理方法としては、
機械的に表面を粗面化する、いわゆる機械的粗面化法
と、電気化学的に表面を粗面化する、いわゆる電気化学
的粗面化法がある。機械的粗面化法には例えばボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
る。また電気化学的粗面化法には、例えば塩酸または硝
酸等を含む電解液中で交流或いは直流によって支持体を
電解処理する方法等がある。この内のいずれか1つ、も
しくは2つ以上の方法を併用することにより、支持体を
砂目立てすることができる。
【0021】前述のような砂目立て処理して得られた支
持体の表面には、スマットが生成しているので、このス
マットを除去するために適宜水洗あるいはアルカリエッ
チング等の処理を行うことが一般に好ましい。このよう
な処理としては、例えば特公昭48−28123号公報
に記載されているアルカリエッチング法や特開昭53−
12739号公報に記載されている硫酸デスマット法等
の処理方法が挙げられる。
持体の表面には、スマットが生成しているので、このス
マットを除去するために適宜水洗あるいはアルカリエッ
チング等の処理を行うことが一般に好ましい。このよう
な処理としては、例えば特公昭48−28123号公報
に記載されているアルカリエッチング法や特開昭53−
12739号公報に記載されている硫酸デスマット法等
の処理方法が挙げられる。
【0022】本発明に用いられる支持体には、通常、耐
摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸
化によって酸化被膜を形成させる。この陽極酸化では一
般的に、硫酸および/またはリン酸等を10〜50%の
濃度で含む水溶液を電解液として電流密度1〜10A/
dm2 で電解する方法が好ましく用いられるが、他に米
国特許第1,412,768号明細書に記載されている
硫酸中で高電流密度で電解する方法や米国特許第3,5
11,661号明細書に記載されている燐酸を用いて電
解する方法等がある。
摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸
化によって酸化被膜を形成させる。この陽極酸化では一
般的に、硫酸および/またはリン酸等を10〜50%の
濃度で含む水溶液を電解液として電流密度1〜10A/
dm2 で電解する方法が好ましく用いられるが、他に米
国特許第1,412,768号明細書に記載されている
硫酸中で高電流密度で電解する方法や米国特許第3,5
11,661号明細書に記載されている燐酸を用いて電
解する方法等がある。
【0023】次に、上記本発明の表面処理された支持体
上に感光性組成物からなる感光層を塗布することにより
本発明の感光性平版印刷版が得られる。この感光層中に
用いられる感光性物質は、特に限定されるものではな
く、通常、感光性平版印刷版に用いられている、例えば
下記のような各種のものが使用される。
上に感光性組成物からなる感光層を塗布することにより
本発明の感光性平版印刷版が得られる。この感光層中に
用いられる感光性物質は、特に限定されるものではな
く、通常、感光性平版印刷版に用いられている、例えば
下記のような各種のものが使用される。
【0024】1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
【0025】
【化2】
【0026】を含む感光性樹脂、及び重合体の側鎖に感
光基を有するポリビニルシンナメート等が挙げられる。
光基を有するポリビニルシンナメート等が挙げられる。
【0027】2)光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合成性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
【0028】一例を挙げるとメタクリル酸メチルを含む
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
【0029】3)ジアゾ化合物を含む感光性組成物 この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例えば、好まし
くは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドまたはア
セトアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であ
る。特に好ましくは、p−ジアゾフェニルアミンとホル
ムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物の塩、
例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロホウ
酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前記縮合物との
反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許第3,
300,309号明細書中に記載されているような、前
記縮合物とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹
脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹脂は、好まし
くは結合剤と共に使用される。かかる結合剤としては種
々の高分子化合物を使用することができるが、好ましく
は特開昭54−98613号公報に記載されているよう
な芳香族性水酸基を有する単量体、例えばN−(4−ヒ
ドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、または
p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、またはp−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート等と他の単量体との共重
合体、米国特許第4,123,276号明細書中に記載
されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位ま
たはヒドロキシエチルメタクリレート単位を主な繰り返
し単位として含むポリマー、シェラック、ロジン等の天
然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,75
1,257号明細書中に記載されているような線状ポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹
脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから縮合さ
れたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースアセテ
ートフタレート等のセルロール誘導体が包含される。
くは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドまたはア
セトアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であ
る。特に好ましくは、p−ジアゾフェニルアミンとホル
ムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物の塩、
例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロホウ
酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前記縮合物との
反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許第3,
300,309号明細書中に記載されているような、前
記縮合物とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹
脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹脂は、好まし
くは結合剤と共に使用される。かかる結合剤としては種
々の高分子化合物を使用することができるが、好ましく
は特開昭54−98613号公報に記載されているよう
な芳香族性水酸基を有する単量体、例えばN−(4−ヒ
ドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、または
p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、またはp−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート等と他の単量体との共重
合体、米国特許第4,123,276号明細書中に記載
されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位ま
たはヒドロキシエチルメタクリレート単位を主な繰り返
し単位として含むポリマー、シェラック、ロジン等の天
然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,75
1,257号明細書中に記載されているような線状ポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹
脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから縮合さ
れたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースアセテ
ートフタレート等のセルロール誘導体が包含される。
【0030】 4)o−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物 本発明において使用されるo−キノンジアジド化合物を
含む感光性組成物においては、o−キノンジアジド化合
物とアルカリ可溶性樹脂を併用することが好ましい。o
−キノンジアジド化合物としては、例えばo−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びアルデヒ
ドまたはケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が挙げ
られる。
含む感光性組成物においては、o−キノンジアジド化合
物とアルカリ可溶性樹脂を併用することが好ましい。o
−キノンジアジド化合物としては、例えばo−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びアルデヒ
ドまたはケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が挙げ
られる。
【0031】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
【0032】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
【0033】更に本発明に用いられるo−キノンジアジ
ド化合物としては特開昭58−43451号公報に記載
のある以下の化合物も使用できる。即ち、例えば1,2
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフト
キノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,2−
キノンジアジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサー
ル(J.Kosar)著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」(Light−Sensitive Syst
ems)第339〜352頁(1965年)、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズ(JohnWilley &
Sons)社(ニューヨーク)やダブリュ・エス・デ
ィ・フォレスト(W.S.De Forest)著「フ
ォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(Mc Graw H
ill)社(ニューヨーク)に記載されている1,2−
ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステ
ル、1,2,1´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド
−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2
−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル−M−β−
ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−
4´−アゾ−β−ナフトール−エステル、N,N−ジ−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
アニリン、2´−(1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン−
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2
−ナフトキノノジアジド−5−スルホン酸−2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4´−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド2モルと4,4´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェ
ニルスルホン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガ
リン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミド等
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
ド化合物としては特開昭58−43451号公報に記載
のある以下の化合物も使用できる。即ち、例えば1,2
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフト
キノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,2−
キノンジアジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサー
ル(J.Kosar)著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」(Light−Sensitive Syst
ems)第339〜352頁(1965年)、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズ(JohnWilley &
Sons)社(ニューヨーク)やダブリュ・エス・デ
ィ・フォレスト(W.S.De Forest)著「フ
ォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(Mc Graw H
ill)社(ニューヨーク)に記載されている1,2−
ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステ
ル、1,2,1´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド
−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2
−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル−M−β−
ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−
4´−アゾ−β−ナフトール−エステル、N,N−ジ−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
アニリン、2´−(1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン−
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2
−ナフトキノノジアジド−5−スルホン酸−2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4´−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド2モルと4,4´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェ
ニルスルホン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガ
リン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミド等
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
【0034】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
【0035】o−キノンジアジド化合物の感光性組成物
中に占める割合は、6〜60重量%が好ましく、特に好
ましいのは、10〜50重量%である。アルカリ可溶性
樹脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報
に記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケト
ンとの縮合樹脂等が挙げられる。
中に占める割合は、6〜60重量%が好ましく、特に好
ましいのは、10〜50重量%である。アルカリ可溶性
樹脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報
に記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケト
ンとの縮合樹脂等が挙げられる。
【0036】本発明に使用されるノボラック樹脂として
は、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55−57841
号公報に記載されているようなフェノール・クレゾール
・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭55−127
553号公報に記載されているようなp−置換フェノー
ルとフェノールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの共重合体樹脂等が挙げられる。
は、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55−57841
号公報に記載されているようなフェノール・クレゾール
・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭55−127
553号公報に記載されているようなp−置換フェノー
ルとフェノールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの共重合体樹脂等が挙げられる。
【0037】前記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレ
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102 〜7.50×103 、重量平均分子量Mwが1.
00×103 〜3.00×104 、より好ましくはMn
が5.00×102 〜4.00×103 、Mwが3.0
0×103 〜2.00×104 である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102 〜7.50×103 、重量平均分子量Mwが1.
00×103 〜3.00×104 、より好ましくはMn
が5.00×102 〜4.00×103 、Mwが3.0
0×103 〜2.00×104 である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
【0038】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は5〜95重量%である。又、本発明に好まし
く用いられるフェノール性水酸基を有するビニル系共重
合体としては、該フェノール性水酸基を有する単位を分
子構造中に有する重合体であり、下記一般式[I]〜
[V]の少なくとも1つの構造単位を含む重合体が好ま
しい。
める割合は5〜95重量%である。又、本発明に好まし
く用いられるフェノール性水酸基を有するビニル系共重
合体としては、該フェノール性水酸基を有する単位を分
子構造中に有する重合体であり、下記一般式[I]〜
[V]の少なくとも1つの構造単位を含む重合体が好ま
しい。
【0039】
【化3】
【0040】[式中、R1 およびR2 はそれぞれ水素原
子、アルキル基又はカルボキシル基、好ましくは水素原
子を表わす。R3 は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表わし、好ましくは水素原子又はメチル基、エチ
ル基等のアルキル基を表わす。R4 は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、好ましく
は水素原子を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香
族炭素原子とを連結する、置換基を有していてもよいア
ルキレン基を表わし、mは0〜10の整数を表わし、B
は置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を
有してもよいナフチレン基を表わす。]
子、アルキル基又はカルボキシル基、好ましくは水素原
子を表わす。R3 は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表わし、好ましくは水素原子又はメチル基、エチ
ル基等のアルキル基を表わす。R4 は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、好ましく
は水素原子を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香
族炭素原子とを連結する、置換基を有していてもよいア
ルキレン基を表わし、mは0〜10の整数を表わし、B
は置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を
有してもよいナフチレン基を表わす。]
【0041】本発明に用いられる重合体としては共重合
体型の構造を有するものが好ましく、前記一般式[I]
〜一般式[V]でそれぞれ示される構造単位と組合せて
用いることができる単量体単位としては、例えばエチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のエチレン系不飽和オフィレン類、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−ク
ロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン、マレイン
酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ド
デシル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸フ
ェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸エチル等のα
−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例えば
アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル
類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばアクリ
ルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロ
アクリルアニリド、m−メトキシアクリルアニリド等の
アニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピアン酸ビニル、
ベンゾエ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、
例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエ
ーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデン
クロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−メチル
−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレ
ン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメトキシ
カルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニルピロール、N
−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビ
ニルピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル
系単量体がある。これらのビニル系単量体は、不飽和二
重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
体型の構造を有するものが好ましく、前記一般式[I]
〜一般式[V]でそれぞれ示される構造単位と組合せて
用いることができる単量体単位としては、例えばエチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のエチレン系不飽和オフィレン類、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−ク
ロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン、マレイン
酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ド
デシル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸フ
ェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸エチル等のα
−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例えば
アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル
類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばアクリ
ルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロ
アクリルアニリド、m−メトキシアクリルアニリド等の
アニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピアン酸ビニル、
ベンゾエ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、
例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエ
ーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデン
クロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−メチル
−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレ
ン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメトキシ
カルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニルピロール、N
−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビ
ニルピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル
系単量体がある。これらのビニル系単量体は、不飽和二
重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
【0042】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、本発明に
用いられる重合体中にブロックまたはランダムのいずれ
かの状態で結合していてもよい。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、本発明に
用いられる重合体中にブロックまたはランダムのいずれ
かの状態で結合していてもよい。
【0043】本発明に用いられるビニル系重合体の感光
性組成物中に占める割合は0.5〜70重量%である。
ビニル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよい
し、又2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子
化合物等と組合せて用いることもできる。
性組成物中に占める割合は0.5〜70重量%である。
ビニル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよい
し、又2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子
化合物等と組合せて用いることもできる。
【0044】感光性組成物には、露光より可視画像を形
成させるプリントアウト材料を添加することができる。
プリントアウト材料は露光により酸もしくは遊離基を生
成する化合物と相互作用することによってその色調を変
える有機染料よりなるもので、露光により酸もしくは遊
離基を生成する化合物としては、例えば特開昭50−3
6209号公報に記載のo−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−36223号公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸クロライドと電子吸引性置換基を有するフェノ
ール類、またはアニリン酸とのエステル化合物またはア
ミド化合物、特開昭55−77742号公報、特開昭5
7−148784号公報等に記載のハロメチルビニルオ
キサジアゾール化合物及びジアゾニウム塩等が挙げられ
る。
成させるプリントアウト材料を添加することができる。
プリントアウト材料は露光により酸もしくは遊離基を生
成する化合物と相互作用することによってその色調を変
える有機染料よりなるもので、露光により酸もしくは遊
離基を生成する化合物としては、例えば特開昭50−3
6209号公報に記載のo−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−36223号公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸クロライドと電子吸引性置換基を有するフェノ
ール類、またはアニリン酸とのエステル化合物またはア
ミド化合物、特開昭55−77742号公報、特開昭5
7−148784号公報等に記載のハロメチルビニルオ
キサジアゾール化合物及びジアゾニウム塩等が挙げられ
る。
【0045】また前記の有機染料としては、ビクトリア
ピュアーブルーBOH(保土谷化学(株)製)、パテン
トピュアーブルー(住友三国化学(株)製)、オイルブ
ルー#603(オリエント化学工業(株)製)、スーダ
ンブルーII(BASF製)、クリスタルバイオレッ
ト、マラカイトグリーン、フクシン、メチルバイオレッ
ト、エチルバイオレット、メチルオレンジ、ブリリアン
トグリーン、コンゴーレッド、エオシン、ローダミン6
6等を挙げることができる。また感光性組成物には、上
記の素材の他、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、有機
酸、酸無水物などを添加することができる。
ピュアーブルーBOH(保土谷化学(株)製)、パテン
トピュアーブルー(住友三国化学(株)製)、オイルブ
ルー#603(オリエント化学工業(株)製)、スーダ
ンブルーII(BASF製)、クリスタルバイオレッ
ト、マラカイトグリーン、フクシン、メチルバイオレッ
ト、エチルバイオレット、メチルオレンジ、ブリリアン
トグリーン、コンゴーレッド、エオシン、ローダミン6
6等を挙げることができる。また感光性組成物には、上
記の素材の他、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、有機
酸、酸無水物などを添加することができる。
【0046】更に本発明に用いられる感光性組成物に
は、該感光性組成物の感脂性を向上するために例えば、
p−tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
やp−n−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
や、あるいはこれらの樹脂がo−キノンジアジド化合物
で部分的にエステル化されている樹脂などを添加するこ
ともできる。これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
本発明に係る支持体表面に塗布乾燥させることにより、
感光層を設けて、本発明の感光性平版印刷版を製造する
ことができる。
は、該感光性組成物の感脂性を向上するために例えば、
p−tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
やp−n−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
や、あるいはこれらの樹脂がo−キノンジアジド化合物
で部分的にエステル化されている樹脂などを添加するこ
ともできる。これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
本発明に係る支持体表面に塗布乾燥させることにより、
感光層を設けて、本発明の感光性平版印刷版を製造する
ことができる。
【0047】本発明に用いられる感光性組成物を溶解す
る際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチル
セロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソ
プロピルエーテル、プロピレングリコール、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジカル
ボン酸メチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル
エチルエーテル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチ
ル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、酪酸メチル、酪酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘ
キサノン、ジアセトンアルコール、アセチルアセトン、
γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの溶媒は、
単独あるいは2種以上混合して使用することができる。
る際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチル
セロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソ
プロピルエーテル、プロピレングリコール、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジカル
ボン酸メチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル
エチルエーテル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチ
ル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、酪酸メチル、酪酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘ
キサノン、ジアセトンアルコール、アセチルアセトン、
γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの溶媒は、
単独あるいは2種以上混合して使用することができる。
【0048】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が用いられる。この際塗布量は用途により異なるが、例
えば固形分として0.05〜5.0g/m2 の塗布量が
好ましい。こうして得られた感光性平版印刷版の使用に
際しては、従来から常用されている方法を適用すること
ができ、例えば線画像、網点画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液
を用いて非画像部の感光性層を除去することによりレリ
ーフ像が得られる。露光に好適な光源としては、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯などが使用され、また現像に
使用される現像液としては、アルカリ水溶液が好まし
く、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第
二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
の水溶液のようなアルカリ水溶液がある。このときのア
ルカリ水溶液の濃度は、感光性組成物及びアルカリの種
類により異なるが、概して0.1〜10重量%の範囲が
適当であり、又酸アルカリ水溶液には必要に応じ界面活
性剤やアルコール等のような有機溶媒を加えることもで
きる。
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が用いられる。この際塗布量は用途により異なるが、例
えば固形分として0.05〜5.0g/m2 の塗布量が
好ましい。こうして得られた感光性平版印刷版の使用に
際しては、従来から常用されている方法を適用すること
ができ、例えば線画像、網点画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液
を用いて非画像部の感光性層を除去することによりレリ
ーフ像が得られる。露光に好適な光源としては、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯などが使用され、また現像に
使用される現像液としては、アルカリ水溶液が好まし
く、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第
二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
の水溶液のようなアルカリ水溶液がある。このときのア
ルカリ水溶液の濃度は、感光性組成物及びアルカリの種
類により異なるが、概して0.1〜10重量%の範囲が
適当であり、又酸アルカリ水溶液には必要に応じ界面活
性剤やアルコール等のような有機溶媒を加えることもで
きる。
【0049】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明する。尚、%は断りのない限り、重量%を示す。
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を5%水酸化ナトリウム水溶液中で65℃1分
間脱脂処理を行った後、水洗し、10%硫酸水溶液中で
25℃、1分間浸漬し、中和した後水洗した。このアル
ミニウム板を1.0重量%の塩酸水溶液中、25℃で交
流密度100A/dm2 で60秒間電解粗面化を行った
後、5%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間
デスマット処理を行い、その後、20%硫酸溶液中で温
度20℃、電気密度3A/dm2、処理時間1分の条件
で陽極酸化処理を行う。こうして得られたアルミニウム
板を支持体A(実施用、比較用)とする。
に説明する。尚、%は断りのない限り、重量%を示す。
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を5%水酸化ナトリウム水溶液中で65℃1分
間脱脂処理を行った後、水洗し、10%硫酸水溶液中で
25℃、1分間浸漬し、中和した後水洗した。このアル
ミニウム板を1.0重量%の塩酸水溶液中、25℃で交
流密度100A/dm2 で60秒間電解粗面化を行った
後、5%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間
デスマット処理を行い、その後、20%硫酸溶液中で温
度20℃、電気密度3A/dm2、処理時間1分の条件
で陽極酸化処理を行う。こうして得られたアルミニウム
板を支持体A(実施用、比較用)とする。
【0050】実施例1 [支持体1〜8の作製]支持体Aを以下の条件の水溶液
に85℃30秒浸漬した後、80℃5分間乾燥して支持
体1〜8を得た。
に85℃30秒浸漬した後、80℃5分間乾燥して支持
体1〜8を得た。
【0051】
【表1】
【0052】〔感光性平板印刷版A〜Hの作成〕得られ
た支持体1〜8に以下の組成の感光液をワイヤーバーに
て塗布して感光性平版印刷版試料A〜Hを作成した。乾
燥後の感光層の膜厚は2g/m2であった。
た支持体1〜8に以下の組成の感光液をワイヤーバーに
て塗布して感光性平版印刷版試料A〜Hを作成した。乾
燥後の感光層の膜厚は2g/m2であった。
【0053】 〔感光液組成〕 ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールの モル比が10/54/36でMwが4000) 6.7g ピロガロールアセトン樹脂(Mw3000)と o−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリドの 縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ケ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル) −S−トリアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)社製) 0.03g メチルセロソルブ 100ml
【0054】得られた感光性平版印刷版を画像露光し、
現像液SDR−1(コニカ(株)製)の6倍希釈液を入
れた自動現像機で30℃、12秒の条件で現像を行っ
た。現像液の版の画像部の一部を消去液RP−1(富士
写真フィルム(株)製)をつけた筆で3分間こすって消
去した後、ガム引き(SGW−1(コニカ(株)製)の
2倍希釈液)を行い、印刷版を作成した。
現像液SDR−1(コニカ(株)製)の6倍希釈液を入
れた自動現像機で30℃、12秒の条件で現像を行っ
た。現像液の版の画像部の一部を消去液RP−1(富士
写真フィルム(株)製)をつけた筆で3分間こすって消
去した後、ガム引き(SGW−1(コニカ(株)製)の
2倍希釈液)を行い、印刷版を作成した。
【0055】得られた印刷版を印刷機(ハイデルGT
O)においてコート紙、印刷インキ(東洋インキ製造
(株)製ニューブライト紅)及び湿し水(SEU−3;
2.5%、コニカ(株)製)を使用し印刷を行い、印刷
物の画像部のベタ部に着に着肉不良が現れるかまたは非
画像部にインキ着肉するまで印刷をつづけ、その時の印
刷枚数を数えて耐刷力の評価を行った。また、1万枚刷
った時点で消去した周辺の汚れ及び地汚れを目視にて観
察した。結果を表2に示す。
O)においてコート紙、印刷インキ(東洋インキ製造
(株)製ニューブライト紅)及び湿し水(SEU−3;
2.5%、コニカ(株)製)を使用し印刷を行い、印刷
物の画像部のベタ部に着に着肉不良が現れるかまたは非
画像部にインキ着肉するまで印刷をつづけ、その時の印
刷枚数を数えて耐刷力の評価を行った。また、1万枚刷
った時点で消去した周辺の汚れ及び地汚れを目視にて観
察した。結果を表2に示す。
【0056】
【表2】
【0057】実施例2 実施例1の支持体Aを以下の条件の水溶液(表3)に3
0秒浸漬した後、80℃5分間乾燥して支持体9〜14
及び比較用支持体15、16を得た。
0秒浸漬した後、80℃5分間乾燥して支持体9〜14
及び比較用支持体15、16を得た。
【0058】
【表3】
【0059】得られた支持体9〜16に実施例1の感光
液をワイヤーバーにて塗布して感光性平版印刷版試料I
〜Pを作成した。乾燥後の感光層の膜厚は2g/m2で
あった。得られた感光性平版印刷版を画像露光し、現像
液SDR−1(コニカ(株)製)の6倍希釈液を入れた
自動現像機で30℃、12秒の条件で現像を行った。現
像液の版の画像部の一部を消去液RP−1(富士写真フ
ィルム(株)製)をつけた筆で3分間こすって消去した
後、ガム引き(SGW−2(コニカ(株)製)の2倍希
釈液)を行い、印刷版を作成した。
液をワイヤーバーにて塗布して感光性平版印刷版試料I
〜Pを作成した。乾燥後の感光層の膜厚は2g/m2で
あった。得られた感光性平版印刷版を画像露光し、現像
液SDR−1(コニカ(株)製)の6倍希釈液を入れた
自動現像機で30℃、12秒の条件で現像を行った。現
像液の版の画像部の一部を消去液RP−1(富士写真フ
ィルム(株)製)をつけた筆で3分間こすって消去した
後、ガム引き(SGW−2(コニカ(株)製)の2倍希
釈液)を行い、印刷版を作成した。
【0060】得られた印刷版を印刷機(ハイデルGT
O)においてコート紙、印刷インキ(東洋インキ製造
(株)製ニューブライト紅)及び湿し水(SEU−3;
2.5%、コニカ(株)製)を使用し印刷を行い、実施
例1と同じ方法で耐刷力、地汚れ、消去部周辺の汚れを
評価した。結果を表4に示す。
O)においてコート紙、印刷インキ(東洋インキ製造
(株)製ニューブライト紅)及び湿し水(SEU−3;
2.5%、コニカ(株)製)を使用し印刷を行い、実施
例1と同じ方法で耐刷力、地汚れ、消去部周辺の汚れを
評価した。結果を表4に示す。
【0061】
【表4】
【0062】実施例3 支持体Aを以下の条件の水溶液(表5)に30秒浸漬し
た後、80℃5分間乾燥して支持体11〜16及び比較
用支持体17〜18を得た。
た後、80℃5分間乾燥して支持体11〜16及び比較
用支持体17〜18を得た。
【0063】
【表5】
【0064】得られた支持体11〜19に以下の組成の
感光液をワイヤーバーにて塗布して感光性平版印刷版試
料2A〜2Hを作成した。乾燥後の感光層の膜厚は2g
/m2であった。
感光液をワイヤーバーにて塗布して感光性平版印刷版試
料2A〜2Hを作成した。乾燥後の感光層の膜厚は2g
/m2であった。
【0065】 〔感光液組成〕 ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールの モル比が10/54/36でMwが4000) 6.7g ピロガロールアセトン樹脂(Mw3000)と o−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリドの 縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ケ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル) −S−トリアジン 0.15g フッ素含有化合物(表6) 0.03g メチルセロソルブ 100ml
【0066】得られた感光性平版印刷版の表面のハジキ
(の直径200μm以上)の数をカウントした後、市販
のボールペン(ペリカン(株)製)で筆圧50gで10
cmの直線を描き、25℃で5分間放置してボールペン
のインキを乾燥させた後、画像露光し、現像液SDR−
1(コニカ(株)製)の6倍希釈液を入れた自動現像機
で30℃、12秒の条件で現像を行った。また、同じ方
法にて画像露光した版を8倍希釈の現像液(SDR−1
(コニカ(株)製))で自動現像機にて現像した(30
℃、12秒)。現像後の版を目視で観察し、ボールペン
のインキが非画線部に残っていないかを評価した。また
その版にガム引き(SGW−2(コニカ(株)製)の2
倍希釈液)を行い、印刷版を作成した。
(の直径200μm以上)の数をカウントした後、市販
のボールペン(ペリカン(株)製)で筆圧50gで10
cmの直線を描き、25℃で5分間放置してボールペン
のインキを乾燥させた後、画像露光し、現像液SDR−
1(コニカ(株)製)の6倍希釈液を入れた自動現像機
で30℃、12秒の条件で現像を行った。また、同じ方
法にて画像露光した版を8倍希釈の現像液(SDR−1
(コニカ(株)製))で自動現像機にて現像した(30
℃、12秒)。現像後の版を目視で観察し、ボールペン
のインキが非画線部に残っていないかを評価した。また
その版にガム引き(SGW−2(コニカ(株)製)の2
倍希釈液)を行い、印刷版を作成した。
【0067】得られた印刷版を印刷機(ハイデルGT
O)においてコート紙、印刷インキ(東洋インキ製造
(株)製ニューブライト紅)及び湿し水(SEU−3;
2.5%、コニカ(株)製)を使用し印刷を行い、1万
枚刷った時点で印刷物上の汚れ目視にて観察した。その
結果を表6に示す。
O)においてコート紙、印刷インキ(東洋インキ製造
(株)製ニューブライト紅)及び湿し水(SEU−3;
2.5%、コニカ(株)製)を使用し印刷を行い、1万
枚刷った時点で印刷物上の汚れ目視にて観察した。その
結果を表6に示す。
【0068】
【表6】
【0069】ボールペンインキ残りの評価基準 ○・・残りなし Δ・・線がかすれて所々残っている ×・・線がはっきり残っている 印刷時の汚れの評価基準 ○・・汚れなし Δ・・わずかに汚れている ×・・汚れがはっきり見える
【0070】
【発明の効果】本発明〜によれば、印刷時の汚れを
効果的に防止でき、更に本発明〜によれば、耐刷力
が充分であると共に、消去部周辺の汚れの発生を抑制で
きるし、本発明、によれば、塗布表面のハジキを抑
制できると共にボールペンインキ残りを抑制できる。
効果的に防止でき、更に本発明〜によれば、耐刷力
が充分であると共に、消去部周辺の汚れの発生を抑制で
きるし、本発明、によれば、塗布表面のハジキを抑
制できると共にボールペンインキ残りを抑制できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高木 宏司 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 小島 紀美 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 小屋 美廣 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 富安 寛 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 高田 輝雄 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (7)
- 【請求項1】砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った支
持体を、少なくとも1つのアミノ基と、2つ以上のホス
ホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基より選ばれた基と
を有する化合物又はこれらの無機酸塩もしくは有機酸塩
の溶液により60℃以上の処理温度で表面処理してなる
感光性平板印刷版用支持体。 - 【請求項2】砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った支
持体を、少なくとも1つのアミノ基と、カルボキシル基
またはスルホン基とを有する化合物又はこれらの無機酸
塩もしくは有機酸塩の溶液により60℃以上の処理温度
で表面処理してなる感光性平板印刷版用支持体。 - 【請求項3】砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った支
持体を、少なくとも1つのアミノ基と、少なくとも1つ
のヒドロキシル基とを有する化合物又はこれらの無機酸
塩もしくは有機酸塩の溶液により60℃以上の処理温度
で表面処理してなる感光性平板印刷版用支持体。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれかに記載の支持体表
面に感光層を設けてなる感光性平板印刷版。 - 【請求項5】感光層がフッ素含有化合物を含有すること
を特徴とする感光性平板印刷版。 - 【請求項6】砂目立て処理及び陽極酸化処理を行った支
持体の表面を、少なくとも1つのアミノ基と、カルボキ
シル基又はスルホン基とを有する化合物又はこれらの無
機酸塩もしくは有機酸塩の溶液で処理した後、該支持体
表面にフッ素含有化合物を含有する感光層を設けてなる
感光性平板印刷版。 - 【請求項7】フッ素含有化合物が、末端の少なくとも3
つの炭素原子がフッ素化されているフルオロ脂肪族基を
有し、該フルオロ脂肪族基の量が20重量%以下である
ことを特徴とする請求項5又は6記載の感光性平板印刷
版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22284193A JPH0752576A (ja) | 1993-08-16 | 1993-08-16 | 感光性平版印刷版及びその支持体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22284193A JPH0752576A (ja) | 1993-08-16 | 1993-08-16 | 感光性平版印刷版及びその支持体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0752576A true JPH0752576A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16788751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22284193A Pending JPH0752576A (ja) | 1993-08-16 | 1993-08-16 | 感光性平版印刷版及びその支持体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0752576A (ja) |
-
1993
- 1993-08-16 JP JP22284193A patent/JPH0752576A/ja active Pending
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