JPH08306006A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ギャップ形成面を所望のトラック幅になるよ
うに高精度に、かつ容易に加工し、さらに磁気ヘッドと
して組立られた状態で、ギャップ形成面のコーナー部付
近にサイドギャップが形成されることを防止する。 【構成】 突き合わせ面２に金属磁性膜８及びガラス膜
を成膜した後、コア半体１は図示を省略した固定治具に
セットされる。この固定治具に対してマスク21を、図示
の位置に位置決めし、さらにレーザ光Ｌの発生装置であ
るＹＡＧ(Yttrium Aluminum Garnet)レーザ(図示省略)
をマスク21の上方に配置する。マスク 21には、開口部
であるスリット21aが複数形成され、マスク21において
２本のスリット21aの間は、幅方向(矢印Ａ方向)におい
てトラック幅Ｗを有する遮蔽部21bとなる。突き合わせ
面２には、マスク21を介してレ−ザ光Ｌが照射される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ(Video Tape Re
corder)、ＤＡＴ(Digtai AudioTaperecorder)、ＦＤＤ
(Floppy Disk Drive)等の磁気記録再生装置に適用され
る磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＶＴＲなどの磁気記録再生装置に
おいては、記録／再生等の処理が可能な情報量を増大さ
せるため、記録媒体に対して情報を高密度で記録するこ
とへの強い要求がある。情報の高密度記録を実現するた
め、記録媒体用の磁性材料については、高保磁力を有す
るメタル材料が製品化されており、このメタル材料に対
応するために、十分な記録／再生能力を有する磁気ヘッ
ドの開発が進められている。

【０００３】磁気ヘッドに関して、高い飽和磁束密度Ｂ
sを有するＣo基アモルファス合金やＦe基合金を用いた
各種の磁気ヘッドが開発されてきており、既に一部にお
いては実用化されている。このような磁気ヘッドの中に
あって、磁気ヘッドの構成としては、酸化物磁性材料の
コア材においてギャップ形成面付近を金属磁性膜で形成
したＭＩＧ(Metal In Gap)磁気ヘッドが多く使用されて
いる。

【０００４】図８乃至図10は、それぞれ従来の磁気ヘッ
ドの製造方法の一例を示す工程図である。図８(a)の斜
視図において、１は酸化物磁性材料であるフェライトか
らなり、突き合わせ面２に巻線溝３及びトラック幅規制
溝４が形成されたコア半体である。突き合わせ面２は、
予め鏡面となるように研磨され、研削加工によって巻線
溝３及びトラック幅規制溝４が形成される。そして、突
き合わせ面２において、２本のトラック幅規制溝４の間
の領域に後述するギャップ形成面が形成される。また、
図８(b)の斜視図において、６は、酸化物磁性材料であ
るフェライトからなり、突き合わせ面７にトラック幅規
制溝４が形成されたコア半体である。突き合わせ面７
は、予め鏡面となるように研磨され、研削加工によって
トラック幅規制溝４が形成される。そして、突き合わせ
面７において、２本のトラック幅規制溝４の間の領域に
後述するギャップ形成面が形成される。

【０００５】図９(a)，(b)の斜視図において、黒点が描
かれた領域には、スパッタ法等によって金属磁性膜８が
形成される。金属磁性膜８は、巻線溝３及びトラック幅
規制溝４が形成された突き合わせ面２と巻線溝３が形成
された突き合わせ面７とに２〜５μｍの厚さになるよう
にそれぞれ成膜される。さらに、コア半体１，６のそれ
ぞれの金属磁性膜８上には、ギャップ材としてＳiＯ₂か
らなるガラス膜(図示省略)をギャップ幅の約１／２の厚
さになるように成膜する。そして、突き合わせ面２，７
において、２本のトラック幅規制溝４の間の領域が磁気
ヘッドにおいてギャップを形成するギャップ形成面５と
なる。

【０００６】突き合わせ面２，７に金属磁性膜８及びガ
ラス膜を成膜した後、一対のコア半体１，６は、それぞ
れのギャップ形成面５が一致するように位置合わせされ
て、図10(a)の斜視図に示すように突き合わせ面２，７
を突き合わせる。この後、コア半体１，６の接合部に溶
融ガラスを充填することにより、凝固したガラス９によ
ってコア半体１とコア半体６とは、一体に接合されてコ
アブロック10となる。このコアブロック10は、図10(a)
に示す破線に沿って切断されることにより、端部を除い
た切断片がヘッドチップとなり、この後、ヘッドチップ
に対して巻線などの公知の工程からなる組立作業が行わ
れて磁気ヘッドが完成する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】図10(b)は、図10(a)に
おいて２点鎖線によって囲まれた領域を拡大した図であ
る。しかしながら、上記のような磁気ヘッドの製造方法
では、コアブロック10においては、図10(b)に示すよう
に、ギャップ形成面５のコーナー部５aで金属磁性膜８
の表面がＲ状になっているために、コーナー部５aがサ
イドギャップとなってコーナー部５a間で磁力線のクロ
スト−クが生じる。また、コア半体１，６が酸化物磁性
材料のみで構成された磁気ヘッドにおいても、ギャップ
形成面５を高精度で所定のトラック幅に加工することが
困難であるという問題があった。

【０００８】本発明は、上記の問題に鑑みて、ギャップ
形成面を所望のトラック幅になるように高精度に、かつ
容易に加工でき、さらに磁気ヘッドとして組立られた状
態で、ギャップ形成面のコーナー部付近にサイドギャッ
プが形成されることを防止することができる磁気ヘッド
の製造方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の第１の磁気ヘッドの製造方法は、一対の
コア半体におけるそれぞれの突き合わせ面に、複数の開
口部の間にトラック幅に対応する幅の遮蔽部を有したマ
スクを介しレ−ザ光を照射して、このレーザ光の照射領
域間におけるギャップ形成面を前記トラック幅に加工す
る工程を有することを特徴とする。

【００１０】また、本発明の第２の磁気ヘッドの製造方
法は、酸化物磁性材料によって形成された一対のコア半
体のそれぞれの突き合わせ面における少なくともギャッ
プ形成面となる領域に金属磁性膜を成膜する工程と、前
記突き合わせ面に、複数の開口部の間にトラック幅に対
応する幅の遮蔽部を有したマスクを介しレ−ザ光を照射
して、このレーザ光の照射領域間における前記ギャップ
形成面及び金属磁性膜を前記トラック幅に加工する工程
とを有し、さらに前記金属磁性膜の成膜材料として、Ｆ
eＴaＮ合金及びＣo系アモルファス合金から１つの合金
を選択する。

【００１１】

【作用】上記の第１の磁気ヘッドの製造方法によれば、
マスクを介して照射されたレーザ光によって突き合わせ
面においてレーザ光の照射領域が除去されて、レーザ光
の照射領域間のギャップ形成面がトラック幅になるよう
に加工される。

【００１２】また、第２の磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、マスクを介して照射されたレーザ光によって突き合
わせ面においてレーザ光の照射領域が除去されて、レー
ザ光の照射領域間のギャップ形成面がトラック幅になる
ように加工され、かつギャップ形成面のコーナ部付近に
成膜された金属磁性膜に、レーザ光の光軸に対して平行
となる平面が形成される。

【００１３】

【実施例】

（実施例１）以下、本発明の実施例について図面を参照
して説明する。図１乃至図４は、それぞれ本発明の磁気
ヘッドの製造方法の第１実施例を示す工程図であり、図
８乃至図10に基づいて説明した部材に対応する部材につ
いては同一符号を付して説明を省略する。第１実施例の
磁気ヘッドの製造方法において図１及び図２に示される
工程は、従来の磁気ヘッドの製造方法において図８及び
図９に示される工程と同一のものであるので、その説明
を省略する。尚、第１実施例の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、成膜材料としてＦeＴaＮ合金及びＣo系アモ
ルファス合金から１つの合金を選択し、選択した合金に
よって金属磁性膜８を成膜する。

【００１４】突き合わせ面２に金属磁性膜８及びガラス
膜を成膜した後、コア半体１は、図示を省略した固定治
具にセットされる。この固定治具に対してマスク21を、
図３(a)に示される位置に位置決めし、さらにレーザ光
Ｌの発生装置であるＹＡＧ(Yttrium Aluminum Garnet)
レーザ(図示省略)をマスク21の上方に配置する。マスク
21には、開口部であるスリット21aが複数形成され、マ
スク21において２本のスリット21aの間は、幅方向(矢印
Ａ方向)においてトラック幅Ｗを有する遮蔽部21bとな
る。このとき、マスク21は、幅方向において遮蔽部21b
の中心がギャップ形成面５の中心と一致するように位置
決めされている。

【００１５】固定治具にセットされたコア半体１の突き
合わせ面２には、図３(a)に示すようにマスク21を介し
てレ−ザ光Ｌが照射される。突き合わせ面２に、マスク
21を介してレーザ光Ｌを照射することにより、突き合わ
せ面２上のレーザ光Ｌの照射領域において金属磁性膜８
が、レーザ強度に対応する除去速度で表層部側から除去
される。ここで、マスク21の遮蔽部21bがトラック幅Ｗ
を有することにより、突き合わせ面２上には、トラック
幅Ｗのレーザ光Ｌの非照射領域が形成され、このレーザ
光Ｌの非照射領域の中心は、幅方向でギャップ形成面５
の中心と一致する。この状態で、レーザ光Ｌを突き合わ
せ面２に所定時間だけ照射することにより、図３(b)の
拡大図において除去部８aが除去されて、レーザ光Ｌの
照射領域間のギャップ形成面５が正確にトラック幅Ｗに
なるように高精度に加工され、かつギャップ形成面５の
コーナー部５a付近に形成された金属磁性膜８には、レ
ーザ光Ｌの光軸に対して平行となる平面が形成される。
このとき、マスク21をギャップ形成面５に対して水平に
セットしておくことにより、コーナー部５aは直交した
２平面によって形成されることとなる。

【００１６】また、コア半体６も、コア半体１と同様に
図示を省略した固定治具にセットされ、マスク21を介し
てレーザ光Ｌが照射されることにより、ギャップ形成面
５が正確にトラック幅Ｗになるように高精度で加工さ
れ、かつギャップ形成面５のコーナー部５aに付近に形
成された金属磁性膜８には、レーザ光Ｌの光軸に対して
平行となる平面が形成される。

【００１７】突き合わせ面２，７をレーザ光Ｌによって
加工した後、コア半体１，６のそれぞれの金属磁性膜８
上には、ギャップ材としてＳiＯ₂からなるガラス膜(図
示省略)をギャップ幅の約１／２の厚さになるように成
膜する。そして、一対のコア半体１，６は、それぞれの
ギャップ形成面５が一致するように位置合わせされて、
図４(a)の斜視図に示すように突き合わせ面２，７を突
き合わせる。この後、コア半体１，６の接合部に溶融ガ
ラスを充填することにより、凝固したガラス９によって
コア半体１とコア半体６とは、一体に接合されてコアブ
ロック10となる。このコアブロック10は、図４(a)に示
す破線に沿って切断されることにより、端部を除いた切
断片がヘッドチップとなり、この後、ヘッドチップに対
して巻線などの公知の工程からなる組立作業が行われて
磁気ヘッドが完成する。

【００１８】図４(b)は、図４(a)において２点鎖線によ
って囲まれた領域を拡大した図である。第１実施例の磁
気ヘッドの製造方法によれば、コアブロック10において
は、ギャップ形成面５のコーナー部５aが直交した２平
面によって形成されていることにより、コーナー部５a
付近にサイドギャップが形成されないので、サイドギャ
ップから磁力線のクロスト−クが発生することを防止で
きる。さらに、トラック幅Ｗが狭い場合でも、ギャップ
形成面５をトラック幅Ｗになるように高精度に、かつ容
易に加工することが可能になる。

【００１９】（実施例２）図５乃至図７は、それぞれ本
発明の磁気ヘッドの製造方法の第２実施例を示す工程図
であり、図８乃至図10に基づいて説明した部材に対応す
る部材については同一符号を付して説明を省略する。図
５(a)の斜視図において、１は、酸化物磁性材料である
フェライトからなり、突き合わせ面２に巻線溝３及びト
ラック幅規制溝４が形成されたコア半体である。突き合
わせ面２は、予め鏡面となるように研磨され、研削加工
によって巻線溝３及びトラック幅規制溝４が形成され
る。そして、突き合わせ面２において２本のトラック幅
規制溝４の間の領域が、磁気ヘッドにおいてギャップを
形成するギャップ形成面11となる。また、図５(b)の斜
視図において、６は酸化物磁性材料であるフェライトか
らなり、突き合わせ面７にトラック幅規制溝４が形成さ
れたコア半体である。突き合わせ面７は、予め鏡面とな
るように研磨され、研削加工によってトラック幅規制溝
４が形成される。そして、突き合わせ面７において２本
のトラック幅規制溝４の間の領域が、磁気ヘッドにおい
てギャップを形成するギャップ形成面11となる。

【００２０】突き合わせ面２に巻線溝３及びトラック幅
規制溝４を形成した後、コア半体１は、図示を省略した
固定治具にセットされる。この固定治具に対してマスク
21を、図６(a)に示される位置に位置決めし、さらにレ
ーザ光Ｌの発生装置であるＹＡＧ(Yttrium Aluminum Ga
rnet)レーザ(図示省略)をマスク21の上方に配置する。
マスク21には、開口部であるスリット21aが複数形成さ
れ、マスク21において２本のスリット21aの間は、幅方
向(矢印Ａ方向)においてトラック幅Ｗを有する遮蔽部21
bとなる。このとき、マスク21は、幅方向において遮蔽
部21bの中心がギャップ形成面11の中心と一致するよう
に位置決めされている。

【００２１】固定治具にセットされたコア半体１の突き
合わせ面２には、図６(a)に示すようにマスク21を介し
てレ−ザ光Ｌが照射される。突き合わせ面２に、マスク
21を介してレーザ光Ｌを照射することにより、突き合わ
せ面２上のレーザ光Ｌの照射領域においてコア半体１を
形成したフェライトが、レーザ強度に対応する除去速度
で表層部側から除去される。ここで、マスク21の遮蔽部
21bがトラック幅Ｗを有することにより、突き合わせ面
２上には、トラック幅Ｗのレーザ光Ｌの非照射領域が形
成され、このレーザ光Ｌの非照射領域の中心は、幅方向
でギャップ形成面11の中心と一致する。この状態で、レ
ーザ光Ｌを突き合わせ面２に所定時間だけ照射すること
により、図６(b)の拡大図において除去部12bが除去され
て、レーザ光Ｌの照射領域間のギャップ形成面11が正確
にトラック幅Ｗになるように高精度に加工される。

【００２２】また、コア半体６も、コア半体１と同様に
図示を省略した固定治具にセットされ、マスク21を介し
てレーザ光Ｌが照射されることにより、ギャップ形成面
11が正確にトラック幅Ｗになるように高精度に加工され
る。

【００２３】突き合わせ面２，７をレーザ光Ｌによって
加工した後、コア半体１，６のそれぞれの突き合わせ面
２，７上には、ギャップ材としてＳiＯ₂からなるガラス
膜(図示省略)をギャップ幅の約１／２の厚さになるよう
に成膜する。そして、一対のコア半体１，６は、それぞ
れのギャップ形成面11が一致するように位置合わせされ
て、図７(a)の斜視図に示すように突き合わせ面２，７
を突き合わせる。この後、コア半体１，６の接合部に溶
融ガラスを充填することにより、凝固したガラス９によ
ってコア半体１とコア半体６とは、一体に接合されてコ
アブロック13となる。このコアブロック13は、図７(a)
に示す破線に沿って切断されることにより、端部を除い
た切断片がヘッドチップとなり、この後、ヘッドチップ
に対して巻線などの公知の工程からなる組立作業が行わ
れて磁気ヘッドが完成する。

【００２４】図７(b)は、図７(a)において２点鎖線によ
って囲まれた領域の拡大した図である。第１実施例の磁
気ヘッドの製造方法によれば、トラック幅Ｗが狭い場合
でも、ギャップ形成面11をトラック幅Ｗになるように高
精度に、かつ容易に加工することが可能になる。

【００２５】具体的には、以上説明した第１実施例又は
第２実施例の磁気ヘッドの製造方法によってコア半体
１，６をレ−ザ加工することにより、ギャップ形成面の
トラック幅Ｗの目標値が20μｍ±0.5μｍに設定されて
いる場合、従来の製造方法では約70％であったコア半体
１，６の歩留まりを、98％にまで向上させることができ
た。また、コア半体１，６を、本実施例のマスク21を用
いないでレーザ加工した場合には、レーザ光Ｌの照射位
置の誤差やレーザ光Ｌの出力変動のなどの影響によって
ギャップ形成面５，11を十分な精度でトラック幅Ｗに加
工することが困難であった。

【００２６】また、以上説明した本実施例の磁気ヘッド
の製造方法は、むろん、他の構造のＭＩＧヘッド、例え
ば特開昭60−231903号公報および特開昭63−302406号公
報に開示された磁気ヘッドや、金属磁性膜を非磁性基板
あるいは酸化物磁性材料で狭持した構造を有した磁気ヘ
ッド、例えば特開昭60−201509号公報および特開昭55−
64619号公報に開示された磁気ヘッドなどにおいても、
ギャップ形成面をトラック幅に加工する際に同様に用い
ることができ、本実施例の場合と同様の効果が得られる
ことはいうまでもない。

【００２７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の第１の磁
気ヘッドの製造方法によれば、マスクを介して照射され
たレーザ光によって突き合わせ面においてレーザ光の照
射領域が除去されて、レーザ光の照射領域間のギャップ
形成面がトラック幅になるように加工されることによ
り、ギャップ形成面のトラック幅として要求される幅が
狭い場合でも、ギャップ形成面を要求されるトラック幅
になるように高精度に、かつ容易に加工することができ
る。

【００２８】また、第２の磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、マスクを介して照射されたレーザ光によって突き合
わせ面においてレーザ光の照射領域が除去されて、レー
ザ光の照射領域間のギャップ形成面がトラック幅になる
ように高精度で加工され、かつギャップ形成面のコーナ
ー部付近に形成された金属磁性膜に、レーザ光の光軸に
対して平行となる平面が形成されることにより、ギャッ
プ形成面のトラック幅として要求される幅が狭い場合で
も、ギャップ形成面を要求されるトラック幅になるよう
に高精度に、かつ容易に加工することができ、さらにギ
ャップ形成面のコーナー部を直交した２平面によって形
成することができ、磁気ヘッドとして組み立てられた状
態で、ギャップ形成面のコーナー部付近にサイドギャッ
プが形成されないので、サイドギャップから磁力線のク
ロスト−クが発生することを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１実施例を
示す工程図である。

【図２】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１実施例を
示す工程図である。

【図３】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１実施例を
示す工程図である。

【図４】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１実施例を
示す工程図である。

【図５】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第２実施例を
示す工程図である。

【図６】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第２実施例を
示す工程図である。

【図７】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第２実施例を
示す工程図である。

【図８】従来の磁気ヘッドの製造方法の一例を示す工程
図である。

【図９】従来の磁気ヘッドの製造方法の一例を示す工程
図である。

【図１０】従来の磁気ヘッドの製造方法の一例を示す工
程図である。

【符号の説明】

１，６…コア半体、 ２，７…突き合わせ面、 ３…巻
線溝、 ４…トラック幅規制溝、 ５，11…ギャップ形
成面、 ５a…コーナー部、 ８…金属磁性膜、８a，12
…除去部、 ９…ガラス、 21…マスク、 21a…スリ
ット、 21b…遮蔽部、 Ｌ…レーザ光。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対のコア半体におけるそれぞれの突き
   合わせ面に、複数の開口部の間にトラック幅に対応する
   幅の遮蔽部を有したマスクを介しレ−ザ光を照射して、
   このレーザ光の照射領域間におけるギャップ形成面を前
   記トラック幅に加工する工程を有することを特徴とする
   磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 酸化物磁性材料によって形成された一対
   のコア半体のそれぞれの突き合わせ面における少なくと
   もギャップ形成面となる領域に金属磁性膜を成膜する工
   程と、前記突き合わせ面に、複数の開口部の間にトラッ
   ク幅に対応する幅の遮蔽部を有したマスクを介しレ−ザ
   光を照射して、このレーザ光の照射領域間における前記
   ギャップ形成面及び金属磁性膜を前記トラック幅に加工
   する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造
   方法。
3. 【請求項３】 前記金属磁性膜の成膜材料として、Ｆe
   ＴaＮ合金及びＣo系アモルファス合金から１つの合金を
   選択することを特徴とする請求項２項記載の磁気ヘッド
   の製造方法。